一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于有机硅制备技术领域，具体涉及一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置，包括处理罐，处理罐通过底部的基座支撑悬空设置；处理罐上端设置有进液口，进液口伸入处理罐内部设置有布水器；处理罐内部下部通过支撑横向设置有一个多孔板，多孔板与处理罐内壁面密封设置，多孔板上设置有若干个水帽；多孔板上设置有活性炭层；处理罐下端设置有出液口；处理罐侧壁上端和下端分别设置有人孔，处理罐下部设置有人孔，人孔通过端口法兰密封。本实用新型专利技术提供一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置，能够实现聚硅氧烷含氯杂质的去除。聚硅氧烷含氯杂质的去除。聚硅氧烷含氯杂质的去除。

【技术实现步骤摘要】
一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置


[0001]本技术属于有机硅制备
，具体涉及一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置。

技术介绍

[0002]目前，有机硅二甲基二氯硅烷浓酸水解工艺得到的聚硅氧烷中含氯量较高，通过常规处理手段很难将氯含量降到4ppm以下，导致产品反酸现象严重，影响下游产品质量，目前降低聚硅氧烷氯含量的技术有：1、相分离器。2、多级水洗加碱洗。
[0003]相分离器：多为卧式带玻璃纤维等内件的容器，通过内件使分散相聚集而达到产品与含氯水相分离的目的。
[0004]相分离器缺点：除氯效率低、设备成本高、物料流失量大、物料易在相分离器中堵塞。
[0005]多级水洗加碱洗：通过多级逆向水洗加碱洗中和来脱除聚硅氧烷中的酸水，达到除氯的目的。
[0006]多级水洗加碱洗缺点：产生废酸废碱量大、污水处理成本高、物料流失量大、会引入杂质，需增加脱色脱味工序。

技术实现思路

[0007]为了解决上述技术问题，本技术提供一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置，能够实现聚硅氧烷含氯杂质的去除。
[0008]具体技术方案为：一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置，包括处理罐，处理罐通过底部的基座支撑悬空设置；处理罐上端设置有进液口，进液口伸入处理罐内部设置有布水器；处理罐内部下部通过支撑横向设置有一个多孔板，多孔板与处理罐内壁面密封设置，多孔板上设置有若干个水帽；多孔板上设置有活性炭层；
[0009]处理罐下端设置有出液口；出液口外接管道上设置有闸阀。
[0010]处理罐侧壁上端和下端分别设置有人孔，处理罐下部设置有人孔，人孔通过端口法兰密封。
[0011]进一步，所述多孔板与处理罐内壁面焊接设置。
[0012]与传统技术相比：
[0013]（1）通过活性炭箱除氯，可以将聚硅氧烷中的氯含量从15
‑
20ppm降低到4ppm以下。
[0014]（2）活性炭箱除氯的过程中，可以一定程度除去产品中的胶粒与机械杂质。
[0015]（3）减少了相分离器的设备投资、减少了水洗碱洗的废水排放、减少了精馏塔设备投资与能源投资。
[0016]本技术通过一种活性炭箱设备可以较好的吸附聚硅氧烷中的含氯杂质，并一定程度除去产品中的胶粒与机械杂质，提高聚硅氧烷的品质。
附图说明
[0017]图1为本技术的示意图；
[0018]其中：a进液口；b出液口；c人孔；
[0019]1布水器；2水帽；3多孔板；4支撑；5活性炭层；6处理罐。
具体实施方式
[0020]如图1所示的一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置，包括处理罐6，处理罐6通过底部的基座支撑悬空设置；处理罐6上端设置有进液口a，进液口a伸入处理罐内部设置有布水器1；处理罐6内部下部通过支撑横向设置有一个多孔板3，多孔板3与处理罐6内壁面密封设置，多孔板3上设置有若干个水帽2；多孔板3上设置有活性炭层5；
[0021]处理罐下端设置有出液口b；出液口b外接管道上设置有闸阀。
[0022]处理罐6侧壁上端和下端分别设置有人孔c，处理罐下部设置有人孔c，人孔c通过端口法兰密封。人孔c便于人员进行清理和检修。
[0023]进一步，所述多孔板3与处理罐6内壁面焊接设置。
[0024]通过进液口a加入聚硅氧烷水解液，通过布水器1进入处理罐6腔体内部，在活性炭层的吸附过滤作用下，由出液口b排出。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种聚硅氧烷含氯杂质去除装置，其特征在于，包括处理罐，处理罐通过底部的基座支撑悬空设置；处理罐上端设置有进液口，进液口伸入处理罐内部设置有布水器；处理罐内部下部通过支撑横向设置有一个多孔板，多孔板与处理罐内壁面密封设置，多孔板上设置有若干个...

【专利技术属性】
技术研发人员：李加旺，金城，胡明实，张兵，李文静，阮金俊，周万礼，
申请(专利权)人：云南能投硅材科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：