【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学拾取器致动器,其包括通过悬挂装置悬挂并具有跟踪和聚焦线圈的透镜保持件、用于与跟随和聚焦线圈协作的磁体、物镜透镜以及用于倾斜光学透镜保持件的装置。本专利技术还涉及一种包括光学拾取器致动器的光学读取和/或写入系统。
技术介绍
光学拾取器致动器以及包括光学拾取器致动器的光学读取和/或写入系统是公知的。致动器包括通过悬挂装置悬挂的透镜保持件。透镜保持件上的跟踪和聚焦线圈和固定部件上的磁体协作使得透镜保持件在径向方向(跟踪)和垂直方向(聚焦)上运动。与具有位于固定部件上的线圈和位于线圈保持件上的磁体的拾取器致动器相比,此类的致动器更轻并更加能够跟踪和聚焦。这种致动器和系统在US2001/0030815中披露。在此致动器中还设置用于倾斜透镜保持件的装置。设置透镜保持件绕其倾斜的轴。倾斜(即围绕轴线转动)改进了对于透镜保持件运动的控制并随后改进了透镜保持件内的透镜光轴和将要读取或写入的光学介质之间的关系。但是从US 2001/0030815得知的用于倾斜透镜保持件的装置相对复杂并且成本高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种开头段落所述类型的致动器 ...
【技术保护点】
一种光学拾取器致动器,包括通过悬挂装置悬挂的透镜保持件并具有跟踪和聚焦线圈和物镜透镜,以及用于倾斜光学透镜保持件的装置,其特征在于,致动器在透镜保持件一侧包括线圈系统,所述线圈系统包括大致在第一平面内延伸的聚焦线圈系统和大致在平行于第一平面的第二平面内延伸的跟踪线圈系统,从透镜保持件观看,致动器具有与透镜保持件分开并大致延伸超过第一和第二平面的的磁体系统,所述磁体系统与跟踪和聚焦线圈协作,聚焦和/或跟踪线圈系统布置成通过与磁体系统协作来实现倾斜。
【技术特征摘要】
EP 2002-6-4 02077194.51.一种光学拾取器致动器,包括通过悬挂装置悬挂的透镜保持件并具有跟踪和聚焦线圈和物镜透镜,以及用于倾斜光学透镜保持件的装置,其特征在于,致动器在透镜保持件一侧包括线圈系统,所述线圈系统包括大致在第一平面内延伸的聚焦线圈系统和大致在平行于第一平面的第二平面内延伸的跟踪线圈系统,从透镜保持件观看,致动器具有与透镜保持件分开并大致延伸超过第一和第二平面的的磁体系统,所述磁体系统与跟踪和聚焦线圈协作,聚焦和/或跟踪线圈系统布置成通过与磁体系统协作来实现倾斜。2.如权利要求1所述的光学拾取器致动器,其特征在于,透镜保持件在透镜保持件的两个相对侧的每个上包括与透镜保持件分开并超过第一和第二平面的磁体系统,透镜保持件包括大致在第一平面内延伸的聚焦线圈系统和大致在第二平面内延伸以便平行于第一平面并与每个所述线圈系统相关的跟踪线圈系统。3.如权利要求1或2所述的光学拾取器致动器,其特征在于,第一和第二平面大致重合。4.如权利要求1所述的光学拾取器致动器,其特征在于,磁体系统包括子磁体配置,至少某些所述子磁体的磁轴相对于线圈的第一和/或第二平面具有不垂直取向。5.如权利要求3所述的光学拾取器致动器,其特征在于,至少某些子磁体相对于第一和/或第二平面具有对角线取向。6.如权利要求1所述的光学拾取器...
【专利技术属性】
技术研发人员:JA范鲁伊,B肯德里克斯,J多维,BJ斯蒂内森,JCG范德桑登,HJ戈斯森斯,
申请(专利权)人:皇家飞利浦电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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