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一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备制造技术
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文档序号:30213878
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本实用新型公开了一种靶材背面固定式平面靶,包括:靶材、靶体、轭铁、磁铁、压板、绝缘套和屏蔽罩;靶体内部限定有容纳腔,容纳腔具有插入口,轭铁上设有磁铁,轭铁通过插入口插入安装到容纳腔内,轭铁上设有第一水流通道,轭铁的外侧壁、磁铁与容纳腔的内侧...
该专利属于深圳森丰真空镀膜有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳森丰真空镀膜有限公司授权不得商用。
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