一种晶圆片清洁装置制造方法及图纸

一种晶圆片清洁装置，至少具有：放置台；置于所述放置台上的毛刷组件；贯穿所述放置台并向所述晶圆片下端面喷液的喷淋组件；以及控制所述晶圆片的吸盘臂；其中，所述晶圆片的上端面被所述吸盘臂吸附并悬空设置在所述毛刷组件的正上方；工作时，所述放置台带动所述毛刷组件和所述喷淋组件边旋转边对所述晶圆片下端面进行清洁，同时所述吸盘臂带动所述晶圆片沿所述晶圆片径向晃动。本实用新型专利技术清洁装置主要对晶圆片的下端面进行清洁，结构简单且清洁效果好，且清洁效率高，连续刷头组成的毛刷组件、中心密集逐步向外扩散设置的毛刷组件、以及交替设置的喷液组件，都可全覆盖晶圆片的下端面的面积，可快速有效去除表面上的颗粒或硅粉杂质。粉杂质。粉杂质。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆片清洁装置


[0001]本技术属于钢卷加工上料设备
，尤其是涉及一种晶圆片清洁装置。

技术介绍

[0002]现有研磨晶圆片过程中，无论是单面研磨还是双面研磨，都会出现需多研磨颗粒和硅粉杂质，边研磨边清洗也无法完全对晶圆片表面清洗干净，尤其是对于刚刚研磨后的晶圆片与研磨台接触的下端面，所粘附的研磨颗粒和硅粉杂质较多，如何设计一清洁装置快速并完整地将晶圆片下端面一侧的研磨颗粒和硅粉杂质完全清洁掉，是提高晶圆片研磨质量和研磨效率的重要条件之一。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种晶圆片清洁装置，解决了现有技术中对晶圆片的表面清洁不干净的技术问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：
[0005]一种晶圆片清洁装置，至少具有：
[0006]放置台；
[0007]置于所述放置台上的毛刷组件；
[0008]贯穿所述放置台并向所述晶圆片下端面喷液的喷淋组件；
[0009]以及控制所述晶圆片的吸盘臂；
[0010]其中，所述晶圆片的上端面被所述吸盘臂吸附并悬空设置在所述毛刷组件的正上方；
[0011]工作时，所述放置台带动所述毛刷组件和所述喷淋组件边旋转边对所述晶圆片下端面进行清洁，同时所述吸盘臂带动所述晶圆片沿所述晶圆片径向晃动。
[0012]进一步的，所述毛刷组件与所述喷淋组件交替设置在所述放置台上。
[0013]进一步的，所述毛刷组件包括若干由连续设置的毛刷头形成的毛刷条，所述毛刷条以所述放置台圆心为中心向外辐射分布设置。
[0014]进一步的，所述毛刷条为直线结构，沿所述放置台半径从内向外设置。
[0015]进一步的，所述毛刷条为弧形结构，沿所述放置台半径同向从内向外扩散分布。
[0016]进一步的，所述喷淋组件包括若干由间隔设置的喷孔形成的喷淋道，所述喷淋道的结构与所述毛刷条结构相适配。
[0017]进一步的，所述喷淋道数量不大于所述毛刷条数量，且均匀设置在所述放置台上。
[0018]进一步的，所述吸盘臂与所述放置台同轴心设置，且沿所述晶圆片径向同一个方向前后晃动。
[0019]进一步的，还包括用于隔挡液体飞溅的围挡圈，所述放置台被置于所述围挡圈内，且所述围挡圈最小宽度大于所述放置台直径。
[0020]进一步的，所述围挡圈结构为圆形四边形或多边形结构。
[0021]本技术清洁装置主要对晶圆片的下端面进行清洁，结构简单且清洁效果好，且清洁效率高，连续刷头组成的毛刷组件、中心密集逐步向外扩散设置的毛刷组件、以及交替设置的喷液组件，都可全覆盖晶圆片的下端面的面积，可快速有效去除表面上的颗粒或硅粉杂质。
附图说明
[0022]图1是本技术实施例一的清洁装置的结构示意图；
[0023]图2是本技术实施例一的清洁装置的俯视图；
[0024]图3是本技术实施例二的清洁装置的俯视图；
[0025]图4是本技术实施例三的清洁装置的俯视图；
[0026]图5是本技术另一实施例的围挡圈的结构示意图。
[0027]图中：
[0028]10、放置台
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20、毛刷组件
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30、喷淋组件
[0029]40、晶圆片
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50、吸盘臂
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60、围挡圈
具体实施方式
[0030]下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细说明。
[0031]本实施例提出一种晶圆片清洁装置，如图1
‑
2所示，至少具有放置台10、置于放置台10上的毛刷组件20、贯穿放置台10并向晶圆片40下端面喷液的喷淋组件30、以及控制晶圆片40的吸盘臂50；其中，晶圆片40的上端面被吸盘臂50吸附并悬空设置在毛刷组件20的正上方；工作时，放置台10 带动毛刷组件20和喷淋组件30边旋转边对晶圆片40的下端面进行清洁，同时吸盘臂50带动晶圆片40沿晶圆片40的径向晃动。
[0032]进一步的，毛刷组件20与喷淋组件30交替设置在放置台10上。毛刷组件20包括若干由连续设置的毛刷头形成的毛刷条，毛刷条以放置台10的圆心为中心向外辐射分布设置。喷淋组件30包括若干由间隔设置的喷孔形成的喷淋道，喷淋道的结构与毛刷条结构相适配；且喷淋道的数量不大于毛刷条数量，且均匀设置在放置台10上。
[0033]如图1和图3所示，每一组毛刷条均为直线结构，沿放置台10的半径从内向外设置，所有组的毛刷头必须是连续设置的结构，目的是保证对晶圆片40的下端面的接触点无遗漏，保证所有面都能被清洁到，以保证清洁的清洁度，使粘附在下端面上的磨粒及硅粉或其它杂质都能完全地被清理掉。且毛刷条所形成的最大圆直径大于晶圆片40的直径，可保证旋转的毛刷条完全接触到晶圆片40的下端面的所有位置。
[0034]而且在图1和图3的两个结构中，喷淋组件中喷淋道的结构也是直线型结构，沿放置台10的半径从内向外设置。喷淋道的数量可以与毛刷条的数量相同，如图1所示。当然喷淋道的数量可以小于毛刷条的数量，如图3所示，喷淋道的数量为四个，小于毛刷条的数量，但必须均匀分布在放置台10 上。
[0035]如图4所示，毛刷条为弧形结构，沿放置台10的半径同向从内向外扩散分布，这一结构的布置更易于带动喷液的旋转清洗，使各个覆盖面积均衡清洁，进而可提高整体清洁的平稳性。中心部位相对于边缘部分的毛刷头分布较密集，但仍能保证各个角度的圆弧都均布设有毛刷头，尤其是对于大块颗粒或硅粉杂质在旋转时会因受旋转离心力的作用汇聚
在晶圆片40周边，外缘相邻毛刷头间的间隙大更有利于这些大块颗粒或硅粉杂质的甩出；对于小块的颗粒或硅粉可随着圆弧型分布的毛刷头向外分散清洗。这一结构设置的毛刷条可保证颗粒或硅粉杂质无遗漏地被清洗，提高晶圆片40的清洗效果，保证晶圆片40表面质量。
[0036]相应地，喷淋道也为弧形结构，且均匀分布在相邻毛刷条之间，可保证旋转过程中，所有角度和面积都有溶液被喷淋辐射到，进一步提高晶圆片40 表面的清洁效果。
[0037]吸盘臂50与放置台10同轴心设置，且可沿晶圆片40的径向同一个方向前后晃动。这一结构设置的目的是为了提高清洁的质量，在清洁过程中，吸盘臂50还可带动晶圆片40沿晶圆片40与毛刷头接触的平面水平晃动，可以前后晃动，也可以左右晃动，但其晃动幅度不可太大，以免使晶圆片40 从吸盘臂50的吸盘上掉落。
[0038]进一步的，还包括用于隔挡液体飞溅的围挡圈60，放置台10被置于围挡圈60内，且围挡圈60的最小宽度大于放置台10直径，也就是围挡圈60 与放置台10间隙设置，目的是为了防止吸盘臂50带动晶圆片40晃动时与围挡圈60接触；同时还可防止清洗液飞溅。
[0039]进一步的，围挡圈60的结构可以为圆形，如图1<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆片清洁装置，其特征在于，至少具有：放置台；置于所述放置台上的毛刷组件；贯穿所述放置台并向所述晶圆片下端面喷液的喷淋组件；以及控制所述晶圆片的吸盘臂；其中，所述晶圆片的上端面被所述吸盘臂吸附并悬空设置在所述毛刷组件的正上方；工作时，所述放置台带动所述毛刷组件和所述喷淋组件边旋转边对所述晶圆片下端面进行清洁，同时所述吸盘臂带动所述晶圆片沿所述晶圆片径向晃动。2.根据权利要求1所述的一种晶圆片清洁装置，其特征在于，所述毛刷组件与所述喷淋组件交替设置在所述放置台上。3.根据权利要求1或2所述的一种晶圆片清洁装置，其特征在于，所述毛刷组件包括若干由连续设置的毛刷头形成的毛刷条，所述毛刷条以所述放置台圆心为中心向外辐射分布设置。4.根据权利要求3所述的一种晶圆片清洁装置，其特征在于，所述毛刷条为直线结构，沿所述放置台半径从内向外设置。5.根据权利要求3所述的一种晶圆片清洁装置，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘姣龙，刘建伟，刘园，武卫，由佰玲，裴坤羽，孙晨光，王彦君，祝斌，常雪岩，杨春雪，谢艳，袁祥龙，张宏杰，刘秒，吕莹，徐荣清，
申请(专利权)人：天津中环领先材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：