磁头及其制造方法技术

穿过滑动块的倾斜面的第１边界线和第２边界线的假想平面Ｃ与滑动块的支承面Ｓ之间的夹角的值θ１，以及穿过倾斜面的第１边界线和第２边界线的假想平面Ｄ与滑动块的支承面Ｓ之间的夹角的值θ２在５°～１４°的范围内。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有装载于比如，硬磁盘机等上的滑动块的，本专利技术特别是涉及下述，该在于磁头于记录媒体上上浮的状态进行记录和/或再生动作时，可减少上述记录媒体的损伤。
技术介绍
图17为将装载于硬磁盘机等上的已有的磁头的与记录媒体的相对面向上而表示的透视图。在该磁头中，记录媒体的移动方向的上游侧A称为“读侧”，下游侧B称为“后侧”。图17中的标号1表示由陶瓷材料等形成的滑动块，在上述滑动块1的后侧端面B上，设置有磁性记录和/或再生的薄膜元件部6。在上述滑动块1中的与记录媒体的相对面，形成空气凹槽2，按照围绕空气凹槽2的方式形成ABS面3。该ABS面3呈冠状。但是，在图17所示的已有的磁头中，滑动块1中的与记录媒体的相对面的角部1a，1a具有棱角，在磁头与记录媒体接触时等的情况下，具有上述记录媒体容易受到损伤的问题。由此，通过比如，机械加工等方式，使上述滑动块1的角部1a，1a呈倒角状。在过去，在成整体形成多个滑动块1的状态，即在滑动杆的状态，进行上述角部1a，1a的倒角加工。图18为表示滑动杆的状态的局部透视图。如图18所示，在上述滑动杆7的后侧端面B上，形成有多个薄膜元件部6。另外，对上述滑动杆7中的与记录媒体的相对面8，进行空气凹槽2和ABS面3的加工。此外，在各薄膜元件部6之间，形成具有一定深度的槽部9。图19为表示已有的倒角加工方法的正视图。在过去，以一定压力，使固定于夹具10上的滑动杆7的空气槽2和ABS面3的整个表面，与设置于缓冲件K上的研磨用的研磨带R相接触，通过使该夹具10沿X方向和/或Y方向往复滑动，由此，在滑动杆的状态，对上述角部1a，1a进行倒角加工。但是，当进行上述倒角加工时，对于在将倒角加工的加工尺寸设定在什么样的范围内的场合，可有效地降低上述记录媒体的损伤的方面，在过去几乎没有进行分析。另外如果采用上述的过去的倒角加工方法，进行滑动块的倒角加工，则还产生难于使倒角加工的加工精度保持一定的问题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述已有的课题而提出的，本专利技术的目的在于提供一种下述，其中上述滑动块中的与记录媒体的相对面的角部的倒角加工尺寸位于下述范围内，在该范围中，可降低磁头与记录媒体接触时等情况下的记录媒体的损伤，并且可使倒角加工的误差很少。本专利技术涉及下述磁头，该磁头包括滑动块，该滑动块具有与记录媒体相对的相对面，形成支承侧的支承面，后侧与读侧的各端面；设置于上述滑动块的后侧的磁性记录和/或再生用的元件部，其特征在于在上述相对面的后侧的端部与读侧的端部中的至少1个上，形成有倾斜面或曲面，该倾斜面或曲面在其与上述相对面之间，具有第1边界线，在其与上述端面之间，具有第2边界线，包含上述第1边界线和第2边界线的假想平面与上述支承面之间的夹角在5°～14°的范围内。按照本专利技术，如果在设置于滑动块上的，与记录媒体的相对面的后侧端部和/或读侧端部上，形成有倾斜面或曲面时，使包含上述第1边界线和第2边界线的假想平面与上述滑动块的支承面之间的夹角在5°～14°的范围内时，则可降低所形成的磁头与记录媒体接触时等情况下的记录媒体的损伤，可使倒角加工的误差很小。另外，由于当包含上述第1边界线和第2边界线的假想平面与上述滑动块的支承面之间的夹角θ在5°≤θ≤8°的范围内时，可完全防止磁头与记录媒体接触时等情况下的记录媒体的损伤，故最好采用该数值范围。此外，按照本专利技术，最好在上述滑动杆中的与记录媒体的相对面的表面上，形成保护膜。还有，由于当形成于上述后侧端部的倾斜面或曲面的第1边界线相对上述元件部的间隙部，位于后侧的端面侧时，可防止上述元件部的损伤，故最好采用该方式。再有，由于当在上述相对面上，形成台阶，通过该台阶而位于上述相对面侧的最高位置的面为承受来自上述记录媒体上的空气流的上浮力的ABS面，上述元件部的间隙部位于上述ABS面的区域内时，在记录和再生的场合，可将上述元件部最靠近上述记录媒体，故最好采用该方式。上述第1边界线也可形成于上述倾斜面或曲面与上述ABS面的边界上。另外，由于当形成于上述后侧的端部的倾斜面或曲面的第1边界线相对形成上述ABS面的台阶，位于读侧的端面侧时，可避免上述倾斜面或曲面对磁头的上浮特性造成影响，故最好采用该方式。按照本专利技术，上述第1边界线按照朝向上述滑动块的宽度方向呈直线状或曲线状延伸的方式形成。此外，本专利技术涉及一种磁头的制造方法，该磁头包括滑动块，该滑动块具有与记录媒体相对的相对面，形成支承侧的支承面，后侧与读侧的各端面；设置于上述滑动块的后侧的磁性记录和/或再生用的元件部，该方法包括下述步骤(a)在后侧端面上，形成形成有多个元件部的滑动杆；(b)将上述滑动杆中的相对面的后侧的角部与研磨加工面接触，将上述滑动杆的支承面与研磨加工面之间的夹角设定在5°～14°的范围内，使该滑动杆沿一定方向往复滑动，在上述后侧的角部，形成倾斜面；(c)将上述滑动杆分别设置于各自具有上述元件部的相应滑动块上。在上述(b)的步骤后，还具有下述步骤(d)，即将上述滑动杆中的相对面的读侧的角部与研磨加工面接触，将上述滑动杆的支承面与研磨加工面之间的夹角设定在5°～14°的范围内，使该滑动杆沿一定方向往复滑动，在上述后侧的角部，形成倾斜面。按照本专利技术，由于在上述滑动块的后侧和/或读侧的角部上，形成平齐的倾斜面，故可容易抑制制造阶段的倾斜面的倾角或深度的加工尺寸的误差。还有，最好在上述(b)和/或(c)的步骤中，将上述滑动杆的支承面与研磨加工面之间的夹角固定在5°～14°的范围内。当将上述滑动杆的支承面与研磨加工面之间的夹角固定在5°～14°的范围内，对上述滑动杆的角部进行研磨时，包含位于形成于所获得的滑动块的后侧和/或读侧的角部的倾斜面与上述相对面之间的第1边界线，与位于上述倾斜面与上述端面之间的第2边界线的假想平面与上述滑动块的支承面之间的夹角的值在5°～14°的范围内。因此，可降低所形成的磁头与记录媒体接触时等情况下的记录媒体的损伤，并且可使倒角加工的误差很小。再有，如果在上述滑动杆的支承面与上述研磨加工面之间的夹角固定在5°～8°的范围内的状态，使上述滑动杆往复滑动，则包含位于形成于所获得的滑动块的后侧和/或读侧的角部的倾斜面与上述相对面之间的第1边界线，与位于上述倾斜面与上述端面之间的第2边界线的假想平面与上述滑动块的支承面之间的夹角的值也在5°～8°的范围内。因此，最好采用该数值范围，以便还可完全防止所形成的磁头与记录媒体接触时等情况下的记录媒体的损伤。另外，如果在上述滑动杆的支承面与上述研磨加工面之间的夹角固定在5°～14°的范围内的状态，使上述滑动杆往复滑动，则可降低用于形成上述倾斜面的滑动杆的总往复滑动距离，加工性提高。另外，在上述滑动杆的支承面与上述研磨加工面之间的夹角固定在5°～8°的范围内的状态，如果使上述滑动杆往复移动，则可使加工性进一步提高，故最好采用该方式。在上述(b)和/或(c)的步骤中，既可使上述滑动杆沿与其纵向相平行的方向往复滑动，也可使上述滑动杆沿与其纵向相垂直的方向往复滑动。如果使上述滑动杆往复滑动的方向，为与上述滑动杆的纵向相平行的方向，则形成于所获得的滑动件的后侧端部和/或读侧端部的倾斜面和相对面的第1边界线，朝向上述滑动杆的宽度方向呈直线状或曲线状延伸本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁头，其包括滑动块，该滑动块具有与记录媒体相对的相对面，形成支承侧的支承面，后侧与读侧的各端面；设置于上述滑动块的后侧的磁性记录和／或再生用的元件部，其特征在于： 在上述相对面的后侧的端部与读侧的端部中的至少１个上，形成有倾斜面或曲面，该倾斜面或曲面在其与上述相对面之间，具有第１边界线，在其与上述端面之间，具有第２边界线，包含上述第１边界线和第２边界线的假想平面与上述支承面之间的夹角在５°～１４°的范围内。

【技术特征摘要】
JP 2000-8-30 261029/001.一种磁头，其包括滑动块，该滑动块具有与记录媒体相对的相对面，形成支承侧的支承面，后侧与读侧的各端面；设置于上述滑动块的后侧的磁性记录和/或再生用的元件部，其特征在于在上述相对面的后侧的端部与读侧的端部中的至少1个上，形成有倾斜面或曲面，该倾斜面或曲面在其与上述相对面之间，具有第1边界线，在其与上述端面之间，具有第2边界线，包含上述第1边界线和第2边界线的假想平面与上述支承面之间的夹角在5°～14°的范围内。2.根据权利要求1所述的磁头，其特征在于在上述相对面上，形成保护膜。3.根据权利要求1所述的磁头，其特征在于形成于上述后侧的端部的倾斜面或曲面的第1边界线相对上述元件部的间隙部，位于后侧的端面侧。4.根据权利要求1所述的磁头，其特征在于在上述相对面上，形成台阶，通过该台阶而位于上述相对面侧的最高位置的面为承受来自上述记录媒体上的空气流的上浮力的ABS面，上述元件部的间隙部位于上述ABS面的区域内。5.根据权利要求4所述的磁头，其特征在于上述第1边界线形成于上述倾斜面或曲面与上述ABS面的边界上。6.根据权利要求4所述的磁头，其特征在于形成于上述后侧的端部的倾斜面或曲面的第1边界线相对形成上述ABS面的台阶，位于读侧的端面侧。7.根据权利要求1所述的磁头，其特征在于上述第1边界线朝向上述滑动块的宽度方向呈直线状或曲线状延伸。8.一种磁头的制造方法，该磁头包括滑动块，该滑动块具有与记录媒体相对的相对面，形成支承侧的支承面，...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩崎纯，
申请(专利权)人：阿尔卑斯电气株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]