通过监视子光束来控制主光束的激光功率的方法和设备技术

技术编号:3065602 阅读:205 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的方法,该方法执行以下步骤:产生主光束和子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率;沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑;将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域;在主光束形成凹坑的时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第一返回信号电平;在非形成凹坑的另一时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第二返回信号电平;和按照子光束的第一返回信号电平和第二返回信号电平,在信息记录周期中实时控制主光束的功率。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光盘记录方法和一种该方法中使用的设备,其中,在形成凹坑周期,激光功率可被控制到获得令人满意的记录状态的最优值。在按照主光束的反射光接收信号来控制激光功率的方法中,需要在主光束的反射光接收信号表现出稳定电平的周期中采样主光束的反射光接收信号。但是,高速记录导致主光束的反射光接收信号表现出的稳定电平的时间较短,从而很难控制主光束的反射光接收信号的采样定时。本专利技术的方法用于沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上。本专利技术的方法包括以下步骤产生主光束和子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率;沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑;将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域;在主光束形成凹坑的时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第一返回信号电平;在非形成凹坑的另一时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第二返回信号电平;和按照子光束的第一返回信号电平和第二返回信号电平,在信息记录周期中实时控制主光束的功率。有利之处在于,控制步骤包括从第一返回信号电平中减去第二返回信号电平,以获得差值;比较该差值和预定基准值,得到比较结果;以及按照该比较结果控制主光束的功率。另一有利之处在于,本专利技术的方法包括以下步骤预先将主光束照射到光盘的测试区域,以确定主光束的最优功率;和预先确定与最优功率相对应的基准值,以致将主光束的功率控制到跟随最优功率。本专利技术的设备用于沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式来将信息记录在光盘中。本专利技术的设备包括光头,产生主光束和子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率;该光头沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑,并将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域;第一采样和保持电路,采样和保持在主光束形成凹坑的时刻根据从近旁区域反射回的子光束检测的第一返回信号电平;第二采样和保持电路,采样和保持在非形成凹坑的另一时刻根据从近旁区域反射回的子光束检测的第二返回信号电平;减法电路,从第一采样和保持电路采样和保持的第一返回信号电平中减去第二采样和保持电路采样和保持的第二返回信号电平,以获得差值;比较电路,比较该差值和预定的基准值,获得比较结果;控制电路,按照该比较结果控制主光束的功率。本专利技术的另一设备用于沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式来将信息记录在光盘中。本专利技术的设备包括光头,产生主光束和一对在先和后续子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和在先的和后续的子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述在先和后续的子光束具有不足以形成凹坑的功率;该光头沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑,将在先子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目标区域之前的近旁区域,以及将后续的子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目标区域之后的近旁区域;主光接收单元,包括在光头中,并且被分成四段,用于接收从目标区域反射回的主光束并且从四段中输出四个输出信号;在先光接收单元,包括在光头中,并且被分成两段,用于接收从近旁区域反射回的在先子光束并从两段中输出两个输出信号;后续光接收单元,包括在光头中,并且被分成两段,用于接收从近旁区域返回的后续子光束并从两段中输出两个输出信号;跟踪控制电路,按照来自主光接收单元和在先光接收单元以及后续光接收单元的输出信号执行推挽差分跟踪控制,用于沿着光盘的轨迹跟踪主光束;聚焦控制电路,按照来自主光接收单元的输出信号执行聚焦控制,用于相对于目标区域聚焦主光束;求和电路,将从先光接收单元或者后续光接收单元的两段中输送的两个输出信号彼此相加,以得到和值;第一采样和保持电路,采样和保持在主光束形成凹坑的时刻从求和电路输出的第一和值;第二采样和保持电路,采样和保持在主光束非形成凹坑的另一时刻从求和电路输出的第二和值;相减电路,从第一和值中减去第二和值,获得差值;比较电路,比较该差值和预定的基准值,以获得比较结果;和控制电路,按照该比较结果控制主光束的功率。本专利技术的另一设备是一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的设备,该设备包括发生装置,用于产生主光束和一对在先和后续子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束与在先的和后续的子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述在先和后续的子光束具有不足以形成凹坑的功率;主照射装置,用于沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑;子照射装置,用于将子光束照射在主光束未照射到但是在毗邻主光束照射到的目标区域的近旁区域;第一检测装置,用于在主光束形成凹坑的时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第一返回信号电平;第二检测装置,用于在非形成凹坑的另一时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第二返回信号电平;和控制装置,用于按照子光束的第一返回信号电平和第二返回信号电平,在信息记录周期中实时控制主光束的功率。本专利技术的又一设备是一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的设备,该设备包括光头装置,产生主光束和子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率;该光头装置沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑,并将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域;第一采样和保持装置,采样和保持在主光束形成凹坑的时刻根据从近旁区域反射回的子光束检测的第一返回信号电平;第二采样和保持装置,采样和保持在非形成凹坑的另一时刻根据从近旁区域反射回的子光束检测的第二返回信号电平;减法装置,从第一采样和保持电路采样和保持的第一返回信号电平中减去第二采样和保持电路采样和保持的第二返回信号电平,以获得差值;比较装置,比较该差值和预定的基准值,获得比较结果;和控制装置,按照该比较结果控制主光束的功率。本专利技术也是一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的设备,该设备包括光头装置,产生主光束和一对在先和后续子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束与在先的和后续的子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述在先和后续的子光束具有不足以形成凹坑的功率;该光头装置沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑,并将在先子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目标区域之前的近旁区域,以及将后续的子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目标区域之后的近旁区域;主光接收装置,包括在光头中,并且被分成四段,用于接收从目标区域反射回的主光束并且从四段中输出四个输出信号;在先光接收装置,包括在光头中,并且被分成两段,用于接收从近旁区域反射回的在先子光束并从两段输出两个输出信号;后续光接收装置,包括在光头中,并且被分成两段,用于接收从近旁区域反射回的后续子光束并从两段输出两个输出信号;跟踪控制装置,按照来自主光接收单元和在先光接收单元以及后续光接收单元的输出信号执行推挽差分跟踪控制,用于沿着光盘的轨迹跟踪主光束;聚焦控制装置,按照来自主光接收单元的输出信号执行聚焦控制,用于相对于目标区域聚焦主光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的方法,该方法包括以下步骤: 产生主光束和子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率; 沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑; 将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域; 在主光束形成凹坑的时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第一返回信号电平; 在非形成凹坑的另一时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第二返回信号电平;和 按照子光束的第一返回信号电平和第二返回信号电平,在信息记录周期中实时控制主光束的功率。

【技术特征摘要】
JP 2002-3-7 2002-0622101.一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的方法,该方法包括以下步骤产生主光束和子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率;沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑;将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域;在主光束形成凹坑的时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第一返回信号电平;在非形成凹坑的另一时刻检测从近旁区域反射回的子光束的第二返回信号电平;和按照子光束的第一返回信号电平和第二返回信号电平,在信息记录周期中实时控制主光束的功率。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,控制步骤包括从第一返回信号电平中减去第二返回信号电平,以获得差值;比较该差值和预定基准值,得到比较结果;以及按照该比较结果控制主光束的功率。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,还包括以下步骤预先将主光束照射到光盘的测试区域,以确定主光束的最优功率;和预先确定与最优功率相对应的基准值,以致将主光束的功率控制为跟随最优功率。4.一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的设备,该设备包括光头,产生主光束和子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束和子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述的子光束具有不足以形成凹坑的功率;该光头沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑,并将子光束照射在主光束未照射到但是毗邻主光束照射到的区域的近旁区域;第一采样和保持电路,采样和保持在主光束形成凹坑的时刻根据从近旁区域反射回的子光束检测的第一返回信号电平;第二采样和保持电路,采样和保持在非形成凹坑的另一时刻根据从近旁区域反射回的子光束检测的第二返回信号电平;减法电路,从第一采样和保持电路采样和保持的第一返回信号电平中减去第二采样和保持电路采样和保持的第二返回信号电平,以获得差值;比较电路,比较该差值和预定的基准值,获得比较结果;和控制电路,按照该比较结果控制主光束的功率。5.一种沿着光盘的轨迹以一系列凹坑的形式将信息记录在光盘上的设备,该设备包括光头,产生主光束和一对在先和后续子光束,同时按照代表信息的记录信号调制主光束与在先的和后续的子光束的功率,所述的主光束具有足以形成凹坑的功率,而所述在先和后续的子光束具有不足以形成凹坑的功率;该光头沿着轨迹照射主光束,形成一系列的凹坑,并将在先子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目标区域之前的近旁区域,以及将后续的子光束照射在主光束未照射到但是在主光束照射到的目标区域之后的近旁区域;主光接收单元,包括在光头中,并且被分成四段,用于接收从目标区域反射回的主光束并且从四段中输出四个输出信号;在先光接收单元,包括在光头中,并且被分成两段,用于接收从近旁区域反射回的在先子光束并从两段输出两个输出信号;后续光接收单元,包括在光头中,并且被分成两段,用于接收从近旁区域反射回的后续子光束并从两段输出两个输出信号;跟踪控制电路,按照来自主光接收单元和在先光接收单元以及后续光接收单元的输出信号执行推挽差分跟踪控制,用于沿着光盘的轨迹跟踪主光束;聚焦控制电路,按照来自主光接收单元的输出信号执行聚焦控制,用于相对于目标区域聚焦主光束;求和电路,将从在先光接收单元或者后续光接收单元的两段中输送的两个输出信号彼此相加,以得到和值;第一采样和保持电路,采样和保持在主光束形成凹坑的时刻从求和电路输出的第一和值;第二采样和保持电路,采样和保持在主光束非形成凹坑的另一时刻从求和电路输出的第二和值;减法电路,从第一和值中减去第二和值,获得差值;比较电路,比较该差值和预定的基准值,以获得比较结果;和控制电路,按照该比较结果控制主光数据的功率。6.一种沿着光盘的轨迹以一系列凹...

【专利技术属性】
技术研发人员:近藤多闻永野尚志
申请(专利权)人:雅马哈株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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