一种锗泥回收用的连续沉降槽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种锗泥回收用的连续沉降槽，包括槽体；槽体内的底面为从一端到另一端逐渐降低的斜坡结构；槽体侧壁顶部有进料口和溢流出口，进料口设在槽体高端一侧；槽体内设有两块以上平行设置的阻隔板，阻隔板的宽度方向与槽体高端到低端的方向平行，阻隔板宽度方向上的一侧顶部设有溢流缺口，相邻两块阻隔板的溢流缺口呈交错分布，第一块阻隔板设在槽体进料口的下游，第一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体进料口的一侧，最后一块阻隔板设在槽体溢流出口的上游，最后一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体溢流出口的一侧；槽体低端一侧设有排泥口和排液口，排液口高于排泥口。上述装置延长了料浆流动路径，提高了锗的回收率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
一种锗泥回收用的连续沉降槽


[0001]本技术涉及一种锗泥回收用的连续沉降槽，属于锗片加工


技术介绍

[0002]光伏锗片加工过程中产生了大量的锗含量较高的废水，具有较高的回收价值。含锗废水经过沉淀剂处理后得到含锗料浆(连续产生)，该料浆进入连续沉降槽后经过沉降分离，锗泥沉入槽底部，上清液通过溢流出口溢出。目前，连续沉降槽为三级沉降设计，一部分沉淀来不及沉降到槽底部，便通过溢流出口流走，最终造成了锗的流失。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种锗泥回收用的连续沉降槽，通过槽体和阻隔板装结构的设计，大大延长了料浆流动路径，使锗泥能够有充分的时间沉淀，减少了锗泥的流失，提高了锗的回收率，降低了企业生产成本。
[0004]为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案如下：
[0005]一种锗泥回收用的连续沉降槽，包括槽体；槽体内的底面为从一端到另一端逐渐降低的斜坡结构，将槽体底面高的一端定义为高端、另一端定义为低端；槽体侧壁顶部有进料口和溢流出口，其中，进料口设在槽体高端一侧；槽体内设有两块以上平行设置的阻隔板，阻隔板的宽度方向与槽体高端到低端的方向平行，阻隔板的底部与槽体底面无缝衔接，阻隔板宽度方向上的两侧均与槽体内侧壁无缝衔接，阻隔板宽度方向上的一侧顶部设有溢流缺口，相邻两块阻隔板的溢流缺口呈交错分布，第一块阻隔板设在槽体进料口的下游，第一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体进料口的一侧，最后一块阻隔板设在槽体溢流出口的上游，最后一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体溢流出口的一侧；槽体低端一侧，每相邻两块阻隔板之间的底部均设有排泥口，每个排泥口上均设有活动连接的第一堵盖，槽体低端一侧还设有排液口，排液口上设有活动连接的第二堵盖，排液口高于排泥口。
[0006]上述装置，将槽体内的底面设计为从一端到另一端逐渐降低的斜坡结构，增大了锗泥流动的阻力，便于锗泥的沉降，也便于锗泥的收集；进料口设在槽体高端一侧，促进了进料锗泥的沉降；阻隔板宽度方向上的一侧顶部设有溢流缺口，也即阻隔板一侧上层清液，通过溢流缺口可进入阻隔板另一侧，将溢流缺口设在阻隔板顶部，可有效阻挡底部锗泥的流动，利于锗泥的沉降；相邻两块阻隔板的溢流缺口呈交错分布，也即相邻两块阻隔板的溢流缺口不在同一侧，延长了物料的流动路径；第一块阻隔板设在槽体进料口的下游，最后一块阻隔板设在槽体溢流出口的上游，也即物料经过所有的阻隔板设后才从溢流出口流出，使锗泥能够有充分的时间沉淀；排泥口和排液口的设置，便于槽体内锗泥和液体的排出。
[0007]使用时，含锗料浆从槽体上的进料口进入，经过所有的阻隔板后，上层清液从溢流出口流出。
[0008]本申请第一块阻隔板和最后一块阻隔板为从进料口端开始数起的相对数量。上游到下游的方向与物料的流动方向一致。
[0009]为进一步提高沉降效率，阻隔板有奇数块，进料口和溢流出口位于槽体同一侧的两端。
[0010]为了进一步减少锗的流失，排液口设在最后一块阻隔板与槽体内侧壁之间。
[0011]为了便于沉淀充分排出，槽体低端一侧，第一块阻隔板与槽体内侧壁之间及最后一块阻隔板与槽体内侧壁之间均设有排泥口。
[0012]优选，所有的阻隔板等间隔分布。
[0013]为了便于使用，锗泥回收用的连续沉降槽，还包括支架，槽体外侧焊机在支架上。
[0014]为了满足一般需求，阻隔板有5～9块。
[0015]上述阻隔板顶部不高于槽体侧壁。
[0016]为了便于制造和使用，槽体的顶部为矩形结构，进料口和溢流出口设在槽体宽度方向的两端，阻隔板的宽度方向与槽体的长度方向一致。
[0017]为了进一步提高锗的沉降率，优选，槽体内底面与竖直方向的夹角为45～80
°
。
[0018]本技术未提及的技术均参照现有技术。
[0019]本技术锗泥回收用的连续沉降槽，通过槽体和阻隔板装结构的设计，大大延长了料浆流动路径，使锗泥能够有充分的时间沉淀，减少了锗泥的流失，提高了锗的回收率，降低了企业生产成本。
附图说明
[0020]图1为本技术锗泥回收用的连续沉降槽的俯视图；
[0021]图2为图1的左视图；
[0022]图3为图2的前视图；
[0023]图4为本技术阻隔板结构示意图；
[0024]图中，1为槽体，11为进料口，12为溢流出口，13为排泥口，14为排液口，2为阻隔板，21为溢流缺口，3为支架。
具体实施方式
[0025]为了更好地理解本技术，下面结合实施例进一步阐明本技术的内容，但本技术的内容不仅仅局限于下面的实施例。
[0026]本申请“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等方位词为基于附图所示或使用状态时的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
[0027]实施例1
[0028]如图1
‑
3所示，一种锗泥回收用的连续沉降槽，包括槽体；槽体的底面为从一端到另一端逐渐降低的斜坡结构，槽体的底面与竖直方向的夹角为65
°
，为了便于描述，将槽体底面较高的一端定义为高端、另一端定义为低端；槽体侧壁顶部有进料口和溢流出口，且进料口和溢流出口设在槽体高端一侧的两端；槽体内设有五块平行设置的阻隔板，阻隔板的宽度方向与槽体高端到低端的方向平行，阻隔板的底部与槽体底面无缝衔接，阻隔板宽度
方向上的两侧均与槽体内侧壁无缝衔接，阻隔板宽度方向上的一侧顶部设有溢流缺口，溢流缺口底部低于槽体周边高度，也即能确保槽体内液体的顺利溢流，相邻两块阻隔板的溢流缺口呈交错分布，第一块阻隔板设在槽体进料口的下游，第一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体进料口的一侧，最后一块阻隔板设在槽体溢流出口的上游，最后一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体溢流出口的一侧；槽体低端一侧，每相邻两块阻隔板之间的底部均设有排泥口，每个排泥口上均设有活动连接的第一堵盖，槽体低端一侧还设有排液口，排液口上设有活动连接的第二堵盖，排液口高于排泥口。
[0029]使用时，含锗料浆从槽体上的进料口进入，经过所有的阻隔板后，上层清液从溢流出口流出。上述装置，将槽体内的底面设计为从一端到另一端逐渐降低的斜坡结构，增大了锗泥流动的阻力，便于锗泥的沉降，也便于锗泥的收集；进料口设在槽体高端一侧，促进了进料锗泥的沉降；相邻两块阻隔板的溢流缺口呈交错分布，延长了物料的流动路径；第一块阻隔板设在槽体进料口的下游，最后一块阻隔板设在槽体溢流出口的上游，也即物料经过所有的阻隔板设后才从溢流出口流出，使锗泥能够有充分的时间沉淀；排泥口和排液口的设置，便于槽体内锗泥和液体的排出。
[0030]实施例2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种锗泥回收用的连续沉降槽，其特征在于：包括槽体；槽体内的底面为从一端到另一端逐渐降低的斜坡结构，将槽体底面高的一端定义为高端、另一端定义为低端；槽体侧壁顶部有进料口和溢流出口，其中，进料口设在槽体高端一侧；槽体内设有两块以上平行设置的阻隔板，阻隔板的宽度方向与槽体高端到低端的方向平行，阻隔板的底部与槽体底面无缝衔接，阻隔板宽度方向上的两侧均与槽体内侧壁无缝衔接，阻隔板宽度方向上的一侧顶部设有溢流缺口，相邻两块阻隔板的溢流缺口呈交错分布，第一块阻隔板设在槽体进料口的下游，第一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体进料口的一侧，最后一块阻隔板设在槽体溢流出口的上游，最后一块阻隔板上的溢流缺口设在远离槽体溢流出口的一侧；槽体低端一侧，每相邻两块阻隔板之间的底部均设有排泥口，每个排泥口上均设有活动连接的第一堵盖，槽体低端一侧还设有排液口，排液口上设有活动连接的第二堵盖，排液口高于排泥口。2.如权利要求1所述的锗泥回收用的连续沉降槽，其特征在于：阻隔板有奇数块，进料口和溢流出口位于槽体同一侧的两端。3.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：房现阁，柯尊斌，王卿伟，
申请(专利权)人：中锗科技有限公司，
类型：新型
国别省市：