光学头和光盘重放装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种光学头（１），包含半导体激光元件（２２）、物镜（２４）、液晶元件（２７）、电压施加部（２８）和控制部（２９）。液晶元件（２７），被设置在半导体激光元件（２２）和物镜（２４）之间的漫射光的光路上，并被分割成多个区域。电压施加部（２８），对液晶元件（２７）的多个分割区域施加电压，改变分割区域的折射率。控制部（２９），控制对液晶元件（２７）的分割区域施加电压的电压施加部（２８）的动作，以调整对入射到液晶元件（２７）的光按每个分割区域赋予的相位补偿量，对透过液晶元件（２７）的光的光点在该光点内赋予均匀的相位变化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学头和光盘重放装置。
技术介绍
在光盘重放装置中，有的能够进行物理格式不同的多种的光磁记录介质、例如MD(Mini Disc注册商标)和Hi-MD(注册商标)的记录和/或重放。进行该多种光磁记录介质的记录重放的光盘重放装置所具备的光学头中，含有出射激光的光源；将从光源出射的激光聚光到光磁记录介质的信息记录面上的物镜；对被光磁记录介质的信息记录面反射的回光即激光进行分离的光学系统；和将由光学系统分离后的激光转换成电信号的信号转换部。在MD、Hi-MD等光磁记录介质上，在其信息记录面上设有被称为凹槽的导槽。对光磁记录介质进行重放时，光盘重放装置用从光源出射的激光照射凹槽，通过该照射的光的反射光读出记录在凹槽中的信息。近几年，磁道间距被缩窄，以便能够在光磁记录介质上记录尽可能多的信息信号，光磁记录介质得到了进一步的高密度化。以往使用的MD的磁道间距为1.6μm，近年开发的可实现高密度记录的Hi-MD的磁道间距为1.25μm。另外，在MD的凹槽中，记录着经过EFM(Eight to Fourteen Modulation)调制后的数据，在Hi-MD的凹槽中，记录着经过RL本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对光记录介质照射光、记录和／或重放信息的光学头（２１、７１、８１、９１），其特征在于，包括：出射光的光源（２２）；将从光源（２２）出射的光聚光到光记录介质上的物镜（２４）；设置在光源（２２）和物镜（２４）之间的漫 射光的光路上的液晶元件（２７、７２、８２ａ、９２ａ），其具有分割成多个的分割区域；电压施加部（２８），对液晶元件（２７、７２、８２ａ、９２ａ）的多个分割区域施加电压，改变分割区域的折射率；和控制部（２９），控制对液晶元件（２ ７、７２、８２ａ、９２ａ）的分割区域施加电压的电压施加部（２８）的动作，以调整对...

【技术特征摘要】
JP 2005-1-14 2005-0082451.一种对光记录介质照射光、记录和/或重放信息的光学头(21、71、81、91)，其特征在于，包括出射光的光源(22)；将从光源(22)出射的光聚光到光记录介质上的物镜(24)；设置在光源(22)和物镜(24)之间的漫射光的光路上的液晶元件(27、72、82a、92a)，其具有分割成多个的分割区域；电压施加部(28)，对液晶元件(27、72、82a、92a)的多个分割区域施加电压，改变分割区域的折射率；和控制部(29)，控制对液晶元件(27、72、82a、92a)的分割区域施加电压的电压施加部(28)的动作，以调整对入射到液晶元件(27、72、82a、92a)的分割区域的光按每个分割区域赋予的相位补偿量，使得透过液晶元件(27、72、82a、92a)的光的光点在该光点内被赋予均匀的相位变化。2.根据权利要求1所述的光学头(21、71、81、91)，其特征在于，含有对入射光的漫射角进行调整的漫射角调整元件(30、82b、92b)，漫射角调整元件(30、82b、92b)，被配置在光源(22)和物镜(24)之间。3.根据权利要求2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：古屋贵昭，
申请(专利权)人：夏普株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]