双面柔性磁带制造技术

一种柔性磁带衬底，在其两面涂覆较低矫顽力磁性介质的底层，这种磁性介质底层依次涂覆具有高矫顽力且以极小颗粒形式存在的掺铁二氧化铬的亚微米层。对于纵向磁记录系统，使用矫顽力至少为１，５００Ｏｅ的磁性层以及矫顽力在２５到５００Ｏｅ之间的底层。对于垂直磁记录系统，使用矫顽力至少为２，０００Ｏｅ的磁性层以及矫顽力在２５到８００Ｏｅ之间的底层。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于记录的磁性介质，具体地，涉及具有两个磁性表面的柔性磁带。
技术介绍
随着对小型化、更快记录速度以及更大存储容量的需求日益增加，能够在感兴趣的磁性介质的两个表面上都进行磁信息记录已经成为磁记录工业的长期目标。该目标对于磁盘已经得到令人满意地实现，但对于柔性磁带的磁性介质却难于实现。与磁盘相比，对于磁带的卷轴，由用于隔开磁性层的非常薄的衬底产生一个问题，这种薄衬底可能发生在该技术中被称为数据图案从磁带的一个面到反面上的“印透”或者“重叠”映像。这种情况产生于在记录过程中具有足够强度的磁通线穿过记录层和衬底，而且还在磁带反面的磁性涂层上记录分辨率较差的信号。较厚磁带的使用减少印透，但是它也减小磁带的体积存储容量。因此，本领域正在磁带和记录层日益变薄(典型地，小于0.4微米)的方向上发展。在记录的过程中，强磁场最好应用到非常浅的深度以使场通量对衬底的穿透，以及，如果存在，对磁带反面涂层的穿透最小化。为了改善强磁场经过记录层的影响，一个有用的手就是使用弱磁性底层作为磁场的“保持器”或者分流器，从而防止信号穿过。几个专利已经公布了这种改善薄衬底磁带的磁性层中信号行为的方法。参见，例如，美国专利4,109,066、4,423,454、4,200,678和4,075,384。然而，这些专利中没有一个提出使用弱磁性底层以使双面记录成为可能。双面磁带卷轴的另外一个问题在于，当磁带的两个表面被缠绕成磁带卷时，两个磁化层彼此紧密靠近放置。作为缠绕过程的结果，从卷轴上的先前磁带卷发现，磁带一个面上的磁性介质有必要与另一面上的磁性介质物理上相对放置。这种情况造成本领域中所称的“接触记录”；也就是说，一个面上的数据图映像到磁带的反面上。而且，当两个面彼此直接接触放置时，还可能导致在磁带任一个面上发生错误磁化。在现有技术中，例如日本专利JP54050304、JP4163715和JP5041844，对双面磁带的多种应用进行了说明，但是这些技术中没有一个提出所述的印透和接触记录问题。其它的现有技术公开披露了旨在改善双面磁带性能的技术。例如，美国专利3,725,611描述一种双涂覆磁带，其中在磁带相反面上的两个铁磁性层具有不同的厚度，厚度不同是设计用于改善对来自于主磁带的短波和长波信号的记录效率。磁带的两个面都被用于同一记录操作，但是，这并没有改善介质的存储容量。同样，美国专利5,850,328描述一种双面磁记录磁带，其中在制造过程中磁性颗粒有不同的磁性取向。每个面的磁性取向相对于另一个面具有足够大的角位移以减小接触记录和印透的影响。在对磁带进行的方位校正中，所述的技术需要使用特殊的读/写磁头。由于上面提到的特殊要求和缺点，迄今为止，在现有技术中没有一个描述过的解决办法得到了商业接受。虽然如此，但由于磁带厚度逐渐减小以提供更多的存储容量，因此使用双面磁带已经成为不断吸引人的目标，而且仍然存在双面磁带概念实际应用的需要。
技术实现思路
本专利技术提供一种磁记录介质，这种磁记录介质中，中间衬底的每一面上，较低矫顽力的底层上覆盖有较高矫顽力的磁记录层。取决于相关的记录系统类型，与这种约束(例如减少印透和接触记录)协调，审慎选择层的具体矫顽力值。对于纵向磁记录系统(也就是该技术中已知的线性系统)，可以通过组合矫顽力为25到500Oe的底层和矫顽力至少为1500Oe的磁性层，从而获得这些理想的结果。对于垂直磁记录系统(也就是该技术中已知的螺旋系统)，可以通过组合矫顽力为25到800Oe的底层和矫顽力至少为2000Oe的磁性层，从而获得这些理想的结果。虽然不是关键性的，但是也发现，与上述矫顽力具体要求进行组合时，颗粒取向是有用的参数。例如，线性系统中，颗粒取向应该总是记录层中的比底层中的更大，数值上最好是记录层中大于大约1.5∶1OR(取向比)而且底层中小于大约2.0∶1OR。螺旋系统中，两种层中颗粒的取向应该尽可能低，最好低于大约1.5∶1OR。颗粒取向和矫顽力参数的这些组合使双面柔性磁带的成功应用成为可能，这种双面柔性磁带具有厚度小于0.25μm的记录层，记录层覆盖在大约两倍厚度的底层上。附图说明现在，仅仅采用举例的方式，并参照后面的附图，将对本专利技术的优选实施方式进行说明图1是根据本专利技术优选实施方式的双面磁带盒的透视图；图2是图1中磁带盒的部分切开的视图，以说明本专利技术优选实施方式的双面磁带；图3是组成本专利技术优选实施方式的双面磁带的多层和底层示意图。具体实施例方式专利技术人确定审慎选择涂覆在传统磁带衬底上的磁记录层和底层中矫顽力值的组合使得薄双面柔性磁带的制作成为可能，这种双面柔性磁带基本上无印透和接触记录影响。掺铁二氧化铬具有使其适合于这种应用的特性。除所公开的新颖的矫顽力参数组合之外，双面磁带的物理结构和其它特性可以与传统磁带组件相同。因此，认为这种磁性材料将以传统方式涂覆到适合于磁带盒中使用的传统磁带衬底的每个面上，这些衬底例如聚(对苯二甲酸乙二酯)(PET)或聚(萘二甲酸乙二酯(ethylene naphthalate))(PEN)。参见附图，其中类似部件全部指定为类似的数字和符号，图1说明双面磁带盒10。如图2部分切开视图所示，磁带盒10包括卷在两个卷轴14、16之间的双面磁带12，而且磁带盒10安装有两个输入/输出门或窗板18、20，用于实现通过适当的读/写磁头对磁带的每个面进行输入—输出操作。磁带12的每个相反面都由高矫顽力颗粒(例如掺铁的二氧化铬)的薄涂层22、24组成，这些颗粒外形基本呈细长并在层内高取向。为了使堆积程度高成为可能，颗粒最好是，长度为0.05到2.0μm，而且标称直径(也就是与颗粒长度垂直的尺寸中的最大宽度)为0.005到0.10μm，更好为大约0.05μm长和0.005μm宽，高取向，而且最好具有极窄的尺寸分布。虽然没有发现颗粒尺寸分布是关键性的，但测试表明采用较窄的分布能获得更好的结果。在这些条件下，不需要将该技术中通常使用的氧化铝或其它磨粒加入到磁性层的成分中。每个磁性层22、24都由颗粒组成，对于线性系统应用，这些颗粒至少具有1500Oe的矫顽力，而且，对于螺旋系统应用，这些颗粒至少具有2000Oe的矫顽力。磁性层22、24涂覆在磁性底层26、28上，磁性底层26、28依次涂覆在传统衬底30上(图3)。对于线性系统应用选择矫顽力小于500Oe的底层26、28，对于螺旋系统应用选择矫顽力小于500Oe的底层26、28。理想地，基于工作参数和成本考虑，每个磁性层22、24的矫顽力应该是可实现的尽可能高，而且底层26、28的矫顽力应该为大约25 Oe到每种应用所注明的上限值之间，最好在200～250Oe的范围内。已经证实，极细颗粒型掺铁二氧化铬是极好的磁性材料，这种磁性材料的矫顽力和其它特性特别适合于最好实施方式中的双面记录目的。在线性系统的优选实施方式中，使用2000～2600Oe的掺铁二氧化铬颗粒，每个颗粒大约0.05微米长和0.005微米宽。在螺旋系统的优选实施方式中，使用2200～2600Oe的掺铁二氧化铬颗粒。尽管不是关键性的，但颗粒取向也被用于实现优选实施方式的目的。对于线性记录系统，记录层中的颗粒取向应该大于底层中的颗粒取向，在数值上，最好是在记录层中大于大约1.5∶1OR(最好本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质，包括：支撑衬底；涂覆在所述支撑衬底第一面上的磁性材料第一底层；涂覆在支撑衬底第二面上的磁性材料第二底层；　涂覆在所述的第一底层上的第一磁性材料层；　涂覆在所述的第二底层上的第二磁性材料 层；以及其中，所述的第一和第二底层具有小于大约８００Ｏｅ的矫顽力，而且所述的第一和第二磁性材料层具有大于大约１，５００Ｏｅ的矫顽力。

【技术特征摘要】
US 2002-6-10 10/167,1551.一种磁记录介质，包括支撑衬底；涂覆在所述支撑衬底第一面上的磁性材料第一底层；涂覆在支撑衬底第二面上的磁性材料第二底层；涂覆在所述的第一底层上的第一磁性材料层；涂覆在所述的第二底层上的第二磁性材料层；以及其中，所述的第一和第二底层具有小于大约800Oe的矫顽力，而且所述的第一和第二磁性材料层具有大于大约1,500Oe的矫顽力。2.权利要求1的磁记录介质，其中该记录介质打算用于线性记录系统，而且每个所述的底层具有在大约25Oe和500Oe之间的矫顽力。3.权利要求2的磁记录介质，其中每个所述的底层具有在大约200Oe和300Oe之间的矫顽力，而且所述的第一和第二磁性材料层具有在大约2,000Oe和2,600Oe之间的矫顽力。4.权利要求1的磁记录介质，其中该记录介质打算用于螺旋记录系统，而且所述的第一和第二磁性材料层具有大于大约2,000Oe的矫顽力。5.权利要求4的磁记录介质，其中每个所述的底层具有在大约200Oe和300Oe之间的矫顽力，而且所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：理查德莱昂内尔布拉德肖，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]