一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置及其使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置及其使用方法，涉及无掩膜版曝光机技术领域，包括曝光机构，用于与曝光作业生产线对接，所述曝光机构的顶部设置有硅片本体，所述曝光机构包括机体，所述机体的内部设置有直线模组一以及直线模组二，所述直线模组一的顶部通过电动推杆一设置有承载板一，所述直线模组二的顶部设置有承载板二。通过设置曝光机构、曝光组件、喷胶烘干组件、支撑组件以及胶箱，该装置将喷胶和烘干工序合二为一，减少硅片本体在工序之间转运的时间，同时也降低了硅片本体喷胶后粘附灰尘的风险，保证了曝光作业的整体效率以及成品质量，符合经济效益，具有广阔的应用前景。广阔的应用前景。广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置及其使用方法


[0001]本专利技术涉及无掩膜版曝光机
，具体为一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置及其使用方法。

技术介绍

[0002]光刻是半导体制造行业最关键的技术之一，其曝光技术一般分为有掩膜曝光和无掩膜曝光两种，有掩膜曝光需要制作掩膜版，然后通过掩膜版将图形转移到其它感光材料上，此方法存在掩膜版制作周期长、价格高、灵活性差等缺点，限制了这项技术的应用发展；无掩膜曝光目前大部分采用光学投影成像的办法将空间光调制器DMD等电子器件产生的图像投影到待曝光的工件上，此方法灵活性好，无需掩膜版，但是这种曝光机在使用时还存在以下不足：硅片在进行曝光前需要进行清洗和喷涂光刻胶的流程，喷涂光刻胶后需要进行烘干，常规的喷胶装置结构单一，且与烘干为两个工序，之间的转移影响着加工效率，同时也容易造成喷胶后的硅片粘上灰尘，由于喷胶装置结构单一，导致喷胶的厚度无法保证，喷光刻胶的厚度均匀性会直接影响到曝光作业的效率，以及显影后的效果。

技术实现思路

[0003]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置及其使用方法，包括：曝光机构，用于与曝光作业生产线对接，所述曝光机构的顶部设置有硅片本体，所述曝光机构包括机体，所述机体的内部设置有直线模组一以及直线模组二，所述直线模组一的顶部通过电动推杆一设置有承载板一，所述直线模组二的顶部设置有承载板二，所述承载板一以及承载板二的内部均设置有用于吸附硅片本体的吸盘；曝光组件，用于对喷胶后的所述硅片本体进行曝光作业，所述曝光组件包括设置于机体顶部的曝光机；喷胶烘干组件，用于对清洗后的所述硅片本体进行喷胶和烘干操作，所述喷胶烘干组件包括设置于机体顶部的箱体，所述箱体的内部设置有电机，所述箱体的顶部设置有顶盖，所述顶盖的底部设置有软烘组件；所述软烘组件包括出风板，所述出风板的顶部设置有电加热丝，所述顶盖的底部设置有弹簧，所述弹簧的底端与出风板的顶部固定连接，所述顶盖的内部设置有数量不少于一个的风机，所述顶盖的内部设置有喷胶头，所述箱体的内部设置有收集筒，用于对喷胶过程中溢出的胶水进行收集，所述收集筒的底部通过收集管设置有汇合筒，所述电机的输出端延伸至收集筒的内部并设置有负压筒，所述负压筒的表面通过密封轴承设置有固定板，所述固定板的内部设置有与负压筒内部相连通的气管，所述气管远离负压筒的一端贯穿至箱体的外部，通过负压筒连接负压设备，维持所述负压腔内部的负压状态；支撑组件，用于对所述硅片本体进行上料和下料的操作，所述支撑组件包括设置
于箱体内部的电动推杆二，所述电动推杆二的顶部设置有一端延伸至收集筒内部的连接杆；胶箱，用于储存和回收光刻胶，所述胶箱设置于机体的顶部，所述胶箱的顶部设置有用于抽取胶箱内部的光刻胶向喷胶头输送的泵机，所述胶箱的顶部设置有一端贯穿箱体并延伸至汇合筒内部的回收管。
[0004]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述直线模组二的顶部设置有直线模组三，所述承载板二设置于直线模组三的顶部，启动所述直线模组二和直线模组三，实现对所述承载板二的前后左右位移，所述曝光机的顶部设置有一端与机体顶部固定连接的支撑架。
[0005]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述负压筒的表面开设有数量不少于一个的负压孔，所述负压筒的顶部设置有橡胶垫，所述硅片本体设置于橡胶垫的顶部，所述电机输出轴的表面通过密封轴承与收集筒的内部活动套接，所述汇合筒的底部设置有支杆且支杆的底部与箱体内壁的底部固定连接。
[0006]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述电动推杆二的顶部设置有支撑板，所述电动推杆二的数量为两个，两组所述支撑板之间通过连接板固定连接，所述连接杆设置支撑板的顶部，所述连接杆的顶部设置有位于硅片本体下方的顶板。
[0007]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述箱体内壁的两侧均依次开设有滑腔以及限位槽，所述滑腔的内部设置有活动杆，所述活动杆的顶端与顶盖的底部固定连接，所述活动杆的表面设置有联动杆，所述联动杆远离活动杆的一端贯穿限位槽并与连接板的一端固定连接。
[0008]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述顶盖的底部开设有连接腔，所述弹簧设置于连接腔的内部，所述连接腔的内部设置有稳定杆，所述稳定杆的底端与出风板的顶部固定连接，所述出风板的顶部设置有围挡，所述电加热丝设置于围挡的内部。
[0009]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述出风板的内部开设有匀风腔，所述匀风腔内壁的顶部和底部分别开设有相互错开的出风孔，所述出风板的顶部依次设置有橡胶筒一和橡胶筒二，所述橡胶筒一的直径大于橡胶筒二。
[0010]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述汇合筒呈倾斜设置，所述泵机的输出端活动设置有软管，软管远离泵机输送端的一端固定设置有输送管，所述输送管远离软管的一端与喷胶头的顶部固定连接。
[0011]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述气管位于固定板和收集筒之间的一段表面设置有导料筒，所述收集筒的顶部开设有料孔，所述收集筒内壁的底面呈锥形设置，所述收集筒内壁的底部设置有导料板。
[0012]一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置的使用方法，包括以下步骤：S1、与生产线对接，将机体的左端与曝光作业产线的硅片清洗工序对接，清洗后的硅片本体流至承载板一上，启动吸盘吸附，同时启动直线模组一将清洗后的硅片本体输送至喷胶烘干组件；S2、支撑组件进行上料，启动电动推杆一举升承载板一，同时启动电动推杆二，电动推杆二通过连接板带动联动杆和活动杆上升，使得活动杆带动顶盖上升，使得顶盖与箱体脱离，同时连接板带动顶板上升，顶板到位后的高度低于承载板一，启动直线模组一继续移动，使得承载板一插入两组顶板之间，启动电动推杆一下降，同时关闭吸盘，使得硅片本
体落到顶板上，启动直线模组一带动承载板一远离箱体，准备执行下一次转移硅片本体的操作；S3、对硅片本体进行喷胶，启动电动推杆二复位，使得顶盖与箱体闭合，同时硅片本体与橡胶垫贴合，通过负压管连接负压设备，使得硅片本体紧紧吸附在橡胶垫上，启动泵机抽取胶箱内部的光刻胶输送至喷胶头，光刻胶通过喷胶头滴落在硅片本体上；S4、对溢出的光刻胶进行回收，启动电机带动负压筒转动，负压筒转动时通过橡胶垫带动硅片本体转动，光刻胶借助离心作用伸展到整个硅片本体表面，并持续旋转甩去多余的光刻胶，在硅片上得到均匀的光刻胶胶膜覆盖层，多余的光刻胶甩在收集筒的内壁上并滑落，通过导料板进入收集管和汇合筒的内部，最终通过回收管重洗进入胶箱的内部；S5、对喷胶后的硅片本体进行烘干，喷胶完成后关闭负压设备，使得负压筒脱离对硅片本体的吸附，再次启动支撑组件，使得硅片本体被顶板举升，同时顶盖上升，顶盖上升时，弹簧回弹抵触出风板，使得出风板下降靠近硅片本体，同时远离喷胶头，启动风机以及电加热丝，风机抽取外部的空气进入围挡内部，经过电加热丝的加热后，热空气通过出风孔吹向硅片本体上，使得光刻胶干燥粘附在硅片本体上；S6、对烘干后的硅片本体进行曝光，烘干完成后，启动直线模组二通过直线模组三带动承载板二插入两个顶板之间，启动电动推杆二下降，使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置，其特征在于，包括：曝光机构（1），用于与曝光作业生产线对接，所述曝光机构（1）的顶部设置有硅片本体（5），所述曝光机构（1）包括机体（11），所述机体（11）的内部设置有直线模组一（12）以及直线模组二（15），所述直线模组一（12）的顶部通过电动推杆一（13）设置有承载板一（14），所述直线模组二（15）的顶部设置有承载板二（17），所述承载板一（14）以及承载板二（17）的内部均设置有用于吸附硅片本体（5）的吸盘；曝光组件（2），用于对喷胶后的所述硅片本体（5）进行曝光作业，所述曝光组件（2）包括设置于机体（11）顶部的曝光机（22）；喷胶烘干组件（3），用于对清洗后的所述硅片本体（5）进行喷胶和烘干操作，所述喷胶烘干组件（3）包括设置于机体（11）顶部的箱体（31），所述箱体（31）的内部设置有电机（311），所述箱体（31）的顶部设置有顶盖（32），所述顶盖（32）的底部设置有软烘组件（321）；所述软烘组件（321）包括出风板（3211），所述出风板（3211）的顶部设置有电加热丝（3213），所述顶盖（32）的底部设置有弹簧（324），所述弹簧（324）的底端与出风板（3211）的顶部固定连接，所述顶盖（32）的内部设置有数量不少于一个的风机（328），所述顶盖（32）的内部设置有喷胶头（327），所述箱体（31）的内部设置有收集筒（33），用于对喷胶过程中溢出的胶水进行收集，所述收集筒（33）的底部通过收集管（332）设置有汇合筒（38），所述电机（311）的输出端延伸至收集筒（33）的内部并设置有负压筒（34），所述负压筒（34）的表面通过密封轴承设置有固定板（35），所述固定板（35）的内部设置有与负压筒（34）内部相连通的气管（36），所述气管（36）远离负压筒（34）的一端贯穿至箱体（31）的外部，通过负压筒（34）连接负压设备，维持所述负压腔内部的负压状态；支撑组件（4），用于对所述硅片本体（5）进行上料和下料的操作，所述支撑组件（4）包括设置于箱体（31）内部的电动推杆二（41），所述电动推杆二（41）的顶部设置有一端延伸至收集筒（33）内部的连接杆（44）；胶箱（6），用于储存和回收光刻胶，所述胶箱（6）设置于机体（11）的顶部，所述胶箱（6）的顶部设置有用于抽取胶箱（6）内部的光刻胶向喷胶头（327）输送的泵机（61），所述胶箱（6）的顶部设置有一端贯穿箱体（31）并延伸至汇合筒（38）内部的回收管（63）。2.根据权利要求1所述的一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置，其特征在于：所述直线模组二（15）的顶部设置有直线模组三（16），所述承载板二（17）设置于直线模组三（16）的顶部，启动所述直线模组二（15）和直线模组三（16），实现对所述承载板二（17）的前后左右位移，所述曝光机（22）的顶部设置有一端与机体（11）顶部固定连接的支撑架（21）。3.根据权利要求1所述的一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置，其特征在于：所述负压筒（34）的表面开设有数量不少于一个的负压孔（341），所述负压筒（34）的顶部设置有橡胶垫（342），所述硅片本体（5）设置于橡胶垫（342）的顶部，所述电机（311）输出轴的表面通过密封轴承与收集筒（33）的内部活动套接，所述汇合筒（38）的底部设置有支杆且支杆的底部与箱体（31）内壁的底部固定连接。4.根据权利要求1所述的一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置，其特征在于：所述电动推杆二（41）的顶部设置有支撑板（42），所述电动推杆二（41）的数量为两个，两组所述支撑板（42）之间通过连接板（43）固定连接，所述连接杆（44）设置支撑板（42）的顶部，所述连接杆（44）的顶部设置有位于硅片本体（5）下方的顶板（45）。
5.根据权利要求1所述的一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置，其特征在于：所述箱体（31）内壁的两侧均依次开设有滑腔（312）以及限位槽（313），所述滑腔（312）的内部设置有活动杆（314），所述活动杆（314）的顶端与顶盖（32）的底部固定连接，所述活动杆（314）的表面设置有联动杆（315），所述联动杆（315）远离活动杆（314）的一端贯穿限位槽（313）并与连接板（43）的一端固定连接。6.根据权利要求1所述的一种基于无掩膜版工艺的快速曝光装置，其特征在于：所述顶盖（32）的底部开设有连接腔（322）...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴尚，张翔，熊宝星，袁孝，
申请(专利权)人：南京科天光电工程研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：