【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版对位传送装置
[0001]本技术涉及精密件制造
,更具体地说,涉及一种掩膜版对位传送装置。
技术介绍
[0002]目前绝大部分光刻机上版需借助手动上版装置(HMU,Hander Measurement Unit),作业员抬版放置在HMU上,并通过手动转动螺杆矫正掩膜版的位置,推进光刻机放版,随后,光刻机进一步调整掩膜版的位置、角度,调整完成后,进行光刻。
[0003]HMU上版方式存在先天性的缺点,比如,由于过多人员参与无法保证掩膜版表面的洁净度、大颗粒掉落在掩膜版表面容易划伤光刻镜头、人员身上的静电容易造成静电累积、放版精度无法保证,会导致光刻机自我调整时间过长甚至调整失败现象等。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种掩膜版对位传送装置,用以解决上述
技术介绍
中存在的技术问题。
[0005]本技术技术方案一种掩膜版对位传送装置,用于将掩膜版的送料和卸料,一侧设置有机械手,另一个伸入光刻机组内,包括相对设置的两个固定架、固定在两个固定架上的两条伸入光刻机组的输送滑轨,所 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩膜版对位传送装置,用于将掩膜版的送料和卸料,一侧设置有机械手,另一个伸入光刻机组内,其特征在于:包括相对设置的两个固定架、固定在两个固定架上的两条伸入光刻机组的输送滑轨,所述输送滑轨上滑动设置有输送组件;两个所述固定架之间设置有升降机构,所述升降机构上固定有用于转运掩膜版的转运装置,所述转运装置通过升降机构沿高于或者低于输送组件方向运动。2.根据权利要求1所述的一种掩膜版对位传送装置,其特征在于:所述转运装置包括与升降机构固定的升降盘、沿升降盘周向设置的四个电动滑轨,固定在电动滑轨上的支撑杆,以及与支撑杆远离电动滑轨端固定的夹持件,位于对位上的夹持件镜像对称设置,四个所述夹持件同时对掩膜版夹持。3.根据权利要求2所述的一种掩膜版对位传送装置,其特征在于:所述夹持...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐智俊,陆涛,李文,徐兵,杜晓威,
申请(专利权)人:合肥清溢光电有限公司,
类型:新型
国别省市:
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