一种阵列基板及其制作方法、显示面板技术

本发明专利技术实施例公开了一种阵列基板及其制作方法、显示面板。其中，阵列基板，包括：第一基底，以及位于第一基底上的有机平坦化层；其中，有机平坦化层远离第一基底的一侧设置有多个间隔设置的凹槽；沿第一基底的厚度方向，凹槽的深度小于有机平坦化层的厚度；凹槽的底部包括呈第一阵列排布的多个第一凸部和多个第一凹部；第一阵列的任一行中的第一凸部和第一凹部交替排列；第一阵列的任一列中的第一凸部和第一凹部交替排列；沿第一基底的厚度方向，凹槽的侧壁的高度高于凹槽的底部的第一凸部的高度；第一阵列的行方向垂直于第一阵列的列方向。本发明专利技术实施例提供的技术方案可以减少阵列基板及对置基板之间的隔垫物发生滑动的可能性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制作方法、显示面板


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板。

技术介绍

[0002]液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)主要包括阵列基板、彩膜基板、设置在阵列基板及彩膜基板之间且有一定排列方向的液晶层。为了保持阵列基板及彩膜基板之间具有一定的间隙，以保护液晶层，通常在阵列基板及彩膜基板之间的液晶层内部设置一定数量的隔垫物(又称光学间隙子，Photo Spacer，简称PS)，以支撑阵列基板及彩膜基板。
[0003]但是，在薄化、抛光、盖板玻璃贴合、运送等制造程序或任何产品可靠度试验当中，光学间隙子受到外力挤压时，易发生滑动。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，以减少阵列基板及对置基板之间的隔垫物发生滑动的可能性。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括：第一基底，以及位于第一基底上的有机平坦化层；
[0006]其中，有机平坦化层远离第一基底的一侧设置有多个间隔设置的凹槽；沿第一基底的厚度方向，凹槽的深度小于有机平坦化层的厚度；凹槽的底部包括呈第一阵列排布的多个第一凸部和多个第一凹部；第一阵列的任一行中的第一凸部和第一凹部交替排列；第一阵列的任一列中的第一凸部和第一凹部交替排列；沿第一基底的厚度方向，凹槽的侧壁的高度高于凹槽的底部的第一凸部的高度；第一阵列的行方向垂直于第一阵列的列方向。
[0007]进一步地，第一凸部的边缘的厚度沿第一凸部的中间区域指向边缘的方向逐渐减小。
[0008]进一步地，沿第一基底的厚度方向，第一凸部在凹槽的底部的投影的长度小于曝光机的解析力；第一凸部在凹槽的底部的投影的宽度小于曝光机的解析力。
[0009]进一步地，沿第一基底的厚度方向，第一凸部在凹槽的底部的投影包括下述一种或多种：长方形、正方形、圆形、菱形、椭圆、三角形。
[0010]进一步地，沿第一基底的厚度方向，第一凸部在凹槽的底部的投影的形状与第一凹部在凹槽的底部的投影的形状相同；第一凸部在凹槽的底部的投影的面积与第一凹部在凹槽的底部的投影的面积相同。
[0011]进一步地，阵列基板还包括：驱动阵列层和配向层，其中，驱动阵列层和有机平坦化层位于第一基底和配向层之间。
[0012]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种显示面板，包括：对置基板、液晶层和本专利技术任意实施例提供的阵列基板；
[0013]其中，对置基板与阵列基板相对设置；液晶层位于对置基板和阵列基板之间；有机
平坦化层位于液晶层和第一基底之间；对置基板靠近阵列基板的一侧设置有多个隔垫物；隔垫物远离对置基板的一端位于有机平坦化层的凹槽内，并与凹槽内的第一凸部接触。
[0014]进一步地，任一隔垫物远离对置基板的一端设置有多个第二凸部和多个第二凹部；第二凸部位于对应的第一凹部内；第一凸部位于对应的第二凹部内。
[0015]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，包括：
[0016]提供第一基底；
[0017]在第一基底上形成有机平坦化层；
[0018]通过曝光显影工艺，在有机平坦化层远离第一基底的一侧形成多个间隔设置的凹槽，在凹槽的底部形成呈第一阵列排布的多个第一凸部和多个第一凹部；其中，第一阵列的任一行中的第一凸部和第一凹部交替排列；第一阵列的任一列中的第一凸部和第一凹部交替排列；沿第一基底的厚度方向，凹槽的侧壁的高度高于凹槽的底部的第一凸部的高度，沿第一基底的厚度方向，凹槽的深度小于有机平坦化层的厚度；第一阵列的行方向垂直于第一阵列的列方向。
[0019]进一步地，曝光显影工艺中所用掩膜版上与第一凸部对应的第一区域的透光率是均匀相等的。
[0020]本专利技术实施例的技术方案中的阵列基板包括第一基底，以及位于第一基底上的有机平坦化层；其中，有机平坦化层远离第一基底的一侧设置有多个间隔设置的凹槽；沿第一基底的厚度方向，凹槽的深度小于有机平坦化层的厚度；凹槽的底部包括呈第一阵列排布的多个第一凸部和多个第一凹部；第一阵列的任一行中的第一凸部和第一凹部交替排列；第一阵列的任一列中的第一凸部和第一凹部交替排列；沿第一基底的厚度方向，凹槽的侧壁的高度高于凹槽的底部的第一凸部的高度；第一阵列的行方向垂直于第一阵列的列方向。本专利技术实施例通过在阵列基板上设置交替排列的凹凸结构的凹槽，增大了阵列基板和对置基板之间的隔垫物与接触面的粗糙度，使摩擦力增加，以防止隔垫物滑动。
附图说明
[0021]图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部剖面结构示意图；
[0022]图2为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部俯视结构示意图；
[0023]图3为本专利技术实施例提供的一种显示面板的局部剖面结构示意图；
[0024]图4为本专利技术实施例提供的又一种阵列基板的局部剖面结构示意图；
[0025]图5为本专利技术实施例提供的又一种显示面板的局部剖面结构示意图；
[0026]图6为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程图；
[0027]图7为与图6各步骤对应的阵列基板的局部剖面结构示意图；
[0028]图8为本专利技术实施例提供的一种掩膜版的俯视结构示意图。
具体实施方式
[0029]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0030]本专利技术实施例提供一种阵列基板。图1为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局
部剖面结构示意图。图2为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部俯视结构示意图。图3为本专利技术实施例提供的一种显示面板的局部剖面结构示意图。该阵列基板可设置于显示面板中，例如可以是液晶显示面板。该阵列基板100包括：第一基底10，以及位于第一基底10上的有机平坦化层20。
[0031]其中，有机平坦化层20远离第一基底10的一侧设置有多个间隔设置的凹槽21；沿第一基底10的厚度方向Z，凹槽21的深度H1小于有机平坦化层20的厚度D；凹槽21的底部包括呈第一阵列排布的多个第一凸部211和多个第一凹部212；第一阵列的任一行中的第一凸部211和第一凹部212交替排列；第一阵列的任一列中的第一凸部211和第一凹部212交替排列；沿第一基底10的厚度方向Z，凹槽21的侧壁的高度H1高于凹槽21的底部的第一凸部211的高度H2；第一阵列的行方向X垂直于第一阵列的列方向Y。
[0032]其中，第一基底10可包括硬性基底等，例如可以是玻璃基板等。有机平坦化层20可包括光敏性有机材料等。光敏性有机材料可包括基体材料和掺杂在基体材料中的光敏剂。基体材料可为聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯、环烯烃聚合物、聚对苯二甲酸乙二醇酯中的至少一种。光敏剂可为水杨脂酸苯脂和/或重氮萘醌磺酸酯。有机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：第一基底，以及位于所述第一基底上的有机平坦化层；其中，所述有机平坦化层远离所述第一基底的一侧设置有多个间隔设置的凹槽；沿所述第一基底的厚度方向，所述凹槽的深度小于所述有机平坦化层的厚度；所述凹槽的底部包括呈第一阵列排布的多个第一凸部和多个第一凹部；所述第一阵列的任一行中的第一凸部和第一凹部交替排列；所述第一阵列的任一列中的第一凸部和第一凹部交替排列；沿所述第一基底的厚度方向，所述凹槽的侧壁的高度高于所述凹槽的底部的第一凸部的高度；所述第一阵列的行方向垂直于所述第一阵列的列方向。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一凸部的边缘的厚度沿所述第一凸部的中间区域指向边缘的方向逐渐减小。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿所述第一基底的厚度方向，所述第一凸部在所述凹槽的底部的投影的长度小于曝光机的解析力；所述第一凸部在所述凹槽的底部的投影的宽度小于曝光机的解析力。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿所述第一基底的厚度方向，所述第一凸部在所述凹槽的底部的投影包括下述一种或多种：长方形、正方形、圆形、菱形、椭圆、三角形。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿所述第一基底的厚度方向，所述第一凸部在所述凹槽的底部的投影的形状与所述第一凹部在所述凹槽的底部的投影的形状相同；所述第一凸部在所述凹槽的底部的投影的面积与所述第一凹部在所述凹槽的底部的投影的面积相同。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：驱动阵列层和配向层，其中，所述驱动阵列层...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘传，谭纳，
申请(专利权)人：昆山龙腾光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：