用于处理半导体制程中产生的清洁气体的系统及方法、装置制造方法及图纸

本申请提供了一种用于处理半导体制程中产生的清洁气体的系统及方法、装置。该方法包括：响应于半导体制程主机台发送的制程气体为清洁气体的信号，使清洁气体进入废气处理装置中；调节甲烷和压缩干燥空气的流量，使甲烷和压缩干燥空气按比例送入废气处理装置的燃烧器中，并使甲烷和压缩干燥空气在燃烧器中进行燃烧，产生热量；在热量下，使清洁气体中的三氟化氮在废气处理装置中发生反应，从而得到处理。本申请提供的用于处理半导体制程中产生的清洁气体的技术方案通过与主制程设备的通讯，可准确判断处理清洁气体的时机，而且可对甲烷和压缩干燥空气的流量进行控制，从而调节燃烧温度，使得清洁气体中的三氟化氮能够被有效处理。理。理。

【技术实现步骤摘要】
用于处理半导体制程中产生的清洁气体的系统及方法、装置


[0001]本申请涉及半导体制程废气的净化技术，特别地，涉及一种用于处理半导体制程中产生的清洁气体的系统及方法、装置。

技术介绍

[0002]在半导体科学技术的发展中，半导体制程生产中会用到大量的有毒腐蚀性易燃的特殊气体、化学品和有机溶剂等原材料，这些物质所产生的废气在冗长的排气过程中，因其气体性质可能会引发风管堵塞、管路腐蚀等，导致气体泄漏、火灾爆炸等事故，所以需要在废气处理设备(Local Scrubber)进行处理。
[0003]主制程设备的腔体需要进行周期性的维护，此时会需要大量的气体吹扫，从而降低废气处理设备腔体内的废气处理环境温度。吹扫后产生的气体被称为清洁气体(clean gas)，其含有大量的三氟化氮等有毒气体。
[0004]现有的废气处理装置不能对清洁气体进行有效处理，导致毒气体排入大气，造成环境污染。

技术实现思路

[0005]针对现有技术的不足，本申请提供了一种针对半导体制程中产生的清洁气体的处理工艺，使得清洁气体得到有效处理。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于处理半导体制程中产生的清洁气体的系统，所述清洁气体包括三氟化氮，其特征在于，所述系统包括：燃烧管路，包括安装有甲烷质量流量控制器的甲烷进气管路和安装有压缩干燥空气质量流量控制器的压缩干燥空气管路；制程进气管路；废气处理装置，与所述制程进气管路相连并安装有燃烧器和总控制器，所述燃烧器分别与所述甲烷进气管路和所述压缩干燥空气管路相连，所述总控制器分别与半导体制程主机台、所述甲烷质量流量控制器和所述压缩干燥空气质量流量控制器相连，所述总控制器用于判断所述半导体制程主机台是否发送制程气体为所述清洁气体的信号及调节甲烷和压缩干燥空气的流量。2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述废气处理装置还安装有温度传感器，所述温度传感器与所述总控制器相连，所述总控制器根据所述温度传感器的反馈值调节甲烷和压缩干燥空气的流量。3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述制程进气管路还安装有压力传感器。4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述废气处理装置还安装有排气风机，所述压力传感器和所述排气风机分别与所述总控制器相连，所述总控制器根据所述压力传感器的反馈值调节所述排气风机的排风量。5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述废气处理装置还设有压缩干燥空气入口。6.一种用于处理半导体制程中产生的清...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨春水，杨春涛，宁腾飞，章文军，
申请(专利权)人：北京京仪自动化装备技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：