【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种确定在光学记录设备中使用的用于借助辐射束在光学记录介质上写入/擦除信息的写入/擦除功率参数的值的方法。本专利技术还涉及一种光学记录设备，其包括用于确定在光学记录介质上写入/擦除信息的辐射束的写入/擦除功率参数的值的装置。本专利技术可以用在光学记录领域。
技术介绍
欧洲专利申请EP0737962披露了一种包括用于设置辐射束的最佳写入功率电平的装置的光学记录设备。该设备使用一种具有下列步骤的设置辐射束的最佳写入功率电平的方法。首先，所述设备在记录介质上记录一系列的渐增写入功率的测试图案。接着，它从与所述图案相应的读取信号获得每个图案的调制。它计算作为写入功率的函数的调制导数，并通过将它与调制上面的写入功率相乘来对所述导数进行标准化。已知所获得的曲线是标准化的伽马曲线，或γ曲线。标准化的伽马曲线与预定值γtarget之间的交叉点确定一目标写入功率参数。最后，将所述目标写入功率参数与参数ρ相乘以获得适于在记录介质上进行记录的最佳写入功率电平。参数ρ的值是从记录介质本身读取的。通过以在一个给定值周围的范围应用写入功率值而将测试图案记录在记录介质上，所述...
【技术保护点】
一种确定在光学记录设备中使用的用于借助辐射束（１０５）在光学记录介质（１０１）上写入／擦除信息的写入／擦除功率参数（Ｐ↓［ｔａｒｇｅｔ］）的值的方法，所述方法包括下列递归步骤：－第一步（４０１），在记录介质上写入一系列的测试图案，每个测试图案是用不同功率电平（Ｐ）值的辐射束写入的，所述功率电平（Ｐ）具有在最小功率电平（Ｐ↓［ｍｉｎ］）和最大功率电平（Ｐ↓［ｍａｘ］）之间变化的变化范围，－第二步（４０２），读取记录介质上的测试图案以获得读取信号部分，－第三步（４０３），从每个读取信号部分获得读取参数（Ｍ）的值，用于确定一组包含最小读取参数（Ｍ↓［ｍｉｎ］）的读取参数，－第四步...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2003-3-5 03290529.11.一种确定在光学记录设备中使用的用于借助辐射束(105)在光学记录介质(101)上写入/擦除信息的写入/擦除功率参数(Ptarget)的值的方法，所述方法包括下列递归步骤-第一步(401)，在记录介质上写入一系列的测试图案，每个测试图案是用不同功率电平(P)值的辐射束写入的，所述功率电平(P)具有在最小功率电平(Pmin)和最大功率电平(Pmax)之间变化的变化范围，-第二步(402)，读取记录介质上的测试图案以获得读取信号部分，-第三步(403)，从每个读取信号部分获得读取参数(M)的值，用于确定一组包含最小读取参数(Mmin)的读取参数，-第四步(404)，用于对定义了读取参数(M)和功率电平(P)的组合与功率电平(P)之间的关系的函数(f)进行曲线拟合，所述函数由一组参数(a，b，c)来表征，-第五步(405)，根据所述参数组(a，b，c)检查将由最大功率电平(Pmax)、最小功率电平(Pmin)和最小读取参数(Mmin)满足的条件，-第六步(406)，如果所述条件不满足，则修改功率电平(P)的变化范围，然后返回至第一步(401)，-第七步(407)，如果满足所述条件，则从一个具有功率电平(P)作为变量的等式提取所述写入/擦除功率参数(Ptarget)的值。2.如权利要求1所述的方法，其中所述读取参数(M)是读取信号部分的幅度调制。3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述曲线拟合函数(f)是P*M＝f(p)＝c+b·P+a·P2形式的二次曲线。4.如权利要求1、2或3所述的方法，其中-将由最大功率电平(Pmax)满足的条件表示为关系式a·Pmax2-cc+b·Pmax+a·Pmax2≤γtarget]]>-将由最小功率电平(Pmin)满足的条件表示为关系式a·Pmin2-cc+b·Pmin+a&Ce...
【专利技术属性】
技术研发人员：AJJ范登霍根，CG徐，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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