磁记录头及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种磁记录头及其制造方法。磁记录头包括包含主极和返回极的堆积体。堆积体包括：第一磁层，具有形成在其中的凹槽；绝缘层，覆盖凹槽的表面；第二磁层图案，填充由绝缘层覆盖的凹槽。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种数据记录设备及其制造方法，更具体地讲，涉及一种。
技术介绍
根据磁化与记录介质表面是平行还是垂直，磁记录介质可分为纵向磁记录介质和垂直磁记录介质。随着对具有更高数据记录密度的记录介质需求的增加，对垂直磁记录介质的关注增加。因为磁记录介质与磁记录头密切相关，所以随着对垂直磁记录介质关注的增加，对用于将数据写在垂直磁记录介质上的磁记录头的关注也增加了。磁记录头中的主极和返回极被用在将数据直接写在磁记录介质上。因此，磁记录头的稳定性和优点与返回极和主极密切相关，尤其与主极密切相关。图1表示在传统的磁记录头中使用的矩形主极10当主极10的倾斜角为10°时与被选磁道12之间的关系，磁化图案，即，比特数据写在所述被选磁道12上。参照图1，当比特数据被写在被选磁道12上时，主极10的一部分10a偏离被选磁道12。图2是使用包括图1所示的主极10的传统磁记录头记录在垂直磁记录介质上的比特数据的磁力显微镜(MFM)图像。图2中的标号14指示磁化图案，所述磁化图案在磁记录头的主极10将磁化图案记录在磁道12上期间由偏离磁道12的主极10的一部分10a记录在磁道12的周边上。当将磁化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包括包含主极和返回极的堆积体的磁记录头，其中，所述堆积体包括：第一磁层，具有形成在其中的凹槽；绝缘层，覆盖所述凹槽的表面；第二磁层图案，填充由所述绝缘层覆盖的所述凹槽。

【技术特征摘要】
KR 2005-1-11 10-2005-00024481.一种包括包含主极和返回极的堆积体的磁记录头，其中，所述堆积体包括第一磁层，具有形成在其中的凹槽；绝缘层，覆盖所述凹槽的表面；第二磁层图案，填充由所述绝缘层覆盖的所述凹槽。2.如权利要求1所述的磁记录头，其中，所述第二磁层图案具有高于所述第一磁层的饱和磁通密度。3.如权利要求1所述的磁记录头，其中，所述凹槽具有圆形横截面和梯形横截面中的一种。4.如权利要求1所述的磁记录头，还设有返回屏蔽件，使得所述第二磁层图案位于所述第一磁层和所述返回屏蔽件之间。5.一种制造包括包含主极和返回极的堆积体的磁记录头的方法，其中，形成所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李厚山，任映勋，金庸洙，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]