擦拭膜制造技术

具有柔韧的薄膜背衬和在所述背衬表面上形成的擦拭层的擦拭膜，其中，所述擦拭层包含粘合剂和分散在其中的塑料颗粒。所述擦拭膜用于除去磁盘处理表面的异物和松散润滑油，而不会在其上产生任何划痕或纤维颗粒。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于的光磁性记录介质的材料，更具体的是涉及一种擦拭膜，它用于在磁盘的表面上进行的清洁工艺和抛光工艺。
技术介绍
近年来，随着信息处理技术如计算机的发展，磁性记录介质如磁盘已经广泛地用作其外部存储装置。通常，如下所述制得磁盘将非磁性背衬如铝合金背衬和玻璃背衬进行一系列表面处理如研磨处理、抛光处理和质地处理，使所述表面变得粗糙，且在具有粗糙表面的非磁性背衬上形成磁性记录层，并在这一磁性记录层上再形成由碳、SiO2等制得的保护薄膜。在形成保护膜之后，进行薄膜清洁工艺，以除去在保护膜上形成的凸起和磁盘表面上的异物。这一薄膜清洁工艺通常使用研磨带来进行。在所述清洁工艺之后，将氟烃类润滑剂施涂到所述保护膜上，形成润滑剂薄膜，并进行抛光，除去其上的附着物质，如磁性记录介质表面上的灰尘。通常，这种光也使用研磨薄膜来进行。之后，对这些介质进行预定测试，以制备符合标准的磁性记录介质。至于薄膜清洁和抛光用的薄膜，常规情况下使用包含研磨颗粒如氧化铝颗粒和SiC颗粒的研磨薄膜，所述颗粒在由例如聚对苯二甲酸乙二酯和聚酰胺的材料制成的薄膜上。例如，日本专利公开公报No.85628/1997，71572/1998和114837/1999已经揭示了一种具有这种结构的研磨薄膜。近年来，为了提高磁盘的存储容量，已经改进了保护膜的形成技术，且已经从溅射喷涂的方法向化学气相沉积(CVD)方法过渡。因此，可以提供高精度和高质量的具有高密度且厚度很薄的薄膜。而且，薄膜形成之后的磁盘表面变得更加均匀且更加干净，由此可以提供高质量的磁盘(几乎没有异常出现的凸起，并减少了在薄膜形成过程中产生的灰尘颗粒数量)。随着高质量薄膜形成技术的发展，已经改进了用于薄膜清洁和磨光的研磨薄膜，以顺应这一变化，使得此处所用研磨颗粒的平均粒度现在变得更加细，不超过0.3微米，而它在过去通常为几微米的量级。但是，所述研磨薄膜包含坚硬的作为研磨材料的无机颗粒，且当研磨薄膜的表面存在不规则的凸起，或者当存在颗粒分离等情况时，导致的缺陷就是在磁盘表面出现划痕。而且，若分离颗粒仍留在所述磁盘的表面时，这些颗粒也会导致严重的缺陷，在随后的工艺中它们会嵌入磁盘中。因此，至于用来对磁盘保护膜进行表面处理的薄膜，当近年来已经改进了所述保护膜的形成技术时，就日益要求通过不会产生划痕的擦拭而不是抛光保护膜的表面来除去异物。而且，当在润滑薄膜形成之后进行磨光时，所述薄膜必须具有吸油的性质，以除去松散的润滑剂，使所述润滑薄膜在磁盘表面上变得更加均匀。换句话说，为了应对薄膜质量的提高和所用工艺的改变，已经逐渐改变了对用于磁盘表面的表面抛光材料所要求的性质，并且需要那些不会导致任何划痕且可以除去异物和松散润滑剂的材料。即，虽然传统上把重点放在抛光功能上，但是现在，重点已经放在异物的除去上(擦拭功能)。日本专利公开公报No.66179/1993揭示了一种用于对磁盘记录介质保护膜进行表面处理的清洁薄膜。这种清洁薄膜由具有很细纤维的织造织布制成，且在使用研磨薄膜的研磨工艺之后除去灰尘。因此，它不含有研磨颗粒，且在所述磁盘表面上不会形成划痕。但是，所述很薄的纤维会因张力和磨擦断裂，且一旦它们断裂，纤维颗粒会从织造织布上剥落。因此，使用这种清洁薄膜代替所述研磨薄膜会导致所述处理表面被纤维污染的问题。出于这一原因，包含具有很薄纤维的织造织布的清洁薄膜仍旧不能作为处理磁性记录介质的保护膜表面的材料实际使用。本专利技术提供一种用于除去异物和松散润滑剂的擦拭膜，它不会形成划痕且在所述处理表面上不会沉积纤维堆积物。所述擦拭膜可以用于处理磁盘等。专利技术概述本专利技术提供一种具有柔韧的薄膜背衬和在所述背衬表面上形成的擦拭层的擦拭膜，所述擦拭层包含粘合剂和分散在其中的塑料颗粒。附图简要说明在所述优选实施方案的说明中，参考附图，其中附图说明图1是本专利技术擦拭膜实施方案的截面图。优选实施方案的详细说明图1是本专利技术擦拭膜的截面图。塑料颗粒2通过硬化粘结树脂粘结到膜状背衬1的表面上，形成擦拭膜4。这种擦拭膜用于除去磁性记录介质表面，即主要是磁盘表面上的异物和松散润滑剂，提供磁盘表面上形成的均匀润滑薄膜。薄膜背衬从聚合物薄膜中适当选择所述薄膜背衬，所述聚合物薄膜具有足够耐受带清洁和抛光工艺的强度以及在制造工艺过程中耐受涂覆和干燥工艺的强度和耐热性，且不易变形，并具有柔韧性。优选使用通常用作研磨薄膜的聚合物薄膜。这种聚合物薄膜，定向或非定向薄膜的例子包括聚酯，树脂如聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯和聚萘酸乙二酯；聚烯烃树脂如高密度聚乙烯和聚丙烯；聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚丙烯腈、聚酰胺、主要包含如丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯材料的丙烯酸类树脂；聚缩醛、纤维素衍生物如三乙酸纤维素和二乙酸纤维素；和聚碳酸酯。特别是，聚对苯二甲酸乙二酯和尼龙的双轴向取向薄膜和聚酰亚胺薄膜在擦拭膜涂覆性质、后处理性质和在实际机械搬运中性能优越，并且优选使用它们。所述薄膜背衬优选具有合适的柔韧性。例如，这种薄膜背衬按JIS K 6911使用厚度为1mm的试验片测量，具有500-2000kg/mm2的弯曲弹性模量。所述薄膜背衬的厚度通常为5-125微米，更好是14-75微米。塑料颗粒在通常用于磁性记录介质表面上的带清洁和抛光工艺的研磨薄膜中，已经使用无机材料如氧化铝作为研磨层中的组分。但是，为了防止处理表面上的划痕，在本专利技术的擦拭膜中，使用比无机颗粒更软的塑料颗粒。这种塑料颗粒和粘合剂的组合使所述擦拭层的表面具有不均匀的不规则结构，由此提供用于接受细异物和颗粒，以及用于吸收松散润滑剂的功能，并且不会在抛光处理物件上形成划痕。所述塑料颗粒宜具有洛氏硬度为M10-M130的硬度，更好是M85-M105。当所述塑料颗粒的洛氏硬度小于M10时，所述塑料颗粒在施涂到擦拭膜上时变平整了，不可能在所述表面上保留不规则的结构。这时，不可能获得擦拭效果。此外，洛氏硬度超过M130会导致处理表面出现划痕。虽然没有具体限制，但是所述塑料颗粒较好为球形。这种形状可以防止在处理表面上形成划痕。至于粒度，其平均粒度宜为0.01-100微米，更好是0.1-10微米。所述小于0.01微米的平均粒度不能形成和设计薄膜擦拭层表面中所需的表面粗糙度相对应的不规则性。超过100微米的平均粒度使得薄膜擦拭层的表面粗糙度太高，导致产品所需的擦拭功能降低。尤其是很难接受纳米级的细颗粒。所述塑料颗粒的材料宜选自具有合适硬度的树脂。所述材料的例子包括聚甲基丙烯酸、聚苯乙烯、聚烯烃、酚醛树脂、环氧树脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、高密度聚乙烯树脂、尿素树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯、聚酰胺和聚碳酸酯。而且，可以使用那些通过将这些细颗粒进行表面改性处理等获得的材料，例如，那些通过金属涂覆这些细颗粒或者将官能团引入这些细颗粒中而获得的材料。而且，可以将无机颗粒如球形玻璃或者球形陶瓷混入上述塑料颗粒中，使塑料颗粒沉积在背衬上。可以使用市售的塑料颗粒。例如，列出了由Soken Chemical & EngineeringCo.，Ltd.制造的“CHEMISNOW(商品名)”。粘合剂至于粘合剂，可以使用通常已知的热塑性树脂、热固性树脂、反应型树脂、电子射线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种擦拭膜，所述擦拭膜包含柔韧的薄膜背衬，以及在所述背衬表面上形成的擦拭层，所述擦拭层包含粘合剂和分散在其中的塑料颗粒。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：江口博之，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]