半导体化学气相沉积机用粉尘过滤收集装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种半导体化学气相沉积机用粉尘过滤收集装置。其特点是包括筒体。所述筒体为圆筒，其口部有盖板，其筒底上有中心孔，中心孔内有缓冲管。所述缓冲管上端从所述中心孔之外伸入筒体内，其与中心孔间呈密封状连接在一起，其上端为斜切端，其下端伸出在筒底之外并作为出风口。位于筒体内的缓冲管与筒体内壁间、缓冲管的斜切端与盖板间均有过滤体。与所述斜切端高侧相应的筒壁上有进风口，该进风口位于筒体上下端之间。采用这种粉尘过滤收集装置，可降低废品率，提高产品质量。适用于对反应腔内排出的少量硅烷和氧气进行反应而形成的粉尘的过滤和收集。而形成的粉尘的过滤和收集。而形成的粉尘的过滤和收集。

【技术实现步骤摘要】
半导体化学气相沉积机用粉尘过滤收集装置


[0001]本技术涉及一种半导体化学气相沉积机的辅助设备。具体说，是设置在常压式化学气相沉积机的排风管道与其排风口之间，用来防止进入排风管道内的少量硅烷和氧气进行反应而形成粉尘的粉尘过滤收集装置。

技术介绍

[0002]半导体化学气相沉积机是半导体晶圆生产线中的主要设备。它是在接近一个标准大气压的压力环境下，由载着晶圆的带式输送机的履带沿着加热底板依次从几个喷嘴下方通过。在通过的过程中，由喷嘴喷出硅烷和氧气，使气体在被加热的晶圆表面起化学反应并生成一层二氧化硅薄膜。在这一过程中，虽然大部分硅烷和氧气会在晶圆表面产生反应，但还有少量硅烷和氧气来不及反应，被抽出反应腔之外的排风管道内。由于排风管道内的温度远低于反应腔内的温度，使得进入排风管道内的硅烷和氧气在较冷的温度下继续反应，生成二氧化硅粉尘，并附着在排风管道上。随着时间的增长，排风管道内壁上的粉尘会越积越厚，最终会导致排风管道堵塞。一旦排风管道堵塞，就会影响到反应腔内的反应效果，甚至出现废品。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的问题是克本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.半导体化学气相沉积机用粉尘过滤收集装置,其特征在于：包括筒体；所述筒体为圆筒，其口部有盖板，其筒底上有中心孔，中心孔内有缓冲管；所述缓冲管上端从所述中心孔之外伸入筒体内，其与中心孔间呈密封状连接在一起，其上端为斜切端，其下端伸出在筒底之外并作为出风口；位于筒体内的缓冲管与筒体内壁间、缓冲管的斜...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘招林，
申请(专利权)人：无锡柏斯威科技有限公司，
类型：新型
国别省市：