【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具有防反射膜的光学元件以及使用它的光拾取装置。
技术介绍
以往，作为使用波长约780nm光束的CD、或使用波长635-650nm光束的DVD等信息记录介质进行信息记录再现的装置，有光拾取装置。该光拾取装置通过使由光源射出的光束通过准直镜或物镜等光学元件在信息记录介质的记录面上进行聚光，进行信息的记录再现。近年来，作为用于这种光拾取装置的信息记录介质，开发了使用波长约405nm光束的高密度DVD，例如AOD(Advanced Optical Disc)或BD(Blu-ray Disc)等。就与该高密度DVD对应的光拾取装置来说，可通过层叠多个低折射率层和高折射率层形成光学元件的防反射膜，提高光学元件的耐光性(例如，参见特开2005-11494号公报)。另外，在对于CD、DVD和高密度DVD三种信息记录介质具有兼容性的光拾取装置中，也可通过层叠多个低折射率层和高折射率层形成光学元件的防反射膜，分别防止相对于三个波长光束的反射，或使聚光光点小径化，或良好地保持透射光量的平衡(例如，参见特开2005-31361号公报)。但是，在上述特开2005-1149...
【技术保护点】
光学元件，具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜，其特征在于，上述防反射膜具有多个折射率相对于波长４５０ｎｍ的光束为１．４－１．６的低折射率层、和多个折射率相对于波长４５０ｎｍ的光束为１．８－２．２的高折射率层，同时上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少２个低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。
【技术特征摘要】
JP 2005-8-3 2005-2254061.光学元件，具有基材和在该基材表面上形成的防反射膜，其特征在于，上述防反射膜具有多个折射率相对于波长450nm的光束为1.4-1.6的低折射率层、和多个折射率相对于波长450nm的光束为1.8-2.2的高折射率层，同时上述多个低折射率层和上述多个高折射率层交替层叠形成，并且在多个上述低折射率层中，至少2个低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。2.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，该元件被设置在使用由光源出射的光束进行信息记录和/或再现的光拾取装置的光路上。3.权利要求2记载的光学元件，其特征在于，是使由波长350-450nm中至少特定波长的单色光组成的光束汇聚在信息记录介质上的物镜。4.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，彼此主成分相同，且副成分的含有比率不同的至少一对上述低折射率层介于一层上述高折射率层相邻。5.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，各低折射率层与通过一个上述高折射率层相邻的其它上述低折射率层彼此主成分相同、而副成分含有比率不同。6.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，上述低折射率层的主成分是二氧化硅。7.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，上述低折射率层的副成分是氧化铝。8.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，上述高折射率层由氧化铪、氧化锆、氧化钛、氧化镁、氧化镧、钛酸锆、氧化钽、氧化硅、氧化钍、氧化钇、氧化镨和氧化钪中任意单体或混合物形成。9.权利要求8记载的光学元件，其特征在于，上述高折射率层由氧化锆形成。10.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，上述防反射膜以7-9层形成。11.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，在上述防反射膜所含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为100-130nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为10-14nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为28-36nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为46-60nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为13-17nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为44-55nm，第7接近上述基材侧的第7层的膜厚为75-95nm。12.权利要求1记载的光学元件，其特征在于，在上述防反射膜所含有的层中，最接近上述基材侧的第1层的膜厚为85-105nm，第2接近上述基材侧的第2层的膜厚为11-15nm，第3接近上述基材侧的第3层的膜厚为30-38nm，第4接近上述基材侧的第4层的膜厚为54-68nm，第5接近上述基材侧的第5层的膜厚为20-25nm，第6接近上述基材侧的第6层的膜厚为34...
【专利技术属性】
技术研发人员：高国彦，太田达男，中村胜也，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达精密光学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]
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