光记录介质以及使用其的光记录－再现方法技术

本发明专利技术提供一种只写一次型的光记录介质，其从低速记录到高速记录都可以获得极好的记录特性。在光记录介质中包括含有有机染料的记录层，该记录层被构造为至少具有由下列化学式１（在该式中，Ｒ１表示碳数从１至４的烷基，Ｒ２和Ｒ３分别表示碳数从１至４的烷基和苯甲基或通过耦合形成３－６元环的基团，Ｙ１和Ｙ２的每个单独表示有机基团，并且Ｘ表示ＣｌＯ↓［４］，ＦＢ↓［４］，ＰＦ↓［６］和ＳｂＦ↓［６］）所示的通式表示的有机染料和由下列化学式２（在该式中，Ｒ１和Ｒ４表示碳数从１至４的烷基，Ｒ２和Ｒ３分别表示碳数从１至４的烷基和苯甲基或通过耦合形成３－６元环的基团，Ｙ１和Ｙ２的每个单独表示有机基团，并且Ｘ表示ＣｌＯ↓［４］，ＦＢ↓［４］，ＰＦ↓［６］和ＳｂＦ↓［６］）所示的通式表示的有机染料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光记录介质，特别是一种使用有机染料作为记录层的光记录介质，以及使用其的光记录-再现方法。
技术介绍
作为光记录介质，在记录层上使用光有机染料材料的光记录介质被构造为在如塑料的透明基片上具有其主要成分是有机染料的记录层，以及根据需要也具有反射层、保护层等，并且信息通过在此记录层上扫描激光和通过仅在被辐射面的一部分中形成凹坑以高密度进行记录。以CD-R(只写一次(write-once)型CD压缩盘，注册商标)为代表的有机染料记录介质由于结构简单且其能以低成本进行制造而在市场上被广泛地接受，其用于数据、图像等的备份，也用于存储音乐之用途。然而，近些年随着计算机的高速发展，期望记录介质具有更大的容量，并且要求使用有机染料的光记录介质从CD-R及其同类向DVD-R和DVD+R(只写一次型DVD数字化通用光盘，注册商标)转换。在使用有机染料的光记录介质上进行信息记录是在热模式下执行的。当激光辐射到记录层上时，被辐射部分的有机染料通过吸收激光产生的热量被熔化。由于有机染料熔化的部分的反射率与未熔化部分的反射率不同，一个凹坑就在记录层中形成。因此在使用有机染料的光记录介质中，吸收热量的机理变得重要。熔化记录层中的有机染料所需的热量取决于光的吸收光谱。通常，当在某一波长下对光的吸收变大时，虽然反射率降低而记录敏感度变高。相反地，当吸收变小时，虽然记录敏感度降低而反射率变高。虽然记录层的反射率特性和记录敏感度特性在使用有机染料的记录介质中是重要的，但那些特性具有如上文所描述的互相密切的相关性，并且因此对光记录介质的记录特性有很大的影响。在DVD中，使用比CD的波长短的650nm(DVD-R)或655nm(DVD+R)激光以增加记录密度，而由于在这个波长范围内的吸收如此地大以致于大大地偏离了最佳记录敏感度，以前用于CD-R的有机染料不可以用于DVR-R和DVD+R。此外，即使在DVD-R和DVD+R中，对高速记录的需求也近似于CD-R。在执行高速记录的记录材料中，不仅需要高的反射率，而且需要高的记录敏感度，并且需要由加热引起的染料熔化速度要快。适合应用于DVD-R以及同类的各种染料已经被提出(如，参照专利文献1和2)。然而，在高速记录时的记录-再现特性没有被充分地研究。另外，为了高速记录通过简单地提高染料的熔化速度而优化材料时，发现在低速记录时信号特性恶化，并且类似的相反情况是，为低速记录而优化材料时，在高速记录时信号特性恶化。此外，在高敏感性的有机染料记录介质中光的稳定性特性可能恶化。因此，在一个单一的有机染料记录介质中，从低速到高速同时满足所有的记录特性和光稳定性特性是非常困难的。专利文献1日本专利申请公开第2002-52829号专利文献2日本专利申请公开第2003-231359号
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种光记录介质，其在只写一次型光记录介质，如DVD-R和DVD+R中从低速记录到高速记录都能够获得极好的记录特性，以及使用其的光记录-再现方法。为了解决上述问题，根据本专利技术具体实施方式的光记录介质被构造为具有包括有机染料的记录层结构，其中该记录层具有至少一种如下列化学式1(在该式中，R1表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3-6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO4，BF4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有机染料，和由下列化学式2(在该式中，R1和R4表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3-6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO4，BF4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有机染料。化学式1化学式2进一步，根据本专利技术具体实施方式的光记录-再现方法使用具有本专利技术具体实施方式的上述构造的光记录介质。根据本专利技术具体实施方式的光记录介质被构造为具有记录层，该记录层混合有如前面所描述具有上述化学式1和化学式2的通式所表示的有机染料，因此可以抑制由低速记录到高速记录，即由1X速到16X速的抖动，而这在以前是不能实现的，并且可以获得极好的记录-再现特性。此外，可以提供一种光记录-再现方法，该方法能够通过使用这样的光记录介质进行记录和再现使其至少在1X速记录到16X速记录达到极好的记录和再现。根据本专利技术具体实施方式的光记录介质，能够获得如前所说明的极好的从低速记录到高速记录的记录-再现特性。而且，在本专利技术具体实施方式的光记录介质中，通过选择形成在基片中的凹槽的凹槽深度D，能够使抖动和反射率维持在一个极好的范围100nm≤D≤200nm以致于能够获得从1X速记录到16X速记录的极好的记录-再现特性。还有，在本专利技术具体实施方式的光记录介质中，通过选择形成在基片中的凹槽的宽度，能够使抖动维持在一个极好的范围230nm≤Wg≤400nm以致于能够获得从1X速记录到16X速记录的极好的记录-再现特性。此外，在本专利技术具体实施方式的光记录介质中，通过使用具有如下列化学式3所示的结构式的材料作为上述化学式1所示的有机染料，可能获得从1X速记录到16X速记录的极好的记录-再现特性。化学式3 再有，在本专利技术具体实施方式的光记录介质中，通过使用具有如下列化学式4所示的结构式的材料作为上述化学式2所示的有机染料，可能获得从1X速记录到16X速记录的极好的记录-再现特性。化学式4再有，在本专利技术具体实施方式的光记录介质中，当将上述化学式1中所示的有机染料的重量设为W1，以及将上述化学式2中所示的有机染料的重量设为W2时，记录功率的范围可以在从低速记录到高速记录的在如下设置的适当的范围内进行选择0.1≤W2/(W1+W2)≤0.8进一步，在本专利技术具体实施方式的光记录介质中，光的稳定性可以通过在记录层中添加减活剂得到提高。另外，在该光记录介质中，当将上述化学式1中所示的有机染料的重量设为W1，上述化学式2所示的有机染料的重量设为W2，以及减活剂的添加量设为W3时，可以通过下列的设置提高光的稳定性，也确定地抑制抖动以及获得极好的记录-再现特性0.08＜W3/(W1+W2+W3)≤0.35再有，在本专利技术具体实施方式的光记录介质中，当将有机染料的最大吸收波长下的光密度(Optical Density)设为OD时，可以通过下列设置进一步确定地抑制从低速记录到高速记录的抖动，以及获得极好的记录-再现特性0.25≤OD≤0.70此外，通过使用本专利技术具体实施方式的上述构造的光记录介质执行记录和再现，能够提供一种可靠地在至少从1X速到16X速的记录速度范围内实现极好的记录-再现特性的光记录-再现方法。附图说明图1是示出了根据本专利技术具体实施方式的光记录介质的一个例子的截面构造轮廓的示意图；图2是示出了根据本专利技术具体实施方式的光记录介质的一个例子的基本部分的截面构造轮廓的示意图；图3是示出了在根据本专利技术具体实施方式的光记录介质中抖动和反射率相对于凹槽深度的变化的图表；图4是示出了在根据本专利技术具体实施方式的光记录介质中抖动相对于凹槽宽度的变化的图表；图5是示出了在根据本专利技术具体实施方式的光记录介质中1X速和16X速记录的记录功率相对于记录层材料的重量比的变化的图表；图6是示出了在根据本专利技术具体实施方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光记录介质，其包括一个含有有机染料的记录层，其中所述记录层至少具有：由下列化学式１（在该式中，Ｒ１表示碳数从１至４的烷基，Ｒ２和Ｒ３分别表示碳数从１至４的烷基和苯甲基或通过耦合形成３－６元环的基团，Ｙ１和Ｙ２的每个单独表示有机基团，并且Ｘ表示ＣｌＯ↓［４］，ＦＢ↓［４］，ＰＦ↓［６］和ＳｂＦ↓［６］）所示的通式表示的有机染料；和由下列化学式２（在该式中，Ｒ１和Ｒ４表示碳数从１至４的烷基，Ｒ２和Ｒ３分别表示碳数从１至４的烷基和苯甲基或通过耦合形成３－６元环的基团，Ｙ１和Ｙ２的每个单独表示有机基团，并且Ｘ表示ＣｌＯ↓［４］，ＦＢ↓［４］，ＰＦ↓［６］和ＳｂＦ↓［６］）所示的通式表示的有机染料，【化学式１】＊＊＊【化学式２】＊＊＊。

【技术特征摘要】
JP 2004-10-27 312944/041.一种光记录介质，其包括一个含有有机染料的记录层，其中所述记录层至少具有由下列化学式1(在该式中，R1表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3-6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO4，FB4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有机染料；和由下列化学式2(在该式中，R1和R4表示碳数从1至4的烷基，R2和R3分别表示碳数从1至4的烷基和苯甲基或通过耦合形成3-6元环的基团，Y1和Y2的每个单独表示有机基团，并且X表示ClO4，FB4，PF6和SbF6)所示的通式表示的有机染料，化学式1化学式22.根据权利要求1所述的光记录介质，其中该光记录介质的构成是在所述光记录介质的基片中提供的凹槽的凹槽深度D为100nm≤D≤200nm。3.根据权利要求1所述的光记录介质，其中该光记录介质的构成是在所述光记录介质的基片中提供的凹槽的凹槽宽度Wg为230nm≤Wg≤400nm。4.根据权利要求1所述的光记录介质，其中该光记录介质的构成是在所述化学式1中所示的有机染料是一种具有在下列化学式3中所示的结构式的材料，化学式35.根据权利要求1所述的光记录介质，其中该光记录介质的构成是在所述化学式2中所示的有机染料是一种具有在下列化学式4中所示的结构式的材料，化学式46.根据权利要求1所述的光记录介质，其中当将所述化学式1中所示的有机染料的重量设置为W1，将所述化学式2中所示的有机染料的重量设置为W2时，该光记录介质被构造为0.1≤W2/(W1+W2)≤.8。7.根据权利要求1所述的光记录介质，其中该光记录介质被构造为在所述记录层中添加一种减活剂。8.根据权利要求7所述的光记录介质，其中当将所述化学式1中所示的有机染料的重量设置为W1，所述化学式2中所示的有机染料的重...

【专利技术属性】
技术研发人员：和田丰，诹访部正次，岛田淳子，矢野亨，大矢桂二，滋野浩一，
申请(专利权)人：索尼株式会社，株式会社ADEKA，
类型：发明
国别省市：JP[日本]