形成涂层的方法技术

本发明专利技术涉及一种在基材上形成涂层的方法，所述方法包含：(a)提供一种具有基材表面的基材；(b)提供一种包含卤代烷基硅烷和溶剂的制剂；(c)用喷嘴在约20kPa至约2000kPa的雾化压力以及约1ml/min至约50ml/min的流速下将所述制剂雾化以形成雾化制剂；以及(d)在距所述喷嘴约1cm至约50cm的距离处将所述雾化制剂施加至所述基材表面，其中所述涂层具有小于约100

【技术实现步骤摘要】
形成涂层的方法


[0001]在示例性实施例中，本公开涉及在基材上形成涂层的方法。

技术介绍

[0002]可以将抗指纹涂层施加到表面上，以在触摸表面之后使指纹的外观最小化。一些抗指纹涂层包含氟化聚醚硅烷(氟硅烷)。这些氟硅烷涂层可以是单层，且通常小于10nm厚。
[0003]对于氟硅烷涂层，工艺参数在整个行业中是公知的，且已大规模生产。然而，涂层技术的最近发展已经引入了不可见的指纹涂层，与氟硅烷涂层相比，其可以提供改善的指纹隐藏。一些不可见的指纹涂层更难涂覆。因此，需要优化的不可见指纹涂层和制备此类涂层的方法。

技术实现思路

[0004]为了提供对各种专利技术实施例的一些方面的基本理解，以下给出了简化的概述。该概述不是本专利技术的广泛概述。其既不旨在标识本专利技术的关键或重要元素，也不旨在描绘本专利技术的范围。以下概述仅以简化形式呈现本专利技术的一些概念作为以下详细描述的序言。
[0005]在示例性实施例中，本公开涉及用于提供不可见指纹涂层的组合物和制剂。本公开还涉及在基材上形成不可见指纹涂层的方法，所述基材为例如但不限于由玻璃材料、陶瓷或金属氧化物表面制成的基材。
[0006]当结合所附权利要求书阅读某些示范性实施例的以下详细描述时，其它特征将变得显而易见。以下编号的条款包括预期的和非限制性的实施例：
[0007]条款1.一种用于在基材上形成涂层的方法，所述方法包含：
[0008](a)提供一种具有基材表面的基材；
[0009](b)提供一种包含卤代烷基硅烷和溶剂的制剂；
[0010](c)用喷嘴在约20kPa至约2000kPa的雾化压力以及约1ml/min至约50ml/min的流速下将所述制剂雾化以形成雾化制剂；以及
[0011](d)将所述雾化制剂施加到距离所述喷嘴约1cm至约50cm的所述基材表面上，
[0012]其中所述涂层具有小于约100
°
的水接触角。
[0013]条款2.根据条款1所述的方法，其中所述基材包含玻璃、抗反射涂覆玻璃(anti-reflective coated glass)、粘合底漆玻璃(adhesion-primed glass)、金属、硬涂覆金属(hard coated metal)、塑料或硬涂覆塑料。
[0014]条款3.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层为约0.1nm至约500nm厚。
[0015]条款4.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层为约0.1nm至约100nm厚。
[0016]条款5.根据前述条款中任一项所述的方法，所述涂层为约0.1nm至约20nm厚。
[0017]条款6.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层具有约20
°
至约50
°
的二
碘甲烷接触角。
[0018]条款7.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层具有约25
°
至约45
°
的二碘甲烷接触角。
[0019]条款8.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述水接触角为约80
°
至约100
°
。
[0020]条款9.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述涂层在3000次橡皮擦磨损循环之后保持50度以上的水接触角。
[0021]条款10.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述卤代烷基硅烷以所述制剂的约0.1％重量至约10％重量存在于所述制剂中。
[0022]条款11.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述卤代烷基硅烷以所述制剂的约0.1％重量至约5％重量存在于所述制剂中。
[0023]条款12.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述卤代烷基硅烷以所述制剂的约0.1％重量至约1％重量存在于所述制剂中。
[0024]条款13.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述雾化压力为约50kPA至约1000kPa。
[0025]条款14.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述雾化压力为约100kPa至约300kPa。
[0026]条款15.根据前述条款中任一项所述的方法，其中从所述喷嘴到所述基材的距离为约5cm至约20cm。
[0027]条款16.根据前述条款中任一项所述的方法，其中从所述喷嘴到所述基材的距离为约8cm至约15cm。
[0028]条款17.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述提供步骤以约5ml/min至约20ml/min的流速进行。
[0029]条款18.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述提供步骤以约8ml/min至约15ml/min的流速进行。
[0030]条款19.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述溶剂包含醇。
[0031]条款20.根据前述条款中任一项所述的方法，其中所述醇为乙醇。
[0032]条款21.一种用于形成涂覆的基材的方法，所述方法包含：
[0033]在至少100kPa的压力下通过喷嘴尖端将制剂雾化以形成雾化制剂，以及
[0034]用所述雾化制剂涂覆基材的表面，
[0035]其中从所述喷嘴尖端到所述基材的表面的距离为至少1cm；以及
[0036]其中所述涂覆的基材具有小于100
°
的水接触角。
[0037]条款22.根据条款21所述的方法，其中所述涂覆的基材的水接触角是约80
°
至约100
°
。
[0038]条款23.根据条款21或22所述的方法，其中所述方法进一步包含将所述已喷涂的基材加热至至少90℃的温度以形成固化的基材。
[0039]条款24.根据条款21-23中任一项所述的方法，其中所述加热步骤进行约10分钟至约90分钟。
[0040]条款25.根据条款21-24中任一项所述的方法，其中所述方法进一步包含清洁所述已固化的基材。
[0041]条款26.根据条款21-25中任一项所述的方法，其中所述喷嘴压力为约100kPa至约450kPa。
[0042]条款27.根据条款21-26中任一项所述的方法，其中所述喷嘴压力为约150kPa至约250kPa。
[0043]条款28.根据条款21-26中任一项所述的方法，其中从所述喷嘴尖端到所述基材的距离为约7cm至约15cm。
[0044]条款29.根据条款21-28中任一项所述的方法，其中所述制剂包含卤代烷基硅烷。
[0045]条款30.根据条款21-29中任一项所述的方法，其中所述制剂包含约0.1％至约1％的卤代烷基硅烷。
[0046]条款31.根据条款21-30中任一项所述的方法，其中所述制剂包含氯代烷基硅烷。
[0047]条款32.根据条款21-31中任一项所述的方法，其中所述制剂具有小于约5的pH。
[0048]条款33.根据条款21-32中任一项所述的方法，其中所述制剂包含羟基P本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于在基材上形成涂层的方法，所述方法包含：(a)提供一种具有基材表面的基材；(b)提供一种包含卤代烷基硅烷和溶剂的制剂；(c)用喷嘴在约20kPa至约2000kPa的雾化压力以及约1ml/min至约50ml/min的流速下将所述制剂雾化以形成雾化制剂；以及(d)在距所述喷嘴约1cm至约50cm的距离处将所述雾化制剂施加至所述基材表面，其中所述涂层具有小于约100
°
的水接触角。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述基材包含玻璃、抗反射涂覆玻璃、粘合底漆玻璃、金属、硬涂覆金属、塑料或硬涂覆塑料。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述涂层为约0.1nm至约500nm厚。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述涂层为约0.1nm至约100nm厚。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，所述涂层为约0.1nm至约20nm厚。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述涂层具有约20
°
至约50
°
的二碘甲烷接触角。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述涂层具有约25
°
至约45
°
的二碘甲烷接触角。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述水接触角为约80
°
至约100
°
。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述涂层在3000次橡皮擦磨损循环之后保持50度以上的水接触角。10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述卤代烷基硅烷以所述制剂的约0.1％重量至约10％重量存在于所述制剂中。11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述卤代烷基硅烷以所述制剂的约0.1％重量至约5％重量存在于所述制剂中。12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述卤代烷基硅烷以所述制剂的约0.1％重量至约1％重量存在于所述制剂中。13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述雾化压力为约50kPA至约1000kPa。14.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述雾化压力为约100kPa至约300kPa。15.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中从所述喷嘴到所述基材的距离为约5cm至约20cm。16.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中从所述喷嘴到所述基材的距离为约8cm至约15cm。17.根据前述权利要求中任...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：NBD纳米技术公司，
类型：发明
国别省市：