光学波导装置和制造光学波导装置的方法制造方法及图纸

光学波导装置和制造光学波导装置的方法。光学波导装置具有：基板，层叠在基板上的中间层、包含X切割的铌酸锂的薄膜LN层和缓冲层，以及在薄膜LN层中形成的具有脊形形状的光学波导。光学波导装置包括分别设置在光学波导的第一侧和第二侧处的多个电极。电极被设置为使得其相应底表面处于比缓冲层的表面的位置低的位置处。位置处。位置处。

【技术实现步骤摘要】
光学波导装置和制造光学波导装置的方法


[0001]本文讨论的实施方式涉及光学波导装置和制造光学波导装置的方法。

技术介绍

[0002]为了提高光学通信的速度，高性能的光学装置是必不可少的。在光学装置当中，常规LN光学调制器使用铌酸锂(LiNbO3，以下称为LN)基板，并且因此在插入损耗和传输特性方面能够获得良好的特性。在LN基板上，通过扩散钛(Ti)形成光学波导。虽然广泛使用了使用这种LN基板的常规LN光学调制器(以下称为体LN调制器)，但是其尺寸在增加。
[0003]近年来，对较小的光学装置的需求已经增加，并且也正在研究减小在光学收发器中使用的LN光学调制器的尺寸。使用薄膜LN的薄膜LN光学调制器是一种这样的具有较小尺寸的LN光学调制器。薄膜LN光学调制器具有马赫曾德尔(Mach
‑
Zehnder)干涉仪结构以及在基板上设置有诸如中间层、薄膜LN、缓冲层和电极之类的层的结构。
[0004]与薄膜LN光学调制器有关的技术例如具有通过外延生长在单晶基板上形成的铌酸锂膜(c轴朝向与单晶基板的主表面正交)。存在一种光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学波导装置，该光学波导装置具有基板，层叠在所述基板上的中间层、包含X切割的铌酸锂的薄膜LN层和缓冲层，以及在所述薄膜LN层中形成的具有脊形形状的光学波导，所述光学波导装置包括：多个电极，所述多个电极分别设置在所述光学波导的第一侧和第二侧处，其中，所述电极被设置为使得所述电极的相应底表面处于比所述缓冲层的表面低的位置。2.根据权利要求1所述的光学波导装置，其中，所述缓冲层具有设置在所述缓冲层中的预定深度处的多个台阶，并且所述电极被设置为使得所述电极的所述底表面分别在所述台阶上。3.根据权利要求1所述的光学波导装置，其中，所述薄膜LN层具有设置在所述薄膜LN层中的距所述缓冲层的所述表面预定深度处的多个台阶，并且所述电极被设置为使得所述电极的所述底表面分别在所述台阶上。4.根据权利要求1所述的光学波导装置，其中，所述中间层具有设置在所述中间层中的距所述缓冲层的所述表面预定深度处的多个台阶，并且所述电极被设置为使得所述电极的所述底表面分别在所述台阶上。5.根据权利要求1所述的光学波导装置，其中，所述缓冲层被层叠在所述薄膜LN层上，并且在所述缓冲层中出现的与形成在所述薄膜LN层中的所述光学波导的所述脊形形状相对应的凹部被平坦化。6.一种光学波导装置，该光学波导装置包括：基板；层叠在所述基板上的缓冲层；所述缓冲层中的包含X切割的铌酸锂的矩形芯型的...

【专利技术属性】
技术研发人员：牧野俊太郎，久保田嘉伸，大森康弘，土居正治，竹内信太郎，
申请(专利权)人：富士通光器件株式会社，
类型：发明
国别省市：