光盘刻录装置及光盘制造方法制造方法及图纸

提供一种能够抑制干扰偏转分量及干扰光量变化分量从而能以高精细度制作高精度的光盘原盘的光盘刻录装置及光盘制造方法。该光盘刻录装置，备有包含控制从激光光源１射出的光束光量的光调制装置２及沿光盘原盘１００上的径向控制上述光束的偏转量的光偏转装置３中的至少任何一种装置的光束控制装置、检测由上述光束控制装置控制的光束中所含有的径向偏转误差的偏转误差检测装置、设置在光束控制装置和偏转误差检测装置之间并用于使光束沿径向偏转的第２光偏转装置２１０、将利用了径向偏转误差的反馈信号反馈到第２光偏转装置２１０的反馈装置。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于制作高密度光盘基片的。
技术介绍
近年来，光盘在AV(视听)上的应用异常活跃。例如，在主要面向电影内容的DVD(Digital Versatile Disc数字通用光盘)中，开发了DVD-R、DVD-RAM、DVD-RW之类的追记型和重写型格式，并作为VTR的新一代录像机而日益普及。在今后的BS数字广播及宽带通信的普及中，期待着可以记录画质更高的压缩图象的大容量光盘格式或容量虽同但尺寸更小的携带式的网络亲合性强的光盘格式的上市。为实现如上所述的高密度光盘，在开发能以高密度进行记录的材料和格式的同时，必须以高精细度、高精度开发适用于高密度的光盘基片，因而作为其源流工序的刻录方法成为实现高密度的关键。具体地说，如何以高的精度在原盘上形成间距极窄的光道和微细的预刻凹坑是至关重要的。这一点，取决于光点的微小化及光点的高精度定位，前者通过使激光光源的波长变短和提高物镜的NA(数值孔径)实现，而后者则主要是通过提高物镜的传动机构的精度、降低刻录装置的振动及对需进行摆动伺服的光盘提高偏转的精度等实现。另外，在以下的说明中，光盘的刻录方法，以具体实现刻录方法的光盘刻录装置的形态进行说明。图9是现有的光盘刻录装置的一例，仅示出基本的构成要素。1是激光光源，发射出具有规定光量的平行光束Lc。通常使用Ar(氩)气激光器并采用工作波长为现有的500nm左右的可见光区域的光源，但为适应高密度化的要求而必须使用短波长，因而最近以来使用着200nm～300nm左右的紫外光谱区域的光源。2是EO调制器(EOMElectro-Optical Modulation电—光调制器)，可以通过施加电压而使光量以模拟的形式改变。通常，按光的通、断选择二值电平的施加电压，并以数字方式调制后形成光盘的预刻凹坑，或通过持续接通而形成沟槽。3是EO偏转器(EOMElectro-Optical Deflector电—光偏转器)，通过施加电压而使光束传播角度偏转并由后文所述的物镜5使在原盘100上形成的用于刻录的光点移动。对于EO调制器2及EO偏转器3的材料，使用通过施加高电压而使折射率各向异性改变的所谓波克尔斯效应的某种结晶材料。为了在刻录中取得有效的偏转量及调制量，必需在EO元件所设有的两个电极之间施加例如±200V的高电压。此外，有时也代替EO而使用被称作AO(Acoustic-Optical声—光)的声光元件系列的元件。通过EO调制器2及EO偏转器3后的光束Lc，由反射镜4反射后，由高NA的物镜5聚光，从而在由电机6进行转动控制的光盘的原盘100上形成光点。反射镜4和物镜5，由以图中未示出的机构保持的刻录用光学头构成，上述光学头，由图中未示出的输送机构配合着电机6的旋转而连续精密地相对于光道间距输送。在刻录中，一般采用转数恒定的CAV方式或线速度恒定的CLV方式。原盘每转1周便连续精密地输送1个光道间距，即可制成螺旋线原盘，在CAV方式的情况下，根据刻录半径将激光光源1的光量控制在适当的值。按图9所示的刻录输送方向制作的光盘，可以在使导入区为内周并以CAV方式进行刻录。101是光盘的格式器，在控制激光光源1的光量及电机6的转数的同时，控制EO调制器2及EO偏转器3从而在原盘上形成预刻凹坑和沟槽，并生成所需的光盘格式。格式器101的输出信号Vem，传送到EOM驱动器102。在EOM驱动器102中，将Vem直接放大或切换高电压电源后作为EOM驱动信号Vemd传送到EO调制器2，并对光束Lc的光量进行调制。这里，通过对Vem进行“H”、“L”控制而接通或断开光束Lc。另外，格式器101的偏转信号Ved，沿径向移动原盘上的光点位置。即，根据偏转信号Ved的极性「正、零、负」分别控制为「移向内周、中央、移向外周」。EOD驱动器103，接收偏转信号Ved，并通过将其直接放大(以下，称为模拟偏转方式)或切换高电压电源(以下，称为数字偏转方式)而作为EOD驱动信号Vedd传送到EO偏转器3，从而控制对光束Lc的偏转量。在实用上，当使沟槽为摆动槽并重叠时钟或地址时，在光盘的原盘上以几十nm的小位移求得连续性的施加电压小到几十V左右，所以，采用使用了放大器的模拟偏转方式，而为了以阶跃的方式实现大到几百nm的位移量，采用像采样伺服方式等那样的数字偏转方式。在后者的情况下，为简化电路结构，通过由表示内周偏转或外周偏转的2个控制信号构成偏转信号Ved并以交叉的方式切换例如+200V左右的电源的正极和负极而施加于EO偏转器3，可以等效地得到±200V的EOD驱动信号Vedd。由图9的虚线表示的光束Li，是使偏转信号Ved为正并由EO偏转器3使光束Lc偏转时的状态。其结果是，使光点从Sc的位置向内周侧移动并移动到Si。在附图说明图10中示出可以用如上所述的光盘刻录装置制作的光盘的2个具体例，并用图11说明其中1例的动作。图10的(a)是带沟槽的采样伺服方式的光盘基片的例，(b)是平台沟槽连续纹道方式的光盘基片的例。两例中都假定图的上侧为内周、下侧为外周，并假定记录再生光点从左至右进行扫描。图10(a)的光盘基片，是适用于作为磁性光盘的超析像方式的一种的DWDD(Domain Wall Displacement Detection)方式(磁畴壁移动检测方式)的基片。在DWDD方式的光盘中，必须减弱邻接记录光道之间的磁性耦合(减小磁性各向异性)。因此，当制造DWDD方式的光盘时，在进行信息信号的记录之前，必须进行使邻接记录光道之间的磁性耦合减弱的初始化(以下，称为退火)。沟槽在退火时使用。这种光盘的构成单位，为如图所示出区段。区段由伺服区和数据区构成。1个光道由1000个以上的多个区段构成。在伺服区内，配置采样伺服用的第1摆动凹坑11、第2摆动凹坑12及地址凹坑13。采样伺服方式的跟踪控制，使记录再生光点在第1摆动凹坑11和第2摆动凹坑12的中间进行扫描。地址凹坑13，分散地配置在多个区段内，通过对每个区段的凹坑的有无进行集中纠错等而再生为光道地址。数据区的光道由沟槽14构成，信息光道之间为平台15。由于这时的光道间距小到0.6μm以下，所以很难对每个光道构成独立的摆动凹坑，因而摆动凹坑由邻接的光道共用。即，光道基本上为图中所示的Ta和Tb两类。如假定光道Ta为偶数光道2m，则记录再生光点16的扫描方式为在左边扫查到第1摆动凹坑11而在右边扫查到第2摆动凹坑12。光道Tb为奇数光道2m+1，记录再生光点的扫描方式与光道Ta相反，在右边扫查到第1摆动凹坑11而在左边扫查到第2摆动凹坑12。光道地址，设计和配置在区段内，以便由光道Ta和光道Tb独立地进行再生(因与本专利技术的主题不同而将其详细说明省略。)。上述的退火，使用光点直径小于记录再生光点16的退火用光点，并以高功率对平台15的部分进行扫描从而使磁性耦合减弱。缩小退火用光点的目的在于，即使光道间距狭小也能通过减小退火宽度而使保留在沟槽14内的可进行DWDD动作的光道加宽从而确保记录再生性能。因此，对退火用光点的光源，例如，使用波长405nm的激光和NA0.75～0.85的物镜，缩小为与记录再生光点16的波长650nm、NA0.6相比直径大约为其一半的光点。退火时的跟踪，从平台15采用使用了推挽信号本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光盘刻录装置，其特征在于，备有：光束控制装置，包含控制从激光光源射出的光束光量的光调制装置及沿光盘原盘上的径向控制上述光束的偏转量的光偏转装置中的至少任何一种装置；偏转误差检测装置，检测由上述光束控制装置控制的光束中所含有的上述径向的偏转误差；第２光偏转装置，设置在上述光束控制装置和上述偏转误差检测装置之间并用于使光束沿上述径向偏转；反馈装置，将利用了上述径向偏转误差的反馈信号反馈到上述第２光偏转装置。

【技术特征摘要】
JP 2001-10-5 309585/011.一种光盘刻录装置，其特征在于，备有光束控制装置，包含控制从激光光源射出的光束光量的光调制装置及沿光盘原盘上的径向控制上述光束的偏转量的光偏转装置中的至少任何一种装置；偏转误差检测装置，检测由上述光束控制装置控制的光束中所含有的上述径向的偏转误差；第2光偏转装置，设置在上述光束控制装置和上述偏转误差检测装置之间并用于使光束沿上述径向偏转；反馈装置，将利用了上述径向偏转误差的反馈信号反馈到上述第2光偏转装置。2.根据权利要求1所述的光盘刻录装置，其特征在于还备有设置在上述光束控制装置和上述偏转误差检测装置之间并用于使上述光束沿上述光盘原盘上的切向偏转的第3光偏转装置，上述偏转误差检测装置，还以与上述径向偏转误差独立的方式检测由上述光束控制装置控制的光束中的上述切向的偏转误差，上述反馈装置，还将利用了上述切向偏转误差的反馈信号反馈到上述第3光偏转装置。3.根据权利要求1所述的光盘刻录装置，其特征在于上述光束控制装置，包含上述光调制装置，上述偏转误差检测装置，还可以检测由上述光束控制装置控制的光束的光量的强度误差，上述反馈装置，还将利用了上述强度误差的反馈信号反馈到上述光调制装置。4.根据权利要求1所述的光盘刻录装置，其特征在于上述光束控制装置，还备有控制由上述光束控制装置控制的光束的光量的光调制校正装置，上述偏转误差检测装置，还可以检测由上述光束控制装置控制的光束的光量的强度误差，上述反馈装置，还将利用了上述强度误差的反馈信号反馈到上述光调制校正装置。5.一种光盘刻录装置，其特征在于，备有光束控制装置，包含控制从激光光源射出的光束光量的光调制装置及沿光盘原盘上的径向控制上述光束的偏转量的光偏转装置中的至少任何一种装置；偏转误差检测装置，检测由上述光束控制装置控制的光束中所含有的上述径向偏转误差；反馈装置，将利用了上述径向偏转误差的反馈信号反馈到上述光偏转装置，并将上述反馈量与上述光偏转装置的控制量叠加。6.一种光盘刻录装置，其特征在于，备有光束控制装置，包含沿光盘原盘上的径向控制从激光光源射出的光束的偏转量的光偏转装置；存储装置，存储了预先测定出的由上述光偏转装置使上述光束发生了偏转时的上述径向偏转误差；第2光偏转装置，用于控制来自上述光偏转装置的光束的偏转量；前馈装置，当对上述光盘原盘进行刻录时，按照上述光束控制装置的偏转定时，将利用了存储在上述存储装置内的上述径向偏转误差的前馈信号输入到上述第2光偏转装置。7.根据权利要求6所述的光盘刻录装置，其特征在于上述第2光偏转装置，使偏转方向与上述光偏转装置一致，上述前馈信号，是使上述径向偏转误差的极性反转的信号。8.根据权利要求6所述的光盘刻录装置，其特征在于还备有检测来自上述第2光偏转装置的光束中所含有的上述径向的第2偏转误差的偏转误差检测装置、及将利用了上述径向的第2偏转误差的反馈信号反馈到上述第2光偏转装置的反馈装置。9.根据权利要求8所述的光盘刻录装置，其特征在于还备有设置在上述光束控制装置和上述偏转误差检测装置之间并用于使上述光束沿上述光盘原盘上的切向偏转的第3光偏转装置，上述偏转误差检测装置，还以与上述径向偏转误差独立的方式检测由上述光束控制装置控制的光束中的上述切向的偏转误差，上述反馈装置，还将利用了上述切向偏转误差的反馈信号反馈到上述第3光偏转装置。10.根据权利要求8所述的光盘刻录装置，其特征在于还备有控制由上述光束控制装置控制的光束的光量的光调制装置，上述偏转误差检测装置，还可以检测由上述光束控制装置控制的光束的光量的强度误差，上述反馈装置，还将利用了上述强度误差的反馈信号反馈到上述光调制装置。11.一种光盘刻录装置，其特征在于，备有光束控制装置，包含沿光盘原盘上的径向控制从激光光源射出的光束的偏转量的光偏转装置；存储装置，存储了预先测定出的由上述光偏转装置使上述光束发生了偏转时的上述径向偏转误差；前馈装置，当对上述光盘原盘进行刻录时，按照上述光束控制装置的偏转定时，将利用了存储在上述存储装置内的上述径向偏转误差的前馈信号输入到上述光偏转装置。12.根据权利要求11所述的光盘刻录装置，其特征在于还备有检测来自上述光偏转装置的光束中所含有的上述径向的第2偏转误差的偏转误差检测装置、及将利用了上述径向的第2偏转误差的反馈信号反馈到上述光偏转装置并将上述反馈量与上述光偏转装置的控制量叠加的反馈装置。13.一种光盘制造方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：石桥谦三，锦织圭史，日野泰守，尾留川正博，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]