一种半导体石英部件清洗设备制造技术

本发明专利技术涉及半导体加工设备，公开了一种半导体石英部件清洗设备，包括机架、转动安装于机架上且中心带有升降口的摆放台、设置于机架上且位于摆放台一侧的外管壁清洗装置以及升降设置于机架内且位于升降口下方的内管壁清洗装置，所述内管壁清洗装置包括升降台、安装于升降台上的顶喷头和侧喷头，所述顶喷头的出水方向朝向机架上方，所述侧喷头的出水方向朝向机架侧方，且所述侧喷头分布于顶喷头的两侧；本发明专利技术顶喷出水的冲洗方式能够让将石英部件上残留的脏污随水流被带走，从而大大提高石英部件的清洗效果，减少水渍的产生。减少水渍的产生。减少水渍的产生。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体石英部件清洗设备


[0001]本专利技术涉及半导体加工设备领域，尤其是涉及一种半导体石英部件清洗设备。

技术介绍

[0002]随着科学技术的发展，现阶段半导体技术是人类重点研究的领域，小到智能家电，中到汽车船舶，大到航空航天，全部都需要应用到半导体技术。
[0003]目前大家所说的半导体，一般主要指的是芯片制造技术，在芯片制造过程中，需要用到半导体外延设备、半导体扩散设备等，而在这些设备上，会用到一些石英部件，例如石英舟、石英管、石英支架、石英槽等。
[0004]这些石英部件在应用到半导体设备上之前，需要进行彻底清洗以保证达到良好的洁净度，这样在设备加工芯片的时候才能够具有足够的精度。
[0005]对于石英管的清洗，目前主要应用的是水槽浸入式清洗设备或冲洗式清洗设备。水槽式清洗设备主要的清洗手段是将石英部件放入水槽中，通过浸润的方式，来对石英部件上沾染的油污、粉尘等进行分散。而冲洗式清洗设备，主要的清洗手段是对石英部件进行冲淋，为了提高清洗效果，有时也会加设毛刷对石英部件进行洗刷。
[0006]针对上述中的相关技术，专利技术人认为存在有以下缺陷：对于水槽浸入式清洗设备而言，由于石英部件在清洗时需要整个浸入清洗液内，清洗液中溶解的脏污在石英部件取出时会附着在管壁上，造成石英部件干燥后形成众多水渍。而对于冲洗式清洗设备而言，在冲洗的过程中，随着水流的冲刷，石英部件上附着的脏污会出现转移，尤其是带有毛刷的冲洗设备，脏污特别容易留在毛刷上，使得毛刷在刮动石英部件的过程中会将脏污转移到石英部件上，导致清洗完的石英部件在干燥后水渍明显。

技术实现思路

[0007]为了提高石英部件的清洁效果，本专利技术提供一种半导体石英部件清洗设备。
[0008]本专利技术提供的一种半导体石英部件清洗设备采用如下的技术方案：一种半导体石英部件清洗设备，包括机架、转动安装于机架上且中心带有升降口的摆放台、设置于机架上且位于摆放台一侧的外管壁清洗装置以及升降设置于机架内且位于升降口下方的内管壁清洗装置，所述内管壁清洗装置包括升降台、安装于升降台上的顶喷头和侧喷头，所述顶喷头的出水方向朝向机架上方，所述侧喷头的出水方向朝向机架侧方，且所述侧喷头分布于顶喷头的两侧。
[0009]通过采用上述技术方案，机架作为承载主体，摆放台用于供石英部件放置，并可带动石英部件旋转，使用时，石英部件在摆放台的带动下产生旋转，在石英部件旋转的过程中，外管壁清洗装置对石英部件的外壁进行冲淋，而内管壁清洗装置则用于对石英部件的内腔及内表面进行清洗，并且清洗时，可控制顶喷头先喷水、后断水，侧喷头延迟出水、先断水，这样在冲洗的过程中，由于顶喷头的出水方向朝上，因此水在喷出后首先接触石英部件内腔的最高处，由于干净的水是从上往下流的，这些水在流动的过程中，能够将石英部件上
的脏水带下，减少脏污残留，因此能够极大提高石英部件的清洗效果。同时隐藏式的内管壁清洗装置，能够收纳于机架内，减少对石英部件放置到摆放台上时的干扰，同时在清洗时能够根据石英部件内腔的高度进行适应性调节，使顶喷头和石英部件内顶壁之间的距离处在一个合适的位置，从而更好地对石英部件进行清洗。
[0010]可选的，所述外管壁清洗装置包括固定于机架上的供水管、安装于供水管上且沿供水管长度方向分布的外喷头，所述外喷头的出水方向朝向摆放台的中心。
[0011]通过采用上述技术方案，供水管用于为外喷头供应水源，外喷头则能够喷出射流，对石英部件上的脏污形成冲击，而朝向摆放台中心的出水方向，则使得水流喷射到石英部件上后，以接近垂直的状态冲击在石英部件的表面，此时水流能够均匀分流向石英部件的两侧，使石英部件上残留的污水能够更好地被清水带走，对石英部件起到良好的污水排除效果，从而使得石英部件干燥后不容易留下水渍。
[0012]可选的，所述升降台通过升降机构安装于机架上，所述升降机构包括转动安装于机架上且围绕升降台分布的升降螺杆、固定于机架下方且输出轴穿过机架的底板进入机架内的升降电机、固定于升降电机的输出轴上的主动齿轮、转动安装于机架内且围绕主动齿轮分布的从动齿轮，所述升降螺杆的侧壁上设置有升降啮合齿，所述从动齿轮位于升降螺杆和主动齿轮之间并通过齿形啮合将主动齿轮的动力转递至升降螺杆，所述升降台的侧壁上固定有连接耳，所述连接耳套设于升降螺杆上并与升降螺杆形成螺纹配合。
[0013]通过采用上述技术方案，调节时，启动升降电机，主动齿轮通过从动齿轮带动升降螺杆旋转，由于升降台上的连接耳与升降螺杆之间为螺纹连接，因此升降螺杆在转动的过程中，能够带动升降台产生上下运动，从而达到调节升降台高度的目的。
[0014]可选的，所述机架上开设有安装槽，所述摆放台放置于安装槽内，所述机架的侧壁上固定有旋转电机，所述旋转电机的输出轴上固定有旋转蜗杆，所述摆放台的圆周侧壁上设置有旋转啮合齿，所述旋转蜗杆穿过机架的侧壁进入安装槽并与摆放台圆周侧壁上的旋转啮合齿形成啮合。
[0015]通过采用上述技术方案，当需要驱使摆放台旋转时，启动旋转电机，由于旋转蜗杆与摆放台侧壁上的旋转啮合齿相啮合，因此旋转蜗杆能够带动摆放台转动，从而实现带动石英部件一起旋转的目的。
[0016]可选的，所述摆放台上开设有若干围绕摆放台中心的升降口分布的滑移槽，各所述滑移槽的长度方向的延长线交汇于摆放台中心，且滑移槽内安装有定位块。
[0017]由于摆放台带动石英部件旋转，并且外喷头对石英部件的侧壁具有水流冲击作用，因此石英部件在清洗的过程中可能产生偏移，甚至有可能从摆放台上掉落，通过采用上述技术方案，滑移槽用于引导定位块的移动方向，而定位块用于对石英部件形成阻挡限位，限制石英部件在清洗过程中的移动，从而降低石英部件从旋转台上掉落而发生摔碎的概率。
[0018]可选的，所述摆放台上设置有用于调整定位块在摆放台上位置的调节机构，所述调节机构包括固定于摆放台背对定位块一侧表面且与摆放台之间形成转动腔的扣盖、转动安装于扣盖和摆放台之间的转动腔内的调节盘，所述调节盘上开设有与摆放台相同的升降口以及若干围绕调节盘中心分布的弧形槽，各所述弧形槽之间同时朝向调节盘中心倾斜，所述定位块上固定有导向柱，所述导向柱穿过滑移槽后嵌入弧形槽内，且在扣盖上设置有
用于驱使调节盘旋转的调节组件。
[0019]通过采用上述技术方案，调节盘在转动的过程中，会引起导向柱从弧形槽的一端向另一端移动，在这个过程中，由于调节盘上的弧形槽为倾斜状态，因此定位块会在调节盘的带动下沿滑移槽产生运动，实现所有定位块之间的联动，这样一方面能够调整定位块之间的距离，实现定位块对石英部件的夹持定位作用，另一方面，由于定位块之间联进、联出，使得各定位块之间所围拢形成的空间能够均匀变化， 这样石英部件在放到摆放台上后，能够在定位块的作用下自动调整位置，实现石英部件与旋转台之间的同心度调节，从而使得石英部件在随旋转台转动的过程中不容易因偏心而产生跳动。
[0020]可选的，所述调节组件包括固定于扣盖上且输出轴穿过扣盖后进入转动本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体石英部件清洗设备，其特征在于：包括机架(1)、转动安装于机架(1)上且中心带有升降口(9)的摆放台(2)、设置于机架(1)上且位于摆放台(2)一侧的外管壁清洗装置(3)以及升降设置于机架(1)内且位于升降口(9)下方的内管壁清洗装置(4)，所述内管壁清洗装置(4)包括升降台(41)、安装于升降台(41)上的顶喷头(42)和侧喷头(43)，所述顶喷头(42)的出水方向朝向机架(1)上方，所述侧喷头(43)的出水方向朝向机架(1)侧方，且所述侧喷头(43)分布于顶喷头(42)的两侧。2.根据权利要求1所述的一种半导体石英部件清洗设备，其特征在于：所述外管壁清洗装置(3)包括固定于机架(1)上的供水管(31)、安装于供水管(31)上且沿供水管(31)长度方向分布的外喷头(32)，所述外喷头(32)的出水方向朝向摆放台(2)的中心。3.根据权利要求1所述的一种半导体石英部件清洗设备，其特征在于：所述升降台(41)通过升降机构(10)安装于机架(1)上，所述升降机构(10)包括转动安装于机架(1)上且围绕升降台(41)分布的升降螺杆(101)、固定于机架(1)下方且输出轴穿过机架(1)的底板进入机架(1)内的升降电机(102)、固定于升降电机(102)的输出轴上的主动齿轮(103)、转动安装于机架(1)内且围绕主动齿轮(103)分布的从动齿轮(104)，所述升降螺杆(101)的侧壁上设置有升降啮合齿(105)，所述从动齿轮(104)位于升降螺杆(101)和主动齿轮(103)之间并通过齿形啮合将主动齿轮(103)的动力转递至升降螺杆(101)，所述升降台(41)的侧壁上固定有连接耳(411)，所述连接耳(411)套设于升降螺杆(101)上并与升降螺杆(101)形成螺纹配合。4.根据权利要求1所述的一种半导体石英部件清洗设备，其特征在于：所述机架(1)上开设有安装槽(11)，所述摆放台(2)放置于安装槽(11)内，所述机架(1)的侧壁上固定有旋转电机(12)，所述旋转电机(12)的输出轴上固定有旋转蜗杆(13)，所述摆放台(2)的圆周侧壁上设置有旋转啮合齿(21)，所述旋转蜗杆(13)穿过机架(1)的侧壁进入安装槽(11)并与摆放台(2)圆周侧壁上的旋转啮合齿(21)形成啮合。5.根据权利要求1至3中任一所述的一种半导体石英部件清洗设备，其特征在于：所述摆放台(2)上开设有若干围绕摆放台(2)中心的升降口(9)分布的滑移槽(22)，各所述滑移槽(22)的长度方向的延长线交汇于摆放台(2)中心，且滑移槽(22)内安装有定位块(5)。6.根据权利要求5所述的一种半导体石英部件清洗设备，其特征在于：所述摆放台(2)上设置有用于调整定位块(5)在摆放台(2)上位置的调节机构(8)，所述调节机构(8)包括固定于摆放台(2)背对定位块(5)一侧表面且与摆放台(2)之间形成转动腔(811)...

【专利技术属性】
技术研发人员：王卫良，李士昌，刘超平，林保璋，姜永峰，
申请(专利权)人：盛吉盛精密制造绍兴有限公司，
类型：发明
国别省市：