记录介质及其制造方法、用于记录介质的母盘及其制造方法技术

技术编号:3051365 阅读:121 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
预先记录在最内侧的边缘侧的二进制信息能被稳定地再现。记录介质通过顺序地在基板(1)上层叠第一信息层(2)、中间层(3)、第二信息层(4)和覆盖层(5)形成。第一组事先形成于基板(1)的最内侧周缘区域内,和第二组事先形成于记录数据的区域内。第一组被设置为比第二组更浅或更窄。结果,BCA信号更少地被组的衍射调制。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种记录介质及其制造方法,用于该记录介质的母盘及其制 造方法。更具体地,本专利技术涉及至少具有第一信息层和第二信息层的记录介 质。
技术介绍
作为在DVD (数字通用盘,Digital Versatile Disc ) -ROM (只读存储器, Read Only Memory)和记录型DVD等中一种版权保护技术,为介质所特有 的并被称作介质ID的二进制信息被预先记录在最里面的边缘侧区域(称为 BCA (群刻区,Burst Cutting Area))和被记录的内容凄t据通过使用该介质 ID力口密。也在比如蓝光光盘(Blu-ray disc)(注册商标;在下文称为BD)的高 密度光盘中,如在JP-A-2005-518055中所描述的,提出了类条码标记(在下 文称为BCA标记)作为二进制信息被记录到最里面的边缘侧区域中的这样 的技术。在JP-A-2005-518055中,公开了下面的技术BCA标记通过使用相变 记录膜的结晶状态和非晶状态被记录;沟槽或凹坑以五倍或更多于相邻区域 的轨道节距的轨道节距形成于BCA中;BCA标记形成于径向的方向以^争过 多个轨道等。此外,在JP-A-2005-518055中,公开了下面的4支术在再现 BCA标记的情况,BCA标记的变化通过比较使用沟槽再现BCA标记时由跟 踪伺服控制获得的再现波形和没有使用跟踪伺服控制再现BCA标记获得的 再现波形来探测。在信号被记录到正常轨道的记录区域中,信号在激光束的斑点通过聚焦 伺服控制对焦到信号表面和轨道通过跟踪伺服控制被精确地跟踪的状态被 记录或再现。在另一方面,BCA是考虑到使得信息在仅获得根据聚焦伺服 控制的对焦状态而不进行跟踪伺服控制的状态下能被更容易的读出的目的 而形成的区域。也对于BCA,々支定沟槽(即4九道)已形成和对应于相变系统的信号记录层已连续地从例如导入区(lead-in area)形成。在如上所述的形成以具有 对应于相变系统的信号记录层的BCA中,BCA标记可以如下形成。例如,在制造阶段,在初始化之前的状态,信号记录层为非晶状态。例 如,对于数据区域,通过由例如红色高功率激光的激光束照射整个区域来执 行初始化,该层从非晶状态变化到结晶状态。BCA的信号记录层在初始化 之前也为非晶状态。关于初始化,信号记录层不是通过初始化整个BCA而 被设置成结晶状态,而是通过照射激光束仅到与BCA标记一致的周缘方向 中的期望部分,例如对应于盘ID的内容的条形码的图形,而被设置成结晶 状态。作为这样的步骤的结果,在BCA中,通过基于沿周缘方向预定宽度 的非晶状态的条形部分和在结晶状态的条形部分的图形以条形码形式执行 信息记录。近年来,为了在可记录的DVD或高密度光盘中提高存储容量,提出了 多层盘的记录和再现格式。在两层的高密度光盘中,例如两层的BD, BCA 标记被记录到位于信息读取侧的边缘侧上的信息层中(称为L0层;位于这 侧的信息层称为Ll层)。图14示出了这样的双层BD的BCA标记的再现信号的波形的实例(在 没有跟踪伺服控制的情况)。在结晶状态,因为反射系数高,所以获得高电 平(level) IH的再现信号。在非晶状态,因为反射系数低,所以获得低电平 IL的再现信号。然而,在相关技术的高密度光盘中,例如在BD中,当没有跟踪伺服控 制时,再现激光束从多个沟槽读取BCA标记。信号通过由沟槽引起的衍射 调制。这样,存在这样的缺陷,如图14所示,由于沟槽信号的串扰,电平 波动发生在BCA标记的再现信号中,BCA标记的信号再现变得不稳定。根据BD的标准,作为适于稳定地再现BCA标记的参考,指定BCA标 记的再现信号的高电平IH和低电平IL之间的比率IH/IL (也称为对比度) 等于或大于4倍。如图14中所示,当电平波动大时,高电平的最小值IHmin 和低电平的最大值ILmax之间的比率难以满足前述的标准值。因此,本专利技术的目标是提供一种记录介质及其制造方法,记录介质的母 盘及其制造方法,其中预先记录在最内侧的边缘侧区域的二进制信息能被稳 定地再现。
技术实现思路
为了解决上述问题,根据第一专利技术,提供了至少具有第一信息层和位于 第一信息层之上的第二信息层的记录介质,其中,第 一信息层形成于预先在第 一 区域内形成有第 一沟槽和在第二区域内 形成有第二沟槽的基板上,第二信息层形成于位于第一信息层上并且其上预先形成有第三沟槽的 透明中间层上,透明保护层形成于第二信息层上,预定的二进制信息预先被记录在第一沟槽上,和第 一 沟槽比第二沟槽更浅或更窄。根据本专利技术的第二专利技术,提供了记录介质的母盘,用于制造其上形成有 记录介质的第 一信息层的基板,该记录介质至少具有第 一信息层和位于第一 信息层之上的第二信息层,其中,第一沟槽形成于第一区域内和第二沟槽形成于第二区域内,和第一沟槽比第二沟槽更浅和/或更窄。根据本专利技术的第三专利技术,提供了记录介质的制造方法,包括步骤 转移压才莫的转移表面的形状到树脂材料并成型基板;形成第 一信息层到基板上; 形成中间层到第 一信息层上; 形成第二信息层到中间层上;以及 形成透明保护层到第二信息层上, 其中,该压;^莫具有形成第 一沟槽到基板的最内侧的边缘区域中的第 一压模沟槽, 形成第二沟槽到基板的数据记录区域中的第二压模沟槽,和 第 一压模沟槽比第二压模沟槽更浅或更窄。根据本专利技术的第四专利技术,提供了记录介质的母盘的制造方法,包括步骤有形成抗蚀剂层到基板上;通过曝光存在于基板的最内侧的边缘区域中的抗蚀剂层形成第 一 沟槽 图形;通过曝光存在于基板的数据记录区域中的抗蚀剂层形成第二沟槽图形;和显影曝光的抗蚀剂层,其中形成第一沟槽图形的曝光束的功率小于形成第二沟槽图形的曝光 束的功率。根据本专利技术,因为在最内侧的边缘区域中的每个沟槽的深度和宽度比在 数据记录区域中的每个沟槽的深度和宽度更浅或更窄,所以由于在最内侧的 边缘区域中的沟槽所引起的衍射的信号被调制的情况被抑制。也就是,发生 在最内侧的边缘区域中的二进制信息的信号再现中的电平波动能被减少。根据本专利技术,通过设置在最内侧的边缘区域中的每个沟槽的深度和宽度 比在数据记录区域中的每个沟槽的深度和宽度更浅或更窄,由沟槽引起的衍射减小和二进制信息能被;f艮好地再现。 附图说明图1是解释L0层的反射率和Ll层的反射率之间的关系的示意图, 图2是示出反射率R,和反射率Ro之间的关系的图, 图3是示出反射率和调制度之间的关系的图, 图4是示出对比度Rc/Ra和反射率Rc之间的关系的图, 图5是示出根据本专利技术实施例的光盘的结构的实例的剖面图, 图6是示出根据本专利技术实施例的光盘的更具体的构造的实例的剖面图, 图7是示出根据本专利技术实施例的光盘的具体的膜构造的实例的剖面图, 图8是概念地示出根据本专利技术实施例的光盘的LO层的沟槽的排列的实 例的示意图,图9是解释根据本专利技术实施例的光盘的制造方法的实例的示意图, 图10是解释根据本专利技术实施例的光盘的制造方法的实例的剖面图, 图11是解释按照本专利技术实施例的光盘的制造方法的实例的剖面图, 图12是示出用来制造玻璃母盘的光学记录设备的构造的示意图, 图13是解释实施例的光盘的制造方法的剖面图,以及 图14是示出双层BD的BCA标记的再现信号的波本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种至少具有第一信息层和位于所述第一信息层之上的第二信息层的记录介质,其中所述第一信息层形成于基板上,在所述基板中第一沟槽预先形成于第一区域内和第二沟槽预先形成于第二区域内,所述第二信息层形成于位于所述第一信息层上并且其上预先形成有第三沟槽的透明中间层上,透明保护层形成于所述第二信息层上,预定的二进制信息被预先记录在所述第一沟槽上,以及所述第一沟槽比所述第二沟槽更浅或更窄。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-11-17 333458/2005;JP 2006-11-14 308483/2001.一种至少具有第一信息层和位于所述第一信息层之上的第二信息层的记录介质,其中所述第一信息层形成于基板上,在所述基板中第一沟槽预先形成于第一区域内和第二沟槽预先形成于第二区域内,所述第二信息层形成于位于所述第一信息层上并且其上预先形成有第三沟槽的透明中间层上,透明保护层形成于所述第二信息层上,预定的二进制信息被预先记录在所述第一沟槽上,以及所述第一沟槽比所述第二沟槽更浅或更窄。2. 如权利要求1所述的记录介质,其中所述第一和所述第二信息层是相变型记录层,和所述预定的二进制信息 在初始化所述第一信息层时被记录。3. 如权利要求1所述的记录介质,其中所述第一信息层是由SbTe系共晶系材料制成的相变型记录层。4. 如权利要求1所述的记录介质,其中在形成压模以成型所述基板的切割步骤,对应于所述第一沟槽的曝光的激光的功率纟皮设置为小于对应于所述第二沟槽的曝光的激光的功率,和制造 了所述记录介质。5. 如权利要求1所述的记录介质,其中 所述第一沟槽的深度位于从0.9至16.7nm的范围内。6. 如权利要求1所述的记录介质,其中所述第一沟槽的相深度位于从V304.8n至Xyi6.4n的范围内,其中,X: 记录或再现激光束的波长,n:透明中间层对所述记录或再现激光束的折射率。7. 如权利要求1所述的记录介质,其中 所述第一沟槽的宽度位于从55到126nm的范围内。8. 如权利要求1所述的记录介质,其中所述第一沟槽的沟槽宽度/轨道节距位于从0.0275至0.063的范围内。9. 如权利要求1所述的记录介质,其中 所述二进制信息被记录成条形码状标记。10. 如权利要求1所述的记录介质,其中所述第 一 区域是最内侧的边缘区...

【专利技术属性】
技术研发人员:远藤惣铭猪狩孝洋渡边诚竹本宏之铃木忠男大友胜彦浅野佑子中山比吕史
申请(专利权)人:索尼株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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