光记录介质制造技术

一种光记录介质，在基板上依次设有光反射层、记录层和覆盖层，通过自该覆盖层侧照射波长４５０ｎｍ以下的激光进行记录和再现，其特征在于，该光记录介质在上述记录层和上述覆盖层之间还设有厚度１ｎｍ以上８０ｎｍ以下的溅射层，用粘结剂将该溅射层和上述覆盖层粘接。从而提供一种高密度且具有优良记录特性的补充记录型光记录介质。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及具有由有机化合物构成的记录层，用特定波长的激光能够进行记录和再现的补充记录型光记录介质。作为这些补充记录型光记录介质的一种结构，已知在园盘状基板上依次层叠由Au等组成的光反射层、有机化合物组成的记录层、以及含有使之粘接在该记录层上用的粘接层的树脂层(以下有时适当称为覆盖层)。通过从上述树脂层侧照射激光，可以进行记录和再现。补充记录型光记录介质上的信息记录，可以通过记录层的激光照射部分吸收该光线而局部发热变形(例如形成凹坑等)进行。另一方面，信息的再现通常通过将与记录用激光波长相同的激光照射在补充记录型光记录介质上，检测出记录层发热变形部位(记录部分)与未变形部分(未记录部分)的反射率差异进行。最近，因特网等网络和高画质TV迅速普及。另外，HDTV(高清晰度电视，High Definition Television)的放映也接近开始。在这种状况下，需要一种能简便、廉价地记录图像信息的大容量光记录介质。上述DVD-R现在充分起着大容量记录介质的作用，但是大容量化、高密度化的要求提高，另一方面，也需要开发出能适应这些要求的记录介质。因此，人们正在开发一种能用更短波长的光线进行高密度记录的更大容量的记录介质。特别是仅能记录一次信息的补充记录型光记录介质，由于作为大容量信息的长期保存或备份用的使用频率正在提高，所以对其开发的要求强烈。光记录介质的高密度化，通常可以通过使记录和再现用激光短波长化、使物镜高NA化，从而减小电子束光点而实现。最近以来，迅速进行了从波长680nm、650nm和635nm的红色半导体激光器至能进行更超高密度记录的波长400～500nm的蓝紫色半导体激光器(以下称为蓝紫色激光器)的开发，而且还进行了与之相对应的光记录介质的开发。特别是自从蓝紫色激光器出售以来，人们研究开发了一种利用该蓝紫色激光器和高NA备份的光记录系统，具有相变化记录层的改写型光记录介质和光记录系统已经作为DVR系统(《ISOM2000》210～211页)发表。这样，对于改写型光记录介质的高密度化课题，已经获得一定成果。利用上述那种蓝紫色激光器和高NA备份的光记录系统中使用的光记录介质在向记录层照射蓝紫色激光时，为了使高NA物镜焦点吻合，优选使激光入射的覆盖层薄层化。其中，作为覆盖层，例如使用薄的薄膜，用粘结剂将其粘接在记录层上。覆盖层的厚度通常包括粘结剂固化形成的粘接层在内约为100μm，可以利用照射的激光波长或NA使之最适化。然而，通过利用蓝紫色激光器和高NA备份的光记录系统能进行记录和再现的补充记录型光记录介质中，记录层中使用有机化合物时，存在不能得到充分的记录特性的问题。其原因虽然尚不清楚，但是据推测是因为记录层中的有机化合物溶解在粘接层内的粘结剂中，因而在上述记录层中产生微小不均而造成的。更详细的本专利技术目的可以利用以下方法实现。<1>一种光记录介质，基板上依次设有光反射层、记录层和覆盖层，通过从该覆盖层侧照射波长450nm以下的激光从而进行记录和再现，其特征在于，该光记录介质在上述记录层和上述覆盖层之间还设有厚度1nm以上80nm以下的溅射层，用粘结剂将该溅射层和上述覆盖层粘接。<2>如<1>所述的光记录介质，其特征在于，上述溅射层的厚度在2nm以上50nm以下。<3>如<1>或<2>所述的光记录介质，其特征在于，上述溅射层由Si、Zn、Ag、Al、Ti、Sn或Ge单质或其化合物构成。<4>如<1>～<3>中任意一项所述的光记录介质，其特征在于，上述记录层含有在400nm以下有极大吸收波长的有机化合物。其中，10-基板，20-光反射层，30-记录层，40-溅射层，50-覆盖层，100-光记录介质，200-物镜。附图说明图1是表示本专利技术光记录介质100的例示实施方式的剖面示意图。如图1所示，光记录介质100具有在基板10上依次层叠了光反射层20、记录层30、溅射层40和覆盖层50的结构。另外，本专利技术的光记录介质100必要时还可以包含其他层。以下就构成本专利技术光记录介质100的各要素进行详细说明。另外，本专利技术的光记录介质100能够利用具有450nm以下波长的激光进行记录和再现。<基板> 基板10可以由例如玻璃，聚碳酸酯，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂，聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯系树脂，环氧树脂，无定形聚烯烃和聚酯等材料制成。上述材料根据需要也可以合并使用。其中，从耐湿性、尺寸稳定性和价格等方面考虑优选聚碳酸酯。基板10的厚度一般在0.4～1.5mm的范围内，优选在1.1～1.3mm的范围内。在基板10表面上，优选形成跟踪用槽或表现地址信号等信息的凹凸(预槽)。优选在将聚碳酸酯等树脂材料注塑成型或挤压成型时直接在基板上形成这种预槽。另外，预槽的形成也可以通过设置预槽层进行。作为预槽层的材料，可以使用丙烯酸的单酯、二酯、三酯及四酯中的至少一种单体(或低聚物)和光聚合引发剂的混合物。预槽层的形成例如可以通过首先在精密制造的母模(stamper，原模)上涂布上述丙烯酸酯和聚合引发剂组成的混合液，进而将基板10置于此涂布液层上后，通过基板10或母模照射紫外线，使涂布层固化，使基板与涂布层凝固附着。接着，从母模上剥离基板从而可以得到。预槽层的厚度一般处于0.01～100μm的范围内，优选处于0.05～50μm的范围内。为了获得更高的记录密度，基板10优选采用形成了比CD-R或DVD-R磁道间距更窄的预槽的基板。基板10预槽的磁道间距为100～600nm。另外，预槽的深度优选处于20～150nm的范围内，其半值宽度优选处于50～250nm的范围内。因此，本专利技术的光记录介质由于具有高感光度，所以即使用低激光器功率也能进行记录，从而具有可以使用价格低廉的激光器或者能够延长激光器使用寿命等优点。另外，为了改善平面性和提高粘着力，优选在后述的设置光反射层20一侧的基板表面上形成底涂层。作为该底涂层的材料，可以举出例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸—甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯—马来酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羟甲基丙烯酰胺、苯乙烯—乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝化纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、醋酸乙烯酯—氯乙烯共聚物、乙烯—醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物质，硅烷偶合剂等表面改质剂。将上述材料溶解或分散在适当溶剂中制成涂布液后，用旋转涂覆法、浸涂法、挤压涂布法等涂布方法将此涂布液涂布在基板表面上，从而可以形成底涂层。底涂层的厚度一般处于0.005～20μm的范围内，优选处于0.01～10μm的范围内。<光反射层> 光反射层20是为了提高信息再现时的反射率而设置的。作为光反射层20材料的光反射性物质，是对激光的反射率处于70％以上的物质，其具体实例可以举出例如Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、I本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光记录介质，在基板上依次设有光反射层、记录层和覆盖层，通过从该覆盖层侧照射波长４５０ｎｍ以下的激光进行记录和再现，其特征在于，该光记录介质在上述记录层和上述覆盖层之间还设有厚度１ｎｍ以上８０ｎｍ以下的溅射层，用粘结剂将该溅射层和上述覆盖层粘接。

【技术特征摘要】
JP 2001-6-13 2001-1789541.一种光记录介质，在基板上依次设有光反射层、记录层和覆盖层，通过从该覆盖层侧照射波长450nm以下的激光进行记录和再现，其特征在于，该光记录介质在上述记录层和上述覆盖层之间还设有厚度1nm以上80nm以下的溅射层，用粘结剂将该溅射层和上述覆盖层粘接。2.如权利要求1所述的光记录介质，其特征在于，所述溅射层的厚度在2nm以上50nm以下。3.如权利要求1或2所述的光记录介质，其特征在于，所述溅射层含有Si、Zn、Ag、Al、Ti、Sn或Ge的单质或其化合...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐藤真二，角田毅，石田寿男，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]