一种搪瓷底釉生产系统技术方案

一种搪瓷底釉生产系统，包括预处理装置、储料装置，混料装置、焙烧装置、水淬装置以及烘干装置，所述预处理装置用于处理废稀土抛光粉，所述储料装置用于储藏除废稀土抛光粉外的原料，所述预处理装置和储料装置均与所述混料装置连接，所述焙烧装置包括熔炉组，每个熔炉组均包括两个依次连接的第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉，其中第一熔炉的进料口与所述混料装置的出料口连接，第三熔炉的出料口与所述水淬装置连接，水淬装置与所述烘干装置连接。本实用新型专利技术所述的搪瓷底釉生产系统，其能将非稀土抛光粉应用于制备搪瓷底釉，设备利用率高，焙烧温度控制精准，制备得到的搪瓷底釉针眼和气泡的发生率显著降低。泡的发生率显著降低。泡的发生率显著降低。

【技术实现步骤摘要】
一种搪瓷底釉生产系统


[0001]本技术涉及搪瓷底釉生产
，具体为一种搪瓷底釉生产系统。

技术介绍

[0002]近年来，随着手机的快速普及、更新换代和平板显示屏以及汽车中控屏的广泛使用，每年产生的废稀土抛光粉固体废料超过10万吨，并逐年增多，其中对稀土含量高的废抛光粉，本公司已申请专利(申请号为201811404138.2，一种从废稀土抛光粉中提取铝、氧化硅和稀土的方法)，该方法主要将高含量的废稀土抛光粉中的稀土充分回收从而产生价值。但在生产实践中，有一部分低含量的废稀土抛光粉，这部分低含量废抛光粉对应的氧化硅含量50～ 70％，氧化铝含量15～20％，稀土氧化物5～15％，这类废稀土抛光粉若清洗干净后售卖每吨盈利在300～500元，价格低廉，处理成本高，然而这种粒度细杂质少，硅含量高而稀土含量低的废稀土抛光粉，若继续做成申请号 201811404138.2中的氧化硅研磨粉，则面临产品销路和生产成本偏高的问题，而这部分抛光粉通过公司的技术加工可处理成氧化硅含量85～92％、氧化铝含量0.5～1％、二氧化铈和氟化镧合计占比为5～10％的产品，而这些产品如何进一步应用并提高其经济价值是个难题。
[0003]因此，一方面搪瓷底釉市场需求空间大而质量有待提高，另一方面废稀土抛光粉回收难，而现有技术中未有将废稀土抛光粉应用于搪瓷底釉制备的报道，究其原因在于，废稀土抛光粉成分复杂，应用于搪瓷底釉加工后其密着性问题、针眼问题等更加难以解决，因此，本技术旨在开发一种全新的、利用废稀土抛光粉制备搪瓷底釉的生产系统，以解决废稀土抛光粉回收难问题的同时解决搪瓷底釉针眼和气泡发生率高的难题，进一步实现规模化生产和推广。

技术实现思路

[0004]本技术所解决的技术问题在于提供一种搪瓷底釉生产系统，以解决上述
技术介绍
中的缺点。
[0005]本技术所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：
[0006]一种搪瓷底釉生产系统，包括预处理装置、储料装置，混料装置、焙烧装置、水淬装置以及烘干装置，所述预处理装置用于处理废稀土抛光粉，所述储料装置用于储藏除废稀土抛光粉外的原料，所述预处理装置和储料装置均与所述混料装置连接，所述焙烧装置包括熔炉组，每个熔炉组均包括两个依次连接的第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉，其中第一熔炉的进料口与所述混料装置的出料口连接，第三熔炉的出料口与所述水淬装置连接，水淬装置与所述烘干装置连接。
[0007]进一步地，所述预处理装置包括依次连接的研磨装置和筛分装置，所述筛分装置通过输料管与所述混料装置连接，输料管上设置有阀门。
[0008]进一步地，所述混料装置包括基座以及设置于基座上的搅拌桶，搅拌桶设置有搅拌叶，搅拌叶顶部连接升降臂，所述升降臂底部固定于基座上。
[0009]进一步地，所述基座底部设置有重量传感器。
[0010]进一步地，所述熔炉组的数量为多个，每个熔炉组中的第一熔炉的进料口均通过进料管与所述混料装置的出料口连接，所述进料管上同样设置有阀门。
[0011]进一步地，所述第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉间的输料管上设置有保温层。
[0012]进一步地，所述水淬装置为长条槽形结构，多个所述第三熔炉对应于同一个所述水淬装置，所述水淬装置上设置有与第三熔炉个数对应的检测装置，检测装置用于检测第三熔炉中得到的熔融体是否合格。
[0013]进一步地，所述检测装置与所述烘干装置通过输送带连接。
[0014]有益效果：本技术开发了一种全新的利用废稀土抛光粉制备搪瓷底釉的生产系统，其适合批量化生产和控制，容易实现产业化推广，此外，本技术能充分利用废稀土抛光粉，将废稀土抛光粉预处理后应用于搪瓷底釉的生产加工，通过系统中各装置的配合而使最终产品的针眼和气泡发生率显著降低，具有很好的推广应用价值。
附图说明
[0015]图1为本技术较佳实施例的示意图。
[0016]其中：1、研磨装置；2、储料装置；3、筛分装置；4、混料装置；41、搅拌桶；42、搅拌叶；43、基座；44、升降臂；5、焙烧装置；51、第一熔炉； 52、第二熔炉；53、第三熔炉；6、水淬装置；7、检测装置；8、烘干装置。
具体实施方式
[0017]为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本技术。
[0018]参见图1的一种搪瓷底釉生产系统的较佳实施例，包括预处理装置、储料装置2，混料装置4、焙烧装置5、水淬装置6以及烘干装置8，其中预处理装置用于处理废稀土抛光粉，废稀土抛光粉为经过处理的氧化硅含量85～ 92％、氧化铝含量0.5～1％、稀土氧化物含量5～10％的原料，预处理装置包括依次连接的研磨装置1和筛分装置3，研磨装置1用于将废稀土抛光粉磨细，而筛分装置3用于筛分得到粒径小于0.15mm的颗粒。筛分装置3通过输料管与混料装置4连接，输料管上设置有阀门，储料装置2用于储藏除废稀土抛光粉外的其它原料，其它原料包括氧化铝、氧化硼、氧化钾、氧化钠、氟化钙、氧化镍和氧化锰，储料装置2也与混料装置4连接，混料装置4包括基座43以及设置于基座43上的搅拌桶41，搅拌桶41内设置有搅拌叶42，搅拌叶42顶部连接升降臂44，升降臂44底部固定于基座43上，基座43底部设置有重量传感器，因此在混料前，先将储料装置2中的物料输入混料装置4 中，然后将经过筛分的20～40％的废稀土抛光粉原料通过输料管加入搅拌桶41 后关闭阀门，搅拌10～20min后，得到第一混合料，第一混合料的均匀度大于或等于97％，然后开启阀门继续加入剩余的废稀土抛光粉原料，搅拌桶41继续搅拌而得到第二混合料，第二混合料的均匀度大于或等于95％，升降臂44 上设置有驱动搅拌叶42转动的电机，搅拌叶42搅拌过程中升降臂44可带动搅拌叶42在搅拌过程中上下升降，从而使搅拌更为充分。
[0019]焙烧装置5包括熔炉组，每个熔炉组均包括两个依次连接的第一熔炉51、第二熔炉52和第三熔炉53，其中第一熔炉51的进料口与混料装置4中搅拌桶41的出料口连接，第三熔
炉52的出料口与水淬装置6连接，水淬装置与烘干装置8连接。具体的，熔炉组的数量为多个，本实施例中熔炉组的数量为3个，每个熔炉组中的第一熔炉51的进料口均通过进料管与混料装置4中搅拌桶41的出料口连接，进料管上同样设置有阀门，由于焙烧的时间长于混料的时间，因此，通过设置多组熔炉组，可减少混料装置4的空置时间，提高利用率，进而提高整个系统的产量。而第一熔炉51、第二熔炉52和第三熔炉53间的输料管上设置有保温层，保温层可减少物料的温度散失，其中第一熔炉51用于将焙烧温度以8℃/min的速度进行升温，然后在400℃的温度下保温焙烧1h，而第二熔炉52用于将焙烧温度以5℃/min的速度进行升温，然后在950℃的温度下保温焙烧1h；第三熔炉53用于将焙烧温度以3℃/min 的速度进行升温，然后在1300℃的温度下保温焙烧40min，将不同的焙烧过程采用不同的熔炉本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种搪瓷底釉生产系统，其特征在于，包括预处理装置、储料装置，混料装置、焙烧装置、水淬装置以及烘干装置，所述预处理装置用于处理废稀土抛光粉，所述储料装置用于储藏除废稀土抛光粉外的原料，所述预处理装置和储料装置均与所述混料装置连接，所述焙烧装置包括熔炉组，每个熔炉组均包括两个依次连接的第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉，其中第一熔炉的进料口与所述混料装置的出料口连接，第三熔炉的出料口与所述水淬装置连接，水淬装置与所述烘干装置连接。2.根据权利要求1所述的搪瓷底釉生产系统，其特征在于，所述预处理装置包括依次连接的研磨装置和筛分装置，所述筛分装置通过输料管与所述混料装置连接，输料管上设置有阀门。3.根据权利要求1所述的搪瓷底釉生产系统，其特征在于，所述混料装置包括基座以及设置于基座上的搅拌桶，搅拌桶设置有搅拌叶，搅拌叶顶部连接升降臂...

【专利技术属性】
技术研发人员：粟鑫，解付兵，欧阳书径，陈人可，刘守龙，刘宜德，翟海军，刘力玮，曹莹，
申请(专利权)人：湖南景翌湘台环保高新技术开发有限公司，
类型：新型
国别省市：