工艺调度方法及其工艺调度系统技术方案

本发明专利技术公开了一种工艺调度方法及其工艺调度系统。所述工艺调度方法包括判断多个材料在多个设备的多个权重化处理时间；利用一遗传算法，依据所述多个权重化处理时间计算多个目标循环时间；以及依据所述多个目标循环时间，将所述多个材料分配至所述多个设备。将所述多个材料分配至所述多个设备。将所述多个材料分配至所述多个设备。

【技术实现步骤摘要】
工艺调度方法及其工艺调度系统


[0001]本专利技术涉及工艺(process)调度方法及其工艺调度系统，并且更具体而言，涉及可提高生产效率的工艺调度方法及其工艺调度系统。

技术介绍

[0002]在材料(例如半导体元件)的工艺(process，有时又称之为“制程”)过程中，需要执行多个工艺步骤，且需要利用多个站点的多个设备来依次执行。并且，在一个站点内，可能存在多个/多批材料需要被处理。因此，如何将材料分配至一个站点的多个设备，并最大化设备的产能且达成工艺调度的全域优化，即成为重要课题。

技术实现思路

[0003]为了解决上述的问题，本专利技术主要提供一种工艺调度方法及其工艺调度系统，以提高生产效率。
[0004]本专利技术公开一种工艺调度方法。所述工艺调度方法包括判断多个材料在多个设备的多个权重化处理时间；利用一遗传算法，依据所述多个权重化处理时间计算多个目标循环时间；以及依据所述多个目标循环时间，将所述多个材料分配至所述多个设备。
[0005]本专利技术另公开一种工艺调度系统。所述工艺调度系统包括一存储器以及一处理电路。所述存储器用来存储的一指令包括判断多个材料在多个设备的多个权重化处理时间；利用一遗传算法，依据所述多个权重化处理时间计算多个目标循环时间；以及依据所述多个目标循环时间，将所述多个材料分配至所述多个设备。所述处理电路，耦接至所述存储器，用来执行存储在所述存储器的所述指令。
附图说明
[0006]图1为本专利技术实施例一工艺调度系统的示意图。
[0007]图2为本专利技术实施例的一工艺调度方法的流程图。
[0008]图3为依据图2所示的工艺调度方法而进行调度的甘特图。
[0009]图4及图5分别为本专利技术实施例的一性能评估步骤的示意图。
[0010]图6为本专利技术实施例的一控制装置的示意图。
[0011]【主要元件符号说明】
[0012]10
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工艺调度系统
[0013]110Q1～110Q4
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设备
[0014]120
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控制装置
[0015]MT1～MT5
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材料
[0016]20
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工艺调度方法
[0017]200～216
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步骤
[0018]60
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控制装置
[0019]600
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处理电路
[0020]610
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存储器
[0021]620
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通信接口
具体实施方式
[0022]为了方便说明，本专利技术的各附图仅为示意以更容易了解本专利技术，其详细的比例可依照设计的需求进行调整。在通篇说明书及后续的权利要求当中所提及的“包括”为一开放式的用语，故应解释成“包括但不限定于”。在通篇说明书及后续的权利要求当中所提及的“第一”、“第二”等叙述，仅用以区别不同的元件，并不对其产生顺序的限制。所述实施例在不抵触的情况下可以以各种方式组合。
[0023]图1为本专利技术实施例一工艺调度系统10的示意图。工艺调度系统10可包括多个设备(equipment)110Q1～110Q4以及一控制装置120。设备110Q1～110Q4分别耦接至控制装置120，以分别依据控制装置120的指令操作。设备110Q1～110Q4可分别为机台，其用来处理多个材料MT1～MT5。材料MT1～MT5可分别为一个晶圆或者一批晶圆。
[0024]在一实施例中，材料MT1～MT5中的每一个都会分配至设备110Q1～110Q4中的一个，也就是说，设备110Q1～110Q4位于同一个站点，且每一个材料都受到一个设备处理。一个材料移入一个站点至移出所述站点之间的时间可称为循环时间，而所述站点的一个设备处理所述材料所需要的真实的时间可称为处理时间。由于循环时间越小，产能及生产效率越大，因此须最小化循环时间。
[0025]简单来说，本专利技术的控制装置120可利用遗传算法，依据权重化处理时间最小化循环时间，如此一来，可以使计算出的目标循环时间可以在多目标冲突下尽可能达成最小化循环时间的目标，并为全局最优解。并且，控制装置120可利用剩余时效、优先级或等待时间来调整材料MT1～MT5在设备110Q1～110Q4的处理时间，而得到权重化处理时间，如此一来，本专利技术可以优先处理材料MT1～MT5中某些材料。
[0026]详细而言，图2为本专利技术实施例的一工艺调度方法20的流程图。工艺调度方法20涉及自动化调度，并可用于工艺调度系统10，以提高生产效率。工艺调度系统20可包含以下步骤：
[0027]步骤200：开始。
[0028]步骤202：判断多个材料在多个设备的多个权重化处理时间(process time)。
[0029]步骤204：提供至少一初始变量(或至少一变量)。
[0030]步骤206：依据所述至少一初始变量(或所述至少一变量)，在所述多个权重化处理时间中选择出多个候选处理时间。
[0031]步骤208：依据所述至少一初始变量(或所述至少一变量)，计算多个候选等待时间。
[0032]步骤210：计算多个候选循环时间。
[0033]步骤212：利用一遗传算法，依据所述多个候选循环时间计算出多个目标循环时间(objective cycle time)。
[0034]步骤214：依据所述多个目标循环时间，将所述多个材料分配至所述多个设备。
[0035]步骤216：结束。
[0036]在步骤202中，控制装置120可判断材料MT1～MT5在设备110Q1～110Q4的权重化处理时间。举例来说，表1为材料MT1～MT5在设备110Q1～110Q4的权重化处理时间。如表1所示，控制装置120可判断材料MT1～MT5在设备110Q1的权重化处理时间分别是100、2、4、5、6分钟。也就是说，权重化处理时间可对应至一个2维矩阵，例如4行(row)5列(column)的4
×
5矩阵。
[0037](表1)
[0038] 材料MT1材料MT2材料MT3材料MT4材料MT5设备110Q11002456设备110Q2410379设备110Q38812513设备110Q4910321
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种工艺调度方法，其特征在于，包括：判断多个材料在多个设备的多个权重化处理时间；利用遗传算法，依据所述多个权重化处理时间计算多个目标循环时间；以及依据所述多个目标循环时间，将所述多个材料分配至所述多个设备。2.如权利要求1所述的工艺调度方法，其特征在于，所述多个权重化处理时间中的第一权重化处理时间相关联于所述多个材料中的第一材料在所述多个设备中的第一设备的处理时间、所述第一材料的剩余时效、所述第一材料的优先级或所述第一材料的等待时间。3.如权利要求1所述的工艺调度方法，其特征在于，利用所述遗传算法依据所述多个权重化处理时间计算所述多个目标循环时间的步骤包括：提供至少一初始变量，所述至少一初始变量中的每一个分别是所述多个材料与所述多个设备的对应关系；依据所述至少一初始变量及所述多个权重化处理时间，计算多个候选循环时间；以及利用所述遗传算法，依据所述多个候选循环时间计算所述多个目标循环时间。4.如权利要求3所述的工艺调度方法，其特征在于，依据所述至少一初始变量及所述多个权重化处理时间计算所述多个候选循环时间的步骤包括：依据所述至少一初始变量，在所述多个权重化处理时间中选择出多个候选处理时间；依据所述至少一初始变量，计算多个候选等待时间，其中，所述多个候选等待时间分别对应至所述多个候选处理时间；以及计算所述多个候选循环时间，其中，所述多个候选循环时间中的每一个分别是所述多个候选处理时间中的一个及所述多个候选等待时间中的一个的总合。5.如权利要求4所述的工艺调度方法，其特征在于，所述多个权重化处理时间、所述多个候选等待时间、所述多个候选处理时间、所述多个候选循环时间或所述多个目标循环时间分别对应至一2维矩阵。6.如权利要求3所述的工艺调度方法，其特征在于，利用所述遗传算法依据所述多个候选循环时间计算所述多个目标循环时间的步骤包括：调整所述至少一初始变量，直到在满足约束条件下，所述多个候选循环时间最小化至所述多个目标循环时间，其中，所述约束条件与所述多个设备处理所述多个材料的能力相关。7.如权利要求6所述的工艺调度方法，其特征在于，调整所述至少一初始变量的步骤包括选择操作、交叉操作或变异操作。8.如权利要求6所述的工艺调度方法，其特征在于，所述多个候选循环时间最小化至所述多个目标循环时间的步骤属于多目标优化。9.如权利要求1所述的工艺调度方法，其特征在于，依据所述多个目标循环时间将所述多个材料分配至所述多个设备的步骤包括：随机在所述多个目标循环时间中选择出多个终局循环时间；以及依据所述多个终局循环时间，将所述多个材料分配至所述多个设备。10.如权利要求1所述的工艺调度方法，其特征在于，所述多个材料中的每一个分别分配至所述多个设备中的一个。11.一种工艺调度系统，其特征在于，包括：
存储器，用来存储的指令包括：判断多个材料在多个设备的多个权重...

【专利技术属性】
技术研发人员：隋珍玉，尹又生，谈文毅，
申请(专利权)人：联芯集成电路制造厦门有限公司，
类型：发明
国别省市：