光学存储系统和控制方法技术方案

本发明专利技术涉及光学存储系统和控制方法，其中在插入介质时，在由聚焦拉入控制单元在介质径向中的预定点上拉入物镜焦点的状态下，基准位置学习单元测量介质旋转一圈的电流，计算电流的平均电流值，并把计算的平均电流值储存在存储器中，作为用于把物镜定位在基准位置上的基准电流值，其中，从基准位置开始聚焦拉入控制。在学习处理之后执行的聚焦拉入中，基准位置控制单元根据基准电流把物镜定位在通过学习处理获得的基准位置上，接着使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于在移动介质如MO盒中光学记录信息并从中再现信息的，并更具体地，本专利技术涉及用于在聚焦拉入时保证快速、稳定和安全的。
技术介绍
通常，在以使用MO盒介质的光盘驱动器著称的光学存储系统中，当读出记录在介质中的数据时，或当在介质中记录数据时，需要用于把光束集中到所述介质上的记录介质上的聚焦控制。为了执行聚焦控制，首先，必需知道光束当前集中的位置。然而，当光束集中的位置远离记录层时，不输出聚焦误差信号(FES)。从而，透镜致动器移动到光束可集中到靠近介质记录层的位置的区域，并且，在检测聚焦零交叉时执行用于闭合聚焦伺服环路的聚焦拉入处理。在聚焦拉入处理中，即使当集中位置在介质的表面(记录层的保护表面)上时，也输出聚焦误差信号。从而，一般来说，一度使透镜致动器在不撞击介质的程度上接近介质，接着，透镜致动器慢慢地降下，并且当首次识别聚焦零交叉时执行拉入处理。然而，在此常规光学存储系统中，在一些情况下，例如由于在插入介质时的卡紧状态或介质本身的翘曲，介质进入透镜致动器的运动范围。在这些情况下，当使透镜致动器接近介质以执行聚焦拉入处理时，在最坏的情况下，透镜致动器与介质接触，并且损坏介质。更具体地，透镜致动器由托架通过弹簧支撑，并且，在不使电流流入驱动电路的状态下，光束焦点的位置与介质记录层的位置之间的偏差设计为约50μm。从而，在聚焦拉入控制中，首先，透镜致动器向介质移动约300μm，并且，透镜致动器从此向相反方向慢慢地移动大约600μm。在此过程中，在检测聚焦误差信号的零交叉时闭合聚焦伺服环路，由此使焦点保持在介质的记录层上。这里，问题在于当透镜致动器沿朝着介质的方向移动300μm时，透镜致动器与介质接触。通常，采取提供间隙以避免接触的对策，然而，在近来的变薄系统中不能保留间隙。与此问题相对应地，介质的标准制订得更加严格，并且增加光学存储系统的高度，以防止介质与透镜致动器之间的接触。然而，最近，进一步提高减小系统尺寸并使系统变薄的重要性，并且，必需在不使介质的标准制订得更严格且不增加光学存储系统高度的同时，在聚焦伺服拉入处理中避免介质与透镜致动器之间的接触。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供以下，其中，即使当在介质中存在翘曲或表面摆动时，也可执行聚焦拉入处理，同时不使透镜致动器与介质接触。本专利技术致力于一种光学存储系统，所述光学存储系统具有在与介质轨道交叉的方向上移动物镜的托架致动器，其中，物镜用于以光束照射介质；在朝着介质的方向上移动物镜的透镜致动器；聚焦误差信号产生电路，所述聚焦误差信号产生电路根据接收的从介质返回光的输出，而产生表示光束焦点与介质记录层之间偏差的聚焦误差信号；以及，聚焦拉入控制单元，在介质旋转的状态下，在物镜沿朝着介质的方向移动预定距离之后，所述聚焦拉入控制单元在聚焦误差信号与零相交的点闭合聚焦伺服环路，同时缓慢地在远离介质的方向上移动物镜，在本专利技术中，此种类型的光学存储系统设置有基准位置学习单元，在插入介质时，在由聚焦拉入控制单元在介质径向中的预定点上拉入物镜焦点的状态下，所述基准位置学习单元测量介质旋转一圈的聚焦驱动电流，计算电流的平均电流值，并把计算的平均电流值储存在存储器中，作为用于把物镜定位在基准位置(基准透镜位置)上的基准电流值，其中，从基准位置开始聚焦拉入控制；以及基准位置控制单元，当在学习处理之后执行聚焦拉入时，所述基准位置控制单元在根据基准电流定位物镜之后使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。根据本专利技术的上述光学存储系统，当介质因卡紧状态而倾斜时或当介质翘曲时，在介质内圆周附近，介质与透镜致动器之间的间隙最宽。从而执行学习处理，在此学习处理中执行聚焦拉入控制，在介质旋转一圈的过程中测量输出给聚焦驱动电路的指示电流值，并且获得平均电流，获得的平均电流是用于把透镜致动器驱动到基准位置的基准电流，其中，从基准位置开始聚焦拉入。当在改变介质之前保留通过学习处理获得的基准电流值并且该值用作执行下一聚焦拉入控制的基准电流时，可认为接近焦点，并可实现稳定的聚焦拉入控制。在这，基准位置学习单元在介质径向中的至少两个点上测量介质旋转一圈的电流，并储存基准电流值；基准位置控制单元选择与物镜在介质径向上的位置相应的基准电流，并定位物镜。从而，当除了在内圆周区域测量中获得基准电流之外在外圆周区域进一步测量基准电流时，在外圆周区域也减小介质与透镜致动器之间接触的危险。在由聚焦拉入控制单元在介质内圆周的预定点上拉入物镜焦点的状态下测量介质旋转一圈的电流之后，基准位置学习单元在保持聚焦伺服环路闭合的同时把物镜移动到外圆周侧的预定点，并测量介质旋转一圈的电流。相应地，在介质径向中的任意多个点测量获得基准电流，并且，在学习处理之后，可执行聚焦拉入控制，且不会使介质与透镜致动器之间接触，这与透镜致动器相对于介质区域的位置无关。基准位置控制单元从以下直线的关系式获得与介质径向中除测点之外的位置相应的基准电流，其中，所述直线与从在介质径向上两点测量的电流值获得的基准电流有关。借助此线性插值，可通过在两点上的测量而计算介质所有区域上的基准电流。基于介质旋转一圈的测量电流，基准位置学习单元获得作为表面摆动量的电流位移值(振幅)，并在存储器中储存所获得的值，所述电流位移值与介质在朝着物镜的方向上的运动量和介质在远离物镜的方向上的运动量相对应，其中，每个运动量是在介质旋转一圈中的运动量；以及，在根据基准电流定位物镜之后，基准位置控制单元设定运动量为表面摆量的两倍，作为物镜在朝着介质的方向上的运动距离，并且使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。当如上所述根据介质表面摆动量而改变透镜致动器的运动量以进行聚焦拉入时，即使在介质中存在表面摆动也能以最小的运动来执行聚焦拉入。基于介质旋转一圈的测量电流，基准位置学习单元获得作为表面摆动量的电流位移值，并在存储器中储存所获得的值，所述电流位移值与介质在朝着物镜的方向上的运动量和介质在远离物镜的方向上的运动量相对应，其中，每个运动量是在介质旋转一圈中的运动量；以及，当在介质径向中将要执行聚焦拉入的点上表面摆动量的值超过预定限值时，基准位置控制单元调节基准电流，以使物镜定位得远离介质并在此定位物镜，接着，使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。例如，当在介质径向中将要执行聚焦拉入的点上表面摆动量的值超过预定限值时，基准位置控制单元调节基准电流，以使物镜定位得远离介质，距离为表面摆动量的1/4，并且在此定位物镜。从而，在介质的外圆周侧中表面摆动量较大并且介质在与测量所获得的基准电流相应的位置上因表面摆动而与透镜致动器碰撞的情况下，当根据表面摆动而调节基准电流以使透镜致动器定位得远离介质时，即使当在聚焦拉入时使基准电流流入并且把透镜致动器设定在基准位置上时，也不造成与介质的碰撞。基于介质旋转一圈的测量电流，基准位置学习单元获得介质旋转一圈的周期，作为拉入旋转周期，并在存储器中储存此周期，在此周期内，所述介质在远离物镜的方向上移动；以及，基准位置控制单元根据基准电流而定位物镜，接着，聚焦拉入控制单元不移动物镜，且在拉入旋转周期内聚焦误差信号与零相交时执行聚焦拉入。如上所述，在借助基准电流而把透镜致动器设定在基准位置以进行聚焦拉入的状态下，在介质记录层靠近物镜的位置远离物镜时启动拉入控制，并闭本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学存储系统，所述光学存储系统具有在与介质轨道交叉的方向上移动物镜的托架致动器，其中，物镜用于以光束照射介质，在朝着介质的方向上移动物镜的透镜致动器，聚焦误差信号产生电路，所述聚焦误差信号产生电路根据接收的从介质返回光的 输出，而产生表示光束焦点与介质记录层之间偏差的聚焦误差信号，以及聚焦拉入控制单元，在介质旋转的状态下，在物镜沿朝着介质的方向移动预定距离之后，所述聚焦拉入控制单元在聚焦误差信号与零相交的点闭合聚焦伺服环路，同时缓慢地在远离介质的方向 上移动物镜，光学存储系统包括：基准位置学习单元，在插入介质时，在由聚焦拉入控制单元在介质径向中的预定点上拉入物镜焦点的状态下，所述基准位置学习单元测量介质旋转一圈的电流，计算电流的平均电流值，并把计算的平均电流值储存在存储器中，作为 用于把物镜定位在基准位置上的基准电流值，其中，从基准位置开始聚焦拉入控制；以及基准位置控制单元，当在学习处理之后执行聚焦拉入时，所述基准位置控制单元在根据基准电流定位物镜之后使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。

【技术特征摘要】
1.一种光学存储系统，所述光学存储系统具有在与介质轨道交叉的方向上移动物镜的托架致动器，其中，物镜用于以光束照射介质，在朝着介质的方向上移动物镜的透镜致动器，聚焦误差信号产生电路，所述聚焦误差信号产生电路根据接收的从介质返回光的输出，而产生表示光束焦点与介质记录层之间偏差的聚焦误差信号，以及聚焦拉入控制单元，在介质旋转的状态下，在物镜沿朝着介质的方向移动预定距离之后，所述聚焦拉入控制单元在聚焦误差信号与零相交的点闭合聚焦伺服环路，同时缓慢地在远离介质的方向上移动物镜，光学存储系统包括基准位置学习单元，在插入介质时，在由聚焦拉入控制单元在介质径向中的预定点上拉入物镜焦点的状态下，所述基准位置学习单元测量介质旋转一圈的电流，计算电流的平均电流值，并把计算的平均电流值储存在存储器中，作为用于把物镜定位在基准位置上的基准电流值，其中，从基准位置开始聚焦拉入控制；以及基准位置控制单元，当在学习处理之后执行聚焦拉入时，所述基准位置控制单元在根据基准电流定位物镜之后使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。2.如权利要求1所述的光学存储系统，其中，基准位置学习单元在介质径向中的至少两个点上测量介质旋转一圈的电流，并储存基准电流值；以及基准位置控制单元选择与物镜在介质径向上的位置相应的基准电流，并定位物镜。3.如权利要求2所述的光学存储系统，其中，在由聚焦拉入控制单元在介质内圆周的预定点上拉入物镜焦点的状态下测量介质旋转一圈的电流之后，基准位置学习单元在保持聚焦伺服环路闭合的同时把物镜移动到外圆周侧的预定点，并测量介质旋转一圈的电流。4.如权利要求3所述的光学存储系统，其中，基准位置控制单元从以下直线的关系式获得与介质径向中除测点之外的位置相应的基准电流，其中，所述直线与从在介质径向上两点测量的电流值获得的基准电流值有关。5.如权利要求1所述的光学存储系统，其中，基于介质旋转一圈的测量电流，基准位置学习单元获得作为表面摆动量的电流位移值(振幅)，并在存储器中储存所获得的值，所述电流位移值与介质在朝着物镜的方向上的运动量和介质在远离物镜的方向上的运动量相对应，其中，每个运动量是在介质旋转一圈中的运动量；以及在根据基准电流定位物镜之后，基准位置控制单元设定运动量为表面摆量的两倍，作为物镜在朝着介质的方向上的运动距离，并且使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。6.如权利要求1所述的光学存储系统，其中，基于介质旋转一圈的测量电流，基准位置学习单元获得作为表面摆动量的电流位移值，并在存储器中储存所获得的值，所述电流位移值与介质在朝着物镜的方向上的运动量和介质在远离物镜的方向上的运动量相对应，其中，每个运动量是在介质旋转一圈中的运动量；以及当在介质径向中将要执行聚焦拉入的点上表面摆动量的值超过预定限值时，基准位置控制单元调节基准电流，以使物镜定位得远离介质并在此定位物镜，接着，使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。7.如权利要求6所述的光学存储系统，其中，当在介质径向中将要执行聚焦拉入的点上表面摆动量的值超过预定限值时，基准位置控制单元调节基准电流，以使物镜定位得远离介质，距离为表面摆动量的1/4，并且在此定位物镜。8.如权利要求1所述的光学存储系统，其中，基于介质旋转一圈的测量电流，基准位置学习单元获得介质旋转一圈的周期，作为拉入旋转周期，并在存储器中储存此周期，在此周期内，所述介质在远离物镜的方向上移动；以及基准位置控制单元根据基准电流而定位物镜，接着，聚焦拉入控制单元不移动物镜，且在拉入旋转周期内聚焦误差信号与零相交时执行聚焦拉入。9.如权利要求1所述的光学存储系统，其中，基于介质旋转一圈的测量电流，基准位置学习单元获得介质旋转一圈的旋转周期，作为拉入旋转周期，并在存储器中储存此周期，在此周期内，所述介质在远离物镜的方向上移动；以及在物镜根据基准电流定位之后在拉入旋转周期的开始定时的时候，基准位置控制单元通过开始使物镜在远离介质的方向上运动而使聚焦拉入控制单元执行聚焦拉入。10.一种光学存储系统的聚焦拉入控制方法，所述光学存储系统具有在与介质轨道...

【专利技术属性】
技术研发人员：山下知纪，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]