【技术实现步骤摘要】
一种带隔离的微波注入设备
[0001]本专利技术涉及一种带隔离的微波注入设备。具体地说,是涉及一种利用不同频率的微波源进行功率合成或进行微波能应用的装置。
技术介绍
[0002]微波源主要包括电真空微波源和固态微波源两种。低功率电真空微波源,特别是千瓦量级的磁控管具有单位功率成本低的优点。高功率电真空微波源,特别是数十千瓦量级的磁控管具有效率高的特点。但是,低功率磁控管的频谱比较宽,频率稳定性差,应用效果普遍较差。高功率电真空微波源的价格优势不够明显,一般需要高功率环形器来改善工作的稳定性。高功率环形器的插入损耗、可靠性和成本问题也限制了高功率电真空微波源的使用。而且,电真空微波源普遍存在工作状态受负载牵引影响的问题。相比之下,固态微波源的频谱窄、工作稳定。但是固态微波源存在单管功率太低的问题。
[0003]人们普遍采用多个微波放大器利用功率合成技术获得更高的功率。对于规模较大的功率合成微波源,多路功率分配器和功率合成器的插损、隔离度、各输端口的幅度和相位一致性等都会影响到合成效率。普通技术合成的微波源的整体效率还会 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种带隔离的微波注入设备,其特征在于,包括一个空腔(1)和至少两个与所述空腔(1)连通的微波源,其中有至少两个微波源A(2),每个所述微波源A(2)通过一只滤波调配器件(3)与所述空腔(1)连通并向所述空腔(1)内部注入微波能量。2.根据权利要求1所述的一种带隔离的微波注入设备,其特征在于,任意每两只所述滤波调配器件(3)的输入端口之间的隔离度在所有微波源A(2)的工作频段内都大于10dB。3.根据权利要求1所述的一种带隔离的微波注入设备,其特征在于,任意每两只所述滤波调配器件(3)的输入端口之间的隔离度在所有微波源A(2)的工作频段内都大于20dB。4.根据权利要求1所述的一种带隔离的微波注入设备,其特征在于,f2与f1的比值小于2;任意所述微波源A(2)的中心频率的相对差值大于0.04%;这里f1为所有所述微波源A(2)的最低中心工作频率,f2为所有所述微波源A(2)的最高中心工作频率。5.根据权利要求1所述的一种带隔离的微波注入设备,其特征在于,所有所述微波源A(2)的数目至少为3个;f2与f1的比值小于1.5;任意所述微波...
【专利技术属性】
技术研发人员:王清源,
申请(专利权)人:成都市吉亨特科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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