可测量物质在超高压条件下的二次谐波的装置及其应用制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种可测量物质在超高压条件下的二次谐波的装置，包括激光激发部，提供入射激光，并将入射激光转换为偏振光；显微光路部，改变所述偏振光的光路，至该偏振光聚焦到待测样品上，激发二次谐波并使该二次谐波沿入射激光原光路返回；载物部，包含金刚石对顶砧压机，以放置并固定待测样品；以及信号接收部，接收显微光路部中返回的二次谐波的激光信号并将该激光信号转换成电信号。通过该装置，在改变环境压力的情况下，排除外界干扰从而准确无误的采集粉末样品的二次谐波强度随压力的变化以及变压下单晶样品的二次谐波强度随入射激光极化角度的变化，最终实现在DAC内原位高压二次谐波测量。本发明专利技术还公开了测量物质在超高压条件下的二次谐波的方法。在超高压条件下的二次谐波的方法。在超高压条件下的二次谐波的方法。

【技术实现步骤摘要】
可测量物质在超高压条件下的二次谐波的装置及其应用


[0001]本专利技术涉及极端条件下非线性光学原位测量的
更具体地，涉及一种可测量物质在超高压条件下的二次谐波的装置及其应用。

技术介绍

[0002]金刚石对顶砧(Diamond Anvil Cell,简称DAC)是目前唯一能够产生百万大气压静态压力的科学装置，是高压科学与技术研究领域中最重要的科学仪器。近些年来，利用DAC上各种原位测量方法，人们已经发现了很多压力诱导的奇异物性，获得了有关原子排列结构，晶格振动模式，电子能级结构等在内的重要物理学参量，了解了众多物质在超高压的环境下的结构，电学，光学，化学键等物理性质。然而，时至今日，DAC内的二次谐波的测量依然处于起步阶段。由于二次谐波的测量具有诸多不确定性因素，目前很少有在DAC装置中测试样品二次谐波的工作。如果可以实现高压下样品二次谐波的测量，不仅可以推动高压下非线性光学领域的进步，同时，与高压下其他测试方法的结合，更加有利于为高压科学研究提供更宽广的视域，将有更多的新奇的高压现象被揭示，推动高压科学的发展。<br/>[0003]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可测量物质在超高压条件下的二次谐波的装置，其特征在于，包括：激光激发部，提供入射激光，并将入射激光转换为偏振光；显微光路部，改变所述偏振光的光路，至该偏振光聚焦到待测样品上，激发二次谐波并使该二次谐波沿入射激光原光路返回；载物部，包含金刚石对顶砧压机，以放置并固定待测样品；以及信号接收部，接收显微光路部中返回的二次谐波的激光信号并将该激光信号转换成电信号。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述激光激发部中包括：激光器，提供入射激光；可自由旋转的起偏镜，接收并将所述入射激光转换为偏振光。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述激光器为皮秒激光器；所述入射激光波长为1064nm。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述显微光路部中包括若干全反射镜、第一分束镜和位于全反射镜与待测样品之间的物镜。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述信号接收部中包括：滤光片，位于光电倍增管与第一分束镜之间，接收透过第一分束镜的波长为...

【专利技术属性】
技术研发人员：王永刚，姜德泉，李娜娜，
申请(专利权)人：北京高压科学研究中心，
类型：发明
国别省市：