一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种靶材背面固定式平面靶，包括：靶材、靶体、轭铁、磁铁、压板、绝缘套和屏蔽罩；靶体内部限定有容纳腔，容纳腔具有插入口，轭铁上设有磁铁，轭铁通过插入口插入安装到容纳腔内，轭铁上设有第一水流通道，轭铁的外侧壁、磁铁与容纳腔的内侧壁限定出第二水流通道，第一水流通道与第二水流通道连通；靶材设于靶体的前侧面，压板的前后两端分别形成第一弯折部和第二弯折部，第一弯折部勾设在靶材上，第二弯折部与靶体相连，屏蔽罩罩设在靶体和压板外。在这种结构形式下，第一弯折部不需要做的很大，只需能勾住靶材即可，因此相同靶体宽度下，靶材可以做的较宽，而且屏蔽罩能保护非靶材材质溅射到货品上，提高镀膜品质。质。质。

【技术实现步骤摘要】
一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备


[0001]本技术涉及真空溅射镀膜领域，尤其是涉及一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备。

技术介绍

[0002]如图1
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图3是现有技术中平面靶的第一种常见结构，这种结构为磁铁和冷却水直接接触的直冷型结构，如图4是现有技术中平面靶的第二种常见结构，这种结构为磁铁与冷却水之间通过其它金属导热的间冷型，这种冷却方式的热传导慢，炉体温度高，很容易消磁或磁力减弱，导致起辉不稳或起辉困难。
[0003]这两种结构均为磁铁从靶体后端装入的后端轭铁密封型结构，安装不便，并且靶材的前端采用压条和螺钉固定，这就导致在相同靶体宽度下，因两侧的压条和螺孔占位，靶材的宽度会相应减小，而且靶体的左右两侧需要设置相应的螺孔，进而导致靶体的内腔宽度小，使得磁铁间隔及位置也会受限。
[0004]如图2所示，间隔过小会导致靶材可溅射范围减少，靶材利用率低，如图3所示，间隔过小会导致磁道强度波型峰形高，局部溅射快而其它地方没被溅射，靶材利用率低，报废快；此外，这两种结构中的屏蔽罩没有屏蔽到压条和螺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种靶材背面固定式平面靶，其特征在于，包括：靶材、靶体、轭铁、磁铁、压板、绝缘套和屏蔽罩；所述靶体内部限定有容纳腔，所述容纳腔的一侧敞开形成插入口，所述轭铁的前侧面固定安装有磁铁，所述轭铁通过所述插入口插入安装到所述容纳腔内，所述轭铁上设有第一水流通道，所述轭铁的外侧壁、所述磁铁与所述容纳腔的内侧壁限定出第二水流通道，所述第一水流通道与所述第二水流通道连通；所述靶体的前侧面为平面，所述靶材为平面靶材，所述靶材设于所述靶体的前侧面，所述压板位于所述靶体外部，所述压板的前后两端分别朝向靠近所述靶体的方向折弯以形成第一弯折部和第二弯折部，所述第一弯折部勾设在所述靶材上以将所述靶体紧压在第一安装平面上，所述第二弯折部与所述靶体相连；所述靶体的后表面安装有所述绝缘套，所述屏蔽罩罩设在所述靶体和所述压板外，所述屏蔽罩与所述绝缘套抵接，所述屏蔽罩的前侧设有缺口，所述缺口与所述靶材正对。2.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述磁铁与所述容纳腔的前侧壁抵接，所述磁铁为多个，多个所述磁铁间隔排布，任意相邻的两个所述磁铁的磁极相反。3.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平面靶，其特征在于，所述靶材与所述靶体之间设有石墨层。4.根据权利要求1所述的靶材背面固定式平...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪选林，
申请(专利权)人：深圳森丰真空镀膜有限公司，
类型：新型
国别省市：