一种立式批处理炉组件包括芯管、外壳、由外壳和芯管界定并包围的冷却室以及在冷却室中发出的至少一个冷却气体供应。芯管具有沿纵向方向延伸的细长周向壁，并且配置成容纳晶片以在立式批处理炉组件中进行处理。外壳围绕芯管延伸并包括加热元件，用于对容纳在芯管中的晶片施加热处理。至少一个冷却气体供应包括至少一个冷却气体供应开口，其布置成使得冷却气体沿与周向壁基本相切的流动方向进入冷却室。体沿与周向壁基本相切的流动方向进入冷却室。体沿与周向壁基本相切的流动方向进入冷却室。
【技术实现步骤摘要】
包括冷却气体供应的立式批处理炉组件
[0001]本公开总体上涉及一种包括冷却气体供应的立式批处理炉组件。
技术介绍
[0002]大多数立式批处理炉设置有芯管，芯管配置成容纳要在立式批处理炉中处理的晶片。在立式间歇式炉中进行处理时，晶片和芯管可能会变热。为了加快立式批处理炉组件的通过量，可以冷却芯管。冷却气体可以从在芯管的周向壁与外壳之间的冷却室的侧面处的多个周向间隔开的开口供应。
技术实现思路
[0003]提供本
技术实现思路
是为了以简化的形式介绍概念选择。在下面本公开的示例实施例的详细描述中进一步详细描述了这些概念。本
技术实现思路
既不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。
[0004]可以认识到，周向间隔开的开口可以在芯管的周向壁上局部地产生冷点。这样的冷点可能导致周向壁内的温度差异，这可能导致所述周向壁中的应力。此外，芯管内部的晶片也可能暴露于温差，这可能导致所述晶片的破裂。
[0005]因此，本专利技术的目的是提供一种可以减轻上述问题的立式批处理炉组件。
[0006]为此，可以提供一种立式批处理炉组件。更具体地，可以提供一种立式批处理炉组件，其包括芯管、外壳、由外壳和芯管界定并包围的冷却室以及在冷却室中发出的至少一个冷却气体供应。芯管可以具有沿纵向方向延伸的细长周向壁，并且芯管可以配置成容纳晶片以在立式批处理炉组件中进行处理。外壳可以围绕芯管延伸并且可以包括加热元件，用于对容纳在芯管中的晶片施加热处理。冷却气体供应可以包括至少一个冷却气体供应开口，其布置成使得冷却气体沿与周向壁基本相切的流动方向进入冷却室。
[0007]还可以提供一种用于冷却立式批处理炉的方法。更具体地，可以提供一种方法，包括：提供根据说明书的立式批处理炉10；以及沿与周向壁基本相切的流动方向在冷却室20中供应冷却气体。基本相切的流动方向可以包括与细长周向壁14的纵向方向成90
°±
15
°
范围的角度，并且可以包括与通过周向壁的最接近所述相应的冷却气体供应开口并且与周向壁相切的点的平面成0
°±
10
°
范围的角度。
[0008]为了概述本专利技术以及与现有技术相比所获得的优点，在上文中已经描述了本专利技术的某些目的和优点。当然，应当理解，根据本专利技术的任何特定实施例，不一定可以实现所有这些目的或优点。因此例如，本领域技术人员将认识到，本专利技术可以以实现或优化本文所教导或暗示的一个优点或一组优点的方式实施或执行，而不必实现本文可能教导或暗示的其他目的或优点。
[0009]在从属权利要求中要求保护各种实施例，将参考附图中示出的示例进一步阐明这些实施例。实施例可以组合或者可以彼此分离地应用。
[0010]所有这些实施例都旨在落入本文所公开的本专利技术的范围内。通过参考附图对某些
实施例的以下详细描述，这些及其他实施例对于本领域技术人员将变得显而易见，本专利技术不限于所公开的任何特定实施例。
附图说明
[0011]尽管说明书以特别指出并明确要求保护被认为是本专利技术的实施例的权利要求作为结尾，但当结合附图阅读时，可以更容易地从本公开的实施例的某些示例的描述中确定本公开的实施例的优点，其中：
[0012]图1示出了根据说明书的立式批处理炉组件的示例；
[0013]图2是图1的示例的外壳的顶部部分的俯视图；
[0014]图3示意性地示出了图2的细节的分解透视图；以及
[0015]图4示意性地示出了根据说明书的冷却气体入口管的端部部分的示例的截面图。
具体实施方式
[0016]在本申请中，相似或相应的特征由相似或相应的附图标记表示。各种实施例的描述不限于附图中示出的示例，并且在详细描述和权利要求书中使用的附图标记不旨在限制实施例的描述，而是被包括以阐明实施例。
[0017]尽管以下公开了某些实施例和示例，但本领域技术人员将理解，本专利技术延展超出本专利技术的具体公开的实施例和/或用途及其明显的修改和等同形式。因此，意图是所公开的本专利技术的范围不应受到以下描述的特定公开的实施例的限制。本文呈现的图示并不意味着是任何特定材料、结构或器件的实际视图，而仅仅是用于描述本公开的实施例的理想化表示。
[0018]如本文所用，术语“晶片”可以指可以使用的任何一种或多种下面的材料，或者可以在其上形成器件、电路或膜的材料。
[0019]在最一般的术语中，本公开可以提供一种立式批处理炉组件10。立式批处理炉组件10可以包括芯管12、外壳16、在径向外侧由外壳16界定且在径向内侧由芯管12界定的冷却室20以及在冷却室20中发出的至少一个冷却气体供应。芯管12可以具有在纵向方向L上延伸的细长周向壁14，芯管12可以配置成容纳晶片以在立式批处理炉组件10中进行处理。外壳16可以围绕芯管12延伸，并且可包括加热元件18，用于对容纳在芯管12中的晶片施加热处理。冷却气体供应可包括至少一个冷却气体供应开口26，其配置成使得冷却气体沿与周向壁14基本相切的流动方向进入冷却室20。基本相切的流动方向可以包括与细长周向壁14的纵向方向L成90
°±
15
°
范围的角度。基本相切的流动方向可以包括与通过周向壁14的最接近所述相应的冷却气体供应开口26并且与周向壁14相切的点的平面成0
°±
10
°
范围的角度。
[0020]在气体从气体供应开口26流出的流动方向至少最初与周向壁14相切的情况下，冷却气体将不会立即沿细长周向壁14的纵向方向流动，而是将沿周向壁14的切向方向散布。仅在冷却气体沿周向壁14的切线方向散布之后，冷却气体才沿着细长周向壁14的纵向方向L流动，如图1中的箭头F所示。通过首先切向地分配冷却气体，周向壁14被更均匀地冷却。以此方式，不形成冷点，并且防止与这些所谓的冷点相关的缺点。
[0021]在一实施例中，其示例在图3中以分解图示出，每个冷却气体供应可以包括冷却气
体入口管22，其端部部分24延伸到冷却室20中。同样在图4中示出的所述端部部分24可以设置有至少一个冷却气体供应开口26。每个冷却气体入口管22可以由一件制成。每个冷却气体入口管22可以由陶瓷材料制成。延伸到冷却室20中的冷却气体入口管22的轴向端部部分28可被封闭。
[0022]在图4所示的示例中，冷却气体入口管22延伸到冷却室20中。冷却气体入口管22可以延伸穿过外壳16中的开口44。通过使冷却气体入口管22的轴向端部部分28封闭，可以防止冷却气体平行于细长周向壁14的纵向方向进入冷却室20。所示的冷却气体入口管22的端部部分设置有两个冷却气体供应开口26。每个供应开口定向成使得经由所述开口进入冷却室20的冷却气体相对于周向壁14切向地进入冷却室20。冷却气体入口管22可以设置有凸轮46，该凸轮布置成与外壳16中的对应凹部48协作，该凹部48是冷却气体入口管22延伸穿过的开口44的一部分。冷却气体入口管22上的凸本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种立式批处理炉组件(10)，包括：
‑
芯管(12)，其具有沿纵向方向延伸的细长周向壁(14)，其中，所述芯管(12)配置成容纳晶片以在立式批处理炉组件(10)中进行处理；
‑
外壳(16)，其围绕芯管(12)延伸并包括加热元件(18)，用于对容纳在芯管(12)中的晶片施加热处理；
‑
冷却室(20)，其在径向外侧由外壳(16)界定且在径向内侧由芯管(12)界定；以及
‑
至少一个冷却气体供应，其在冷却室(20)中发出，其中，所述冷却气体供应包括至少一个冷却气体供应开口(26)，其配置成使得冷却气体沿与周向壁(14)基本相切的流动方向进入冷却室(20)。2.根据权利要求1所述的立式间歇式炉，其中，所述基本相切的流动方向包括与所述细长周向壁(14)的纵向方向成90
°±
15
°
范围的角度。3.根据权利要求1或2所述的立式间歇式炉，其中，所述基本相切的流动方向包括与通过所述周向壁的最接近所述相应的冷却气体供应开口(26)并且与周向壁相切的点的平面成0
°±
10
°
范围的角度。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的立式批处理炉组件，其中，每个冷却气体供应包括冷却气体入口管(22)，该冷却气体入口管的端部部分(24)延伸到所述冷却室(20)中，其中，所述端部部分(24)设置有所述至少一个冷却气体供应开口(26)。5.根据权利要求4所述的立式批处理炉组件，其中，每个冷却气体入口管(22)被实施为一个整体部分。6.根据权利要求4或5所述的立式批处理炉组件，其中，每个冷却气体入口管(22)由陶瓷材料制成。7.根据权利要求4
‑
6中任一项所述的立式批处理炉组件，其中，延伸到所述冷却室(20)中的冷却气体入口管(22)的轴向端部(28)被封闭。8.根据前述权利要求中任一项所述的立式批处理炉组件，其中，所述至少一个冷却气体供应包括围绕所述芯管(12)均匀间隔开的多个冷却气体供应。9.根据前述权利要求中任一项所述的立式批处理炉组件，还包括至少一个冷却气体排放(30)，其包括至少一个排放开口，以从所述冷却室(20)排放冷却气体，其中，在运行中，所发出的冷却气体从所述至少一个冷却气体供应(22)沿着所述芯管(12)的细长周向壁(14)流到所述至少一个冷却气体排放(30)。10.根据权利要求9所述的立式批处理炉组件，其中，所述至少一个冷却气体排放(30)包括围绕所述芯管(12)均匀间隔开的多个冷却气体排放(30)。11.根据权利要求9
【专利技术属性】
技术研发人员：M维尔巴斯，CGM德里德，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：
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