一种铜带清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种铜带清洗装置，铜带从上壳体一侧的定位组件进入清洗装置，进入抛光总成的抛光工作区域，经过抛光清理铜带上的氧化物后，穿过喷吹组件，将铜带上的附着铜屑吹落，而后清理干净的铜带从另一个定位组件的铜带通道中穿出。上壳体相对两侧的定位组件确保铜带一直位于抛光总成的工作区域内，抛光轮总成上的抛光轮位于铜带的上下侧，从而清理铜带两面的氧化物，而后清理掉的铜屑在高压风机的作用下，穿过隔断板上的过滤组件后落入过滤组件内收集。本铜带清洗装置有效的将铜带两面的氧化物清理干净。的氧化物清理干净。的氧化物清理干净。

【技术实现步骤摘要】
一种铜带清洗装置


[0001]本技术涉及铜带生产设备，尤其涉及一种铜带清洗装置。

技术介绍

[0002]焊带应用广泛，焊带生产主要包括铜带清洗和铜带镀锡两个步骤，目前，铜带清洗和铜带镀锡分开进行，用专门的清洗装置对铜带进行清洗，然后进行铜带收卷，再进行镀锡。清洗的铜带经过收卷和放料，多次牵引，张力控制不一，容易拉断，容易氧化等问题。
[0003]有鉴于此，能够有效的将铜带的氧化物清理干净并且能够平衡张力的清洗装置为我们所需要的。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在提供一种铜带清洗装置，能够高效清理铜带上的氧化物。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案如下：
[0006]一种铜带清洗装置，其特征在于，包括壳体，设置在壳体中部、将壳体分为上壳体与下壳体的隔断板，设置在隔断板上的过滤组件，设置在上壳体内的抛光轮总成，设置在下壳体内的高压风机，位于上壳体、抛光轮总成一侧的喷吹组件，以及设置在上壳体相对两侧壁上的定位组件；其中，所述定位组件与喷吹组件具有位于同一直线的铜带通道，抛光轮总成的抛光轮位于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铜带清洗装置，其特征在于，包括壳体，设置在壳体中部、将壳体分为上壳体与下壳体的隔断板，设置在隔断板上的过滤组件，设置在上壳体内的抛光轮总成，设置在下壳体内的高压风机，位于上壳体、抛光轮总成一侧的喷吹组件，以及设置在上壳体相对两侧壁上的定位组件；其中，所述定位组件与喷吹组件具有位于同一直线的铜带通道，抛光轮总成的抛光轮位于在铜带通道的两侧。2.根据权利要求1所述的一种铜带清洗装置，其特征在于，所述上壳体还设置有将上壳体分隔成第一腔室与第二腔室的隔板，抛光总成位于第一腔室，喷吹组件位于第二腔室；其中，所述隔板上设置有铜带通道，隔板朝向所述过滤组件的一端设置有通孔。3.根据权利要求2所述的一种铜带清洗装置，其特征在于，所述过滤组件包括设置在隔断板上、位于抛光轮总成下方的收集板，及设置在收集板下方的过滤漏斗。4.根据权利要求3所述的一种铜带清洗装置，其特征在于，所述收集板上平行设置有数条挡...

【专利技术属性】
技术研发人员：滕福春，陈学模，张志，张谦，吴永波，魏雄，燕斌，
申请(专利权)人：成都轩延智能装备有限责任公司，
类型：新型
国别省市：