缓冲件、层叠缓冲件以及缓冲件的制造方法技术

本发明专利技术提供缓冲件、层叠缓冲件以及缓冲件的制造方法，提供在两个面分别具有凹凸形状同时简化了构造的缓冲件和层叠缓冲件，另外提供对于得到所述缓冲件适合的缓冲件的制造方法。缓冲件(1)具有两个面(F1、F2)。缓冲件(1)为由发泡树脂形成的单一构件。在两个面(F1、F2)中的某一个面具有一面侧凹凸形状。在两个面(F1、F2)中的另一个面具有另一面侧凹凸形状。所述另一面侧凹凸形状的排列间距(P2)比所述一面侧凹凸形状的排列间距(P1)长。侧凹凸形状的排列间距(P1)长。侧凹凸形状的排列间距(P1)长。

【技术实现步骤摘要】
缓冲件、层叠缓冲件以及缓冲件的制造方法


[0001]本专利技术涉及缓冲件、层叠缓冲件以及缓冲件的制造方法。

技术介绍

[0002]在以往的缓冲件中，有的缓冲件在表面和背面这两个面分别具有不同的凹凸形状(例如参照专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2019－54937号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]但是，上述以往的缓冲件通过利用粘接剂将两张片体粘贴在一起而形成。因而，在简化构造这个方面，上述以往的缓冲件存在改善的余地。
[0008]本专利技术的目的在于提供在两个面分别具有凹凸形状同时简化了构造的缓冲件和层叠缓冲件，还提供对于得到所述缓冲件适合的缓冲件的制造方法。
[0009]用于解决问题的方案
[0010]本专利技术的缓冲件为具有两个面的缓冲件，所述缓冲件为由发泡树脂形成的单一构件，在所述两个面中的某一个面具有一面侧凹凸形状，在所述两个面中的另一个面具有另一面侧凹凸形状，所述另一面侧凹凸形状的排列间距比所述一面侧凹凸形状的排列间距长。根据本专利技术的缓冲件，在两个面分别具有凹凸形状，同时简化了构造。
[0011]另外，在本专利技术的缓冲件中优选的是，所述一面侧凹凸形状由多个一面侧凹凸部构成，所述多个一面侧凹凸部在俯视时沿着预定方向和相对于所述预定方向交叉的交叉方向分别排列，所述另一面侧凹凸形状由多个另一面侧凹凸部构成，所述多个另一面侧凹凸部在俯视时仅沿着所述预定方向和所述交叉方向中的某一个方向排列，并且沿着所述预定方向和所述交叉方向中的另一个方向延伸。在该情况下，所述缓冲件的一个面能够作为压力分散性优异的面使用，另外，所述缓冲件的另一个面能够作为透气性优异的面使用。
[0012]另外，在本专利技术的缓冲件中优选的是，所述一面侧凹凸部包括一面侧凸部和一面侧凹部，所述一面侧凸部为锥体状，所述一面侧凹部为倒锥体状，所述另一面侧凹凸部包括另一面侧凸部和另一面侧凹部，所述另一面侧凹凸形状为平面波状。在该情况下，所述缓冲件的一个面能够作为压力分散性更优异的面使用，另外，所述缓冲件的另一个面能够作为透气性更优异的面使用。
[0013]本专利技术的层叠缓冲件具备两个缓冲件，所述两个缓冲件中的至少一个为上述的缓冲件，所述两个缓冲件中的一个所述缓冲件和另一个所述缓冲件以所述两个缓冲件中的所述至少一个的所述另一个面与所述另一个所述缓冲件相对的方式层叠配置。根据本专利技术的层叠缓冲件，在两个面分别具有凹凸形状，同时简化了构造。
[0014]在本专利技术的层叠缓冲件中优选的是，所述两个缓冲件分别为上述的缓冲件，一个所述缓冲件和另一个所述缓冲件以所述一个所述缓冲件的所述另一个面与所述另一个所述缓冲件的所述另一个面相对的方式层叠配置。在该情况下，在两个面分别具有凹凸形状，同时进一步简化了构造。
[0015]本专利技术的缓冲件的制造方法为用于得到上述缓冲件的缓冲件的制造方法，该缓冲件的制造方法包括：第1加工工序，在该第1加工工序中，通过对由发泡树脂形成的单一基材的一面侧表层部和另一面侧表层部分别进行二维加工，来形成所述缓冲件的所述另一个面；去除工序，在该去除工序中，将在所述第1加工工序中产生的所述基材的废料从该基材去除；以及第2加工工序，在该第2加工工序中，通过对所述去除工序后的所述基材进行外形加工，来形成所述缓冲件的所述一个面。本专利技术的缓冲件的制造方法对于得到上述缓冲件是适合的。
[0016]专利技术的效果
[0017]根据本专利技术，能够提供在两个面分别具有凹凸形状同时简化了构造的缓冲件和层叠缓冲件，另外能够提供对于得到所述缓冲件适合的缓冲件的制造方法。
附图说明
[0018]图1是概略地表示本专利技术的一实施方式的缓冲件的立体图。
[0019]图2是图1的缓冲件的侧视图。
[0020]图3是图1的缓冲件的主视图。
[0021]图4是概略地表示本专利技术的一实施方式的层叠缓冲件的俯视图、主视图以及右视图。
[0022]图5是表示图4的区域A的放大图。
[0023]图6是概略地表示本专利技术的另一实施方式的层叠缓冲件的俯视图、主视图以及右视图。
[0024]图7是将本专利技术的一实施方式的在缓冲件的制造方法的第1加工工序中进行了二维加工的基材以保持残留有由该二维加工产生的废料的状态概略地表示的侧视图。
[0025]图8是概略地从正面表示在图7的第1加工工序中进行的二维加工的一例的剖视图。
[0026]图9是概略地从侧面表示在图7的第1加工工序中进行的二维加工的剖视图。
[0027]图10是概略地表示在图7的第1加工工序后的去除工序中将废料从图7的二维加工完毕的基材去除之后进而在所述去除工序后的第2加工工序中进行了外形加工的该基材的侧视图。
[0028]图11是概略地从正面表示在图10的第2加工工序中进行的外形加工的一例的图10的X
‑
X剖视图。
[0029]图12是概略地从侧面表示在图10的第2加工工序中进行的外形加工的一例的图11的X
‑
X剖视图。
[0030]图13是概略地表示使用图10的二次加工完毕基材来形成本实施方式的层叠缓冲件的工序的侧视图。
[0031]图14是对于本专利技术的又一实施方式的缓冲件的表面侧凹凸形状的一例放大地表
示该表面侧凹凸形状的局部的俯视图。
[0032]图15是进一步放大地表示图14的局部的立体图。
[0033]附图标记说明
[0034]1、缓冲件；1A～1B、缓冲件；1a～1d、缓冲件；2、表面侧凹凸部(一面侧凹凸部)；2a、表面侧凸部(一面侧凸部)；2b、表面侧凹部(一面侧凹部)；3、背面侧凹凸部(另一面侧凹凸部)；3a、背面侧凸部(另一面侧凸部)；2b、背面侧凹部(另一面侧凹部)；10、层叠缓冲件；10A、层叠缓冲件；20、层叠缓冲件；20A、层叠缓冲件；50、仿形刀片(contour blade)；60、按压辊；60a～60b、按压辊；61、按压辊的突起；70、仿形刀片；100、基材；101、一面侧表层部；102、另一面侧表层部；103、一次加工完毕基材；104、二次加工完毕基材；DL、长度方向；DW、宽度方向；DT、厚度方向；F1、表面(一个面)；F2、背面(另一个面)；L、方向；P1、表面侧凹凸形状(一面侧凹凸形状)的排列间距；P2、背面侧凹凸形状(另一面侧凹凸形状)的排列间距；S1～S2、废料；T、厚度；W、宽度。
具体实施方式
[0035]以下参照附图说明本专利技术的一实施方式的缓冲件、层叠缓冲件以及缓冲件的制造方法。
[0036][缓冲件][0037]在图1中，附图标记1为本专利技术的一实施方式的缓冲件。在本实施方式中，缓冲件1为矩形的片。在本实施方式中，缓冲件1的长度L比该缓冲件1的宽度W长。另外，缓冲件1的厚度T比该缓冲件1的宽度W小。在本实施方式中，缓冲件1为床垫。在图1中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种缓冲件，该缓冲件具有两个面，其中，所述缓冲件为由发泡树脂形成的单一构件，在所述两个面中的某一个面具有一面侧凹凸形状，在所述两个面中的另一个面具有另一面侧凹凸形状，所述另一面侧凹凸形状的排列间距比所述一面侧凹凸形状的排列间距长。2.根据权利要求1所述的缓冲件，其中，所述一面侧凹凸形状由多个一面侧凹凸部构成，所述多个一面侧凹凸部在俯视时沿着预定方向和相对于所述预定方向交叉的交叉方向分别排列，所述另一面侧凹凸形状由多个另一面侧凹凸部构成，所述多个另一面侧凹凸部在俯视时仅沿着所述预定方向和所述交叉方向中的某一个方向排列，并且沿着所述预定方向和所述交叉方向中的另一个方向延伸。3.根据权利要求2所述的缓冲件，其中，所述一面侧凹凸部包括一面侧凸部和一面侧凹部，所述一面侧凸部为锥体状，所述一面侧凹部为倒锥体状，所述另一面侧凹凸部包括另一面侧凸部和另一面侧凹部，所述另一面侧凹凸形状为平面波状。4.一种层叠缓冲件，其中，该层叠缓冲件具备两个缓冲件，所述两个缓冲件中的至少一个...

【专利技术属性】
技术研发人员：古贺义英，关川辉一，萩原翔，
申请(专利权)人：株式会社普利司通，
类型：发明
国别省市：