本发明专利技术提供了一种珍珠釉墨水、珍珠釉陶瓷砖及其制备方法，涉及陶瓷砖技术领域。该珍珠釉墨水主要由特定种类以及用量的珍珠釉料、分散剂和有机溶剂制成，该珍珠釉墨水具有良好的稳定性以及易于控制的触变性，且珍珠釉墨水为油性，可满足后续珍珠釉陶瓷砖制备过程中喷墨打印的需求。本发明专利技术还提供了珍珠釉陶瓷砖的制备方法，通过先在坯体表面上依次形成底釉层和印花层，再将上述珍珠釉墨水通过喷墨打印方式在坯体的印花层上形成珍珠釉层，然后在珍珠釉层上形成抛釉层后烧成，半抛，得到珍珠釉陶瓷砖；其中，该珍珠釉陶瓷砖通过油性珍珠釉层与抛釉层的相互融合，并利用两者之间的光泽度差，从而可呈现特殊的多彩光色的珍珠视觉效果。果。果。
【技术实现步骤摘要】
珍珠釉墨水、珍珠釉陶瓷砖及其制备方法
[0001]本专利技术涉及陶瓷砖术领域，尤其是涉及一种珍珠釉墨水、珍珠釉陶瓷砖及其制备方法。
技术介绍
[0002]目前，市面上现有的珍珠釉面砖大部分是仿古砖，作为墙砖或地砖的珍珠釉面砖极少。而有些客户认为仿古砖不够透亮，作为地砖效果不好。为满足这部分市场需求，需要开发一种可用于墙砖或地砖的珍珠釉面砖。
[0003]在现有的陶瓷生产中，釉面砖要达到珍珠釉面效果可在喷墨印花后进行干粒喷洒，来实现在有光面釉底层体现珍珠效果；或者，将珍珠釉料加水进行湿法球磨，得到珍珠釉水后再通过淋釉器进行喷釉。而目前的方法生产珍珠釉面砖主要存在以下问题：工作繁锁，劳动强度大，对水柜技术要求高，喷洒时容易堵水柜喷枪，生产缺陷多，而且在需要调整珍珠釉效果时不方便，操作成本大；而采用淋釉，淋釉克数会随着外界温度的不同而发生变化，也可能由于釉的触变造成克数变化。另外，淋釉时容易造成釉路、釉屎、釉蛋等问题，从而造成产品降级。
[0004]有鉴于此，特提出本专利技术以解决上述技术问题中的至少一个。
技术实现思路
[0005]本专利技术的第一目的在于提供一种珍珠釉墨水以解决上述技术问题中的至少一种。
[0006]本专利技术的第二目的在于提供上述珍珠釉墨水的制备方法。
[0007]本专利技术的第三目的在于提供一种珍珠釉陶瓷砖。
[0008]本专利技术的第四目的在于提供上述珍珠釉陶瓷砖的制备方法。
[0009]为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：<br/>[0010]本专利技术提供了一种珍珠釉墨水，主要由珍珠釉料、有机溶剂和分散剂制成；
[0011]所述珍珠釉料包括以下重量份数的组分：
[0012]SiO
2 56～60份，Al2O
3 11～13份，K2O 1.5～3.5份，Na2O 1.5～3.0份，TiO
2 0.01～0.05份，ZrO
2 0.05～0.6份，Fe2O
3 0.20～0.50份，MgO 1.0～3.0份，CaO 8.0～11.0份，BaO 0.2～1.5份，SrO 0.80～3.0份，ZnO 4～8份和稀有金属8～20份，其中，所述稀有金属包括铈、锶、铬和钕；
[0013]所述有机溶剂包括正丁醇和/或丙二醇甲醚；
[0014]所述分散剂包括三聚磷酸钠和/或磷酸钠。
[0015]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础上，所述珍珠釉料、分散剂和有机溶剂的质量比为(25～40)：(30～45)：(30～45)。
[0016]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础上，所述稀有金属中铈、锶、铬和钕的质量比为(2～5)：(2～5)：(2～5)：(2～5)；
[0017]优选的，所述珍珠釉料的粒径范围为100
‑
500nm。
[0018]本专利技术还提供了上述珍珠釉墨水的制备方法，包括以下步骤：
[0019]将珍珠釉料、有机溶剂和分散剂混合，得到珍珠釉墨水。
[0020]本专利技术还提供了一种珍珠釉陶瓷砖的制备方法，采用上述珍珠釉墨水作为珍珠釉陶瓷砖原料中的至少一种，包括以下步骤：
[0021](a)在坯体表面上依次形成底釉层和印花层；
[0022](b)将所述珍珠釉墨水通过智能喷墨打印方式在所述坯体的印花层上形成珍珠釉层；
[0023](c)在所述坯体的珍珠釉层上形成抛釉层，得到施釉坯体；
[0024](d)将施釉坯体进行烧成，半抛，得到珍珠釉陶瓷砖。
[0025]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础上，步骤(b)中，采用喷墨打印机喷印珍珠釉墨水以在所述坯体的印花层上形成珍珠釉层；
[0026]优选的，通过控制珍珠釉墨水的喷印位置和/或喷印量以调整珍珠釉墨水在所述印花层上的分布。
[0027]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础上，步骤(a)中，用于形成底釉层的底釉包括以下重量份数的组分：
[0028]SiO
2 55～70份，Al2O
3 20.3～40份，Fe2O
3 0.1～0.2份，TiO
2 0.01～0.15份，ZrO
2 0.05～0.15份，CaO 1.5～2.0份，MgO 1.3～1.6份，K2O 1.3～1.7份，Na2O 2.8～3.2份，ZnO 0.4～076份，P2O
5 0.1～0.2份；
[0029]优选的，所述底釉的釉比重为1.9～2.0g/cm3，流速为35～40秒，施釉量为400～800g/m2；
[0030]优选的，所述印花层的印花方式包括喷墨印花、辊筒印花或丝网印花中的任意一种或至少两种的组合。
[0031]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础上，步骤(c)中，用于形成抛釉层的抛釉包括以下重量份数的组分：
[0032]SiO
2 45～55份，Al2O
3 2～8份，K2O 2.0～3.5份，Na2O 2.0～3.0份，TiO
2 0.05～0.11份，ZrO
2 0.01～0.10份，Fe2O
3 0.20～0.25份，P2O
5 0.10～0.15份，MgO 3.5～6份，CaO 5.3～7.0份，BaO 7.5～8.5份，SrO 0.30～0.50份和ZnO 5.5～15份。
[0033]进一步的，在本专利技术上述技术方案的基础上，步骤(d)中，所述烧成的温度为1150
‑
1165℃，烧成的时间为60
‑
90min；
[0034]优选的，施釉坯体经烧成后的光泽度为28
°
～35
°
。
[0035]优选的，所述半抛采用弹性光刷模块；
[0036]优选的，抛光目数为400
‑
800目。
[0037]本专利技术还提供了一种珍珠釉陶瓷砖，采用上述珍珠釉陶瓷砖的制备方法制得。
[0038]与现有技术相比，本专利技术的有益效果如下：
[0039](1)本专利技术提供了一种珍珠釉墨水，主要由珍珠釉料、分散剂和有机溶剂制成，其中，特定种类以及用量的珍珠釉料与有机溶剂和分散剂相互配合，可使得该珍珠釉墨水具有良好的稳定性以及易于控制的触变性。同时，该珍珠釉墨水为油性，可满足后续珍珠釉陶瓷砖制备过程中喷墨打印的需求。另外，该珍珠釉墨水可使得采用其制备的珍珠釉陶瓷砖呈现多彩光色，具有特殊的珍珠视觉效果。
[0040](2)本专利技术还提供了上述珍珠釉墨水的制备方法，该制备方法操作简便，工艺稳定，适合工业化规模生产。
[0041](3)本专利技术提供了一种珍珠釉陶瓷砖的制备方法，通过先在坯体表面依次形成底釉层和印花层，再将上述珍珠釉墨水通过喷墨打印方式在坯体的印花层上形成珍珠釉层，然后在珍珠釉层上形成抛釉层后烧成，半抛，得到珍珠釉陶瓷砖；其中，采用特定种类且油性的珍珠釉墨水并通过喷墨打印方式形成珍珠釉层，可实现油性珍珠釉层与抛釉层本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种珍珠釉墨水，其特征在于，主要由珍珠釉料、分散剂和有机溶剂制成；所述珍珠釉料包括以下重量份数的组分：SiO
2 56～60份，Al2O
3 11～13份，K2O 1.5～3.5份，Na2O 1.5～3.0份，TiO
2 0.01～0.05份，ZrO
2 0.05～0.6份，Fe2O
3 0.20～0.50份，MgO 1.0～3.0份，CaO 8.0～11.0份，BaO 0.2～1.5份，SrO 0.80～3.0份，ZnO 4～8份和稀有金属8～20份，其中，所述稀有金属包括铈、锶、铬和钕；所述分散剂包括三聚磷酸钠和/或磷酸钠；所述有机溶剂包括正丁醇和/或丙二醇甲醚。2.根据权利要求1所述的珍珠釉墨水，其特征在于，所述珍珠釉料、分散剂和有机溶剂的质量比为(25～40)：(30～45)：(30～45)。3.根据权利要求1或2所述的珍珠釉墨水，其特征在于，所述稀有金属中铈、锶、铬和钕的质量比为(2～5)：(2～5)：(2～5)：(2～5)；优选的，所述珍珠釉料的粒径范围为100
‑
500nm。4.权利要求1
‑
3任一项所述的珍珠釉墨水的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将珍珠釉料、有机溶剂和分散剂混合，得到珍珠釉墨水。5.一种珍珠釉陶瓷砖的制备方法，其特征在于，采用权利要求1
‑
3任一项所述的珍珠釉墨水作为珍珠釉陶瓷砖原料中的至少一种，包括以下步骤：(a)在坯体表面上依次形成底釉层和印花层；(b)将所述珍珠釉墨水通过智能喷墨打印方式在所述坯体的印花层上形成珍珠釉层；(c)在所述坯体的珍珠釉层上形成抛釉层，得到施釉坯体；(d)将施釉坯体进行烧成，半抛，得到珍珠釉陶瓷砖。6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤(b)中，采用智能喷墨打印机喷印珍珠釉墨水以在所述坯体的印花层上形成珍珠釉层；优选的，通过控制珍珠釉墨水的喷印位置和/或喷印量以调整珍珠釉墨水在所述印花层上的分布。7.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖鑫，邓丽君，李辉，韦前，叶德林，
申请(专利权)人：广东新明珠陶瓷集团有限公司广东萨米特陶瓷有限公司佛山市三水新明珠建陶工业有限公司湖北新明珠绿色建材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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