感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件技术

本发明专利技术的课题在于提供一种保存稳定性优异且可形成耐化学品性优异的硬化膜的感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件。一种感放射线性组合物，含有：包含具有氧杂环丙基的第一结构单元与具有羧基的第二结构单元的聚合物成分；感光剂；选自由胺系化合物、咪唑系化合物及异氰酸酯系化合物所组成的群组中的至少一种化合物；以及溶剂；并且相对于构成聚合物成分的全部结构单元，第一结构单元的含有比例为超过20质量％且65质量％以下，第二结构单元的含有比例为超过5质量％且25质量％以下，溶剂包含相对于感放射线性组合物中所含的溶剂的总量而为20质量％以上的汉森溶解度参数的氢键项dH为10.0以上的高dH溶媒。溶媒。

【技术实现步骤摘要】
感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件


[0001]本专利技术涉及一种感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件。

技术介绍

[0002]在半导体元件或显示元件中设置有层间绝缘膜或间隔物、保护膜等硬化膜。作为形成这些硬化膜的材料，通常使用含有在侧链上具有环氧基的聚合物与感光剂的感放射线性组合物，利用环氧基的硬化反应而形成硬化膜(例如，参照专利文献1或专利文献2)。
[0003][现有技术文献][0004][专利文献][0005][专利文献1]日本专利特开2003
‑
330180号公报
[0006][专利文献2]日本专利特开2013
‑
122576号公报

技术实现思路

[0007][专利技术所要解决的问题][0008]在利用聚合物所具有的环氧基的硬化反应来获得硬化膜的情况下，在感放射线性组合物的保管中进行硬化反应，担忧保存稳定性降低。另外，作为感放射线性组合物，要求具备优异的保存稳定性，并且可形成耐化学品性优异的硬化膜。
>[0009]本专利本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种感放射线性组合物，含有：包含具有氧杂环丙基的第一结构单元与具有羧基的第二结构单元的聚合物成分；感光剂；选自由胺系化合物、咪唑系化合物及异氰酸酯系化合物所组成的群组中的至少一种化合物；以及溶剂；并且相对于构成所述聚合物成分的全部结构单元，所述第一结构单元的含有比例为超过20质量％且65质量％以下，相对于构成所述聚合物成分的全部结构单元，所述第二结构单元的含有比例为超过5质量％且25质量％以下，所述溶剂包含相对于所述溶剂的总量而为20质量％以上的汉森溶解度参数的氢键项dH为10.0以上的高dH溶媒。2.根据权利要求1所述的感放射线性组合物，其中，所述溶剂包含相对于所述溶剂的总量而大于50质量％的沸点为160℃以下的低沸点溶媒。3.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其中，所述高dH溶媒的沸点为200℃以下。4.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其中，所述高dH溶媒为选自由乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁基醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单异丙醚、己二醇、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、丁醇、3
‑
甲氧基
‑1‑
丁醇、2
‑
甲基丁醇、3
‑
甲基丁醇、2
‑
乙基丁醇、异丁醇、戊醇、2
‑
甲基戊醇、环己醇、二丙酮醇、苄醇及糠醇所组成的群组中的至少一种。5.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其中，所述胺系化合物为硅烷偶合剂。6.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其中，所述异氰酸酯系化合物为硅烷偶合剂。7.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其中，所述聚合物成分还包含具有氧杂环丁基的结构单元。8.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其还含有具有酚性羟基的化合物[D]。9.根据权利要求8所述的感放射线性组合物，其中，相对于所述聚合物成分100质量份，所述化合物[D]的含有比例为1质量份以上。10.根据权利要求8所述的感放射线性组合物，其中，相对于所述感光剂与所述化合物[D]的总量，所述化合物[D]的含有比例为1质量％～60质量％。11.根据权利要求8所述的感放射线性组合物，其中，所述化合物[D]的分子量为700以下。12.根据权利要求8所述的感放射线性组合物，其中，所述化合物[D]为选自由下述式(2)所表示的化合物、下述式(3)所表示的化合物、下述式(4)所表示的化合物、下述式(5)所表示的化合物、下述式(6)所表示的化合物及下述式(d
‑
31)～式(d
‑
35)各自所表示的化合物所组成的群组中的至少一种；
式(2)中，R4为氢...

【专利技术属性】
技术研发人员：本田晃久，中西拓也，仓田亮平，吉田智香，三村时生，八代隆郎，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：