一种铜带清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种铜带清洗装置，铜带从上壳体一侧的定位组件进入清洗装置，进入抛光总成的抛光工作区域，经过抛光清理铜带上的氧化物后，穿过喷吹组件，将铜带上的附着铜屑吹落，而后清理干净的铜带从另一个定位组件的铜带通道中穿出。上壳体相对两侧的定位组件确保铜带一直位于抛光总成的工作区域内，抛光轮总成上的抛光轮位于铜带的上下侧，从而清理铜带两面的氧化物，而后清理掉的铜屑在高压风机的作用下，穿过隔断板上的过滤组件后落入过滤组件内收集。本铜带清洗装置有效的将铜带两面的氧化物清理干净。的氧化物清理干净。的氧化物清理干净。

【技术实现步骤摘要】
一种铜带清洗装置


[0001]本技术涉及铜带生产设备，尤其涉及一种铜带清洗装置。

技术介绍

[0002]焊带应用广泛，焊带生产主要包括铜带清洗和铜带镀锡两个步骤，目前，铜带清洗和铜带镀锡分开进行，用专门的清洗装置对铜带进行清洗，然后进行铜带收卷，再进行镀锡。清洗的铜带经过收卷和放料，多次牵引，张力控制不一，容易拉断，容易氧化等问题。
[0003]有鉴于此，能够有效的将铜带的氧化物清理干净并且能够平衡张力的清洗装置为我们所需要的。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在提供一种铜带清洗装置，能够高效清理铜带上的氧化物。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案如下：
[0006]一种铜带清洗装置，其特征在于，包括壳体，设置在壳体中部、将壳体分为上壳体与下壳体的隔断板，设置在隔断板上的过滤组件，设置在上壳体内的抛光轮总成，设置在下壳体内的高压风机，位于上壳体、抛光轮总成一侧的喷吹组件，以及设置在上壳体相对两侧壁上的定位组件；其中，所述定位组件与喷吹组件具有位于同一直线的铜带通道，抛光轮总成的抛光轮位于在铜带通道的两侧。
[0007]进一步地，上壳体还设置有将上壳体分隔成第一腔室与第二腔室的隔板，抛光总成位于第一腔室，喷吹组件位于第二腔室；其中，所述隔板上设置有铜带通道，隔板朝向所述过滤组件的一端设置有通孔。
[0008]进一步地，过滤组件包括设置在隔断板上、位于抛光轮总成下方的收集板，及设置在收集板下方的过滤漏斗。
[0009]进一步地，收集板上平行设置有数条挡板，相邻所述挡板之间形成导通第一腔室与过滤漏斗的下渣通道，所述下渣通道的宽度竖直向下逐渐减小。
[0010]进一步地，挡板朝向漏斗的一侧向上内凹。
[0011]进一步地，定位组件包括设置在上壳体外侧壁的固定架，横向架设在固定架上的第一滚筒与第二滚筒，以及纵向架设在固定架上的第三滚筒及第四滚筒；其中，第一滚筒与第二滚筒的中心轴位于同一竖直平面，第三滚筒与第四滚筒可沿第一滚筒轴向滑动。
[0012]进一步地，隔断板朝向所述喷吹组件的一侧及朝向高压风机的一侧均设置有压差开关探头，用于采集上壳体与下壳体内的压力差。
[0013]进一步地，上壳体的外侧壁设置有控制面板。
[0014]进一步地，下壳体的侧壁上设置有出风口。
[0015]与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：
[0016](1)本技术的铜带清洗装置，铜带从上壳体一侧的定位组件进入清洗装置，进入抛光总成的抛光工作区域，经过抛光清理铜带上的氧化物后，穿过喷吹组件，将铜带上的
附着铜屑吹落，而后清理干净的铜带从另一个定位组件的铜带通道中穿出。上壳体相对两侧的定位组件确保铜带一直位于抛光总成的工作区域内，抛光轮总成上的抛光轮位于铜带的上下侧，从而清理铜带两面的氧化物，而后清理掉的铜屑在高压风机的作用下，穿过隔断板上的过滤组件后落入过滤组件内收集。抛光轮总成在铜带通道两侧均设置有抛光轮，实现对铜带两侧同时进行清理，位于上壳体相对相册的定位组件，使得铜带始终位于同一抛光路径，防止铜带在抛光时轻微移动而造成铜带受力不均而影响铜带的张力不一。
[0017](2)本技术的上壳体被隔板分为第一腔室和第二腔室，将上壳体分为第一腔室与第二腔室，即将铜带的抛光区与喷吹组件分开，避免抛光轮带起的铜屑飞溅到喷吹组件上，对喷吹组件造成损坏。同时隔板的下端设置有通孔，用于连通第一腔室与第二腔室，既使得第一腔室与第二腔室的压力一致，第二腔室内的少量铜屑又可以通过通孔被吸入下腔室。隔板上的铜带通道与定位组件的铜带通道在同一直线上，既能供铜带通过，又能对铜带起到一定的支撑作用。
[0018](3)本技术的收集板上平行设置有数条挡板，相邻挡板之间形成导通第一腔室与过滤漏斗的下渣通道，下渣通道的宽度竖直向下逐渐减小，即相邻挡板相对侧呈倒“八”字设计，便于掉落到收集板上的铜屑随着倾斜的挡板外壁滑落至过滤漏斗中，并且由于下渣通道朝向过滤漏斗的一端开口较小，防止过滤漏斗中的小部分铜屑由于气流的影响朝向又飞入第一腔室内。
[0019](4)本技术的定位组件，第一滚筒与第二滚筒之间的距离可调、适配于铜带的厚度，第三滚筒和第四滚筒之间的距离可调、适配于铜带的宽度，使得定位组件适用于不同型号的铜带。
附图说明
[0020]图1为本技术实施例提供的一种铜带清洗装置的整体结构示意图。
[0021]图2为本技术实施例提供的一种铜带清洗装置的内部结构示意图。
[0022]图3为本技术实施例提供的过滤组件的结构示意图。
[0023]图4为本技术实施例提供的收集板的剖视图。
[0024]图5为本技术实施例提供的定位组件的结构示意图。
[0025]上述附图中，附图标记对应的部件名称如下：
[0026]1‑
壳体，2
‑
隔断板，3
‑
上壳体，31
‑
第一腔室，32
‑
第二腔室，33
‑
隔板，331
‑ꢀ
通孔，4
‑
下壳体，5
‑
过滤组件，51
‑
收集板，511
‑
挡板，5111
‑
凹槽，512
‑
下渣通道， 52
‑
过滤漏斗，6
‑
抛光轮总成，7
‑
高压风机，8
‑
喷吹组件，9
‑
定位组件，91
‑
第一滚筒，92
‑
第二滚筒，93
‑
第三滚筒，94
‑
第四滚筒，95
‑
固定架，96
‑
支撑杆，97
‑ꢀ
轴承，98
‑
螺母，10
‑
控制面板，11
‑
压差开关探头，100
‑
铜带。
具体实施方式
[0027]下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明，本技术的实施方式包括但不限于下列实施例。
[0028]请参阅图1，一种铜带清洗装置，包括壳体1，设置在壳体中部、将壳体分为上壳体3与下壳体4的隔断板2，设置在隔断板2上的过滤组件5，设置在上壳体3内的抛光轮总成6，设
置在下壳体4内的高压风机7，位于上壳体3、抛光轮总成6一侧的喷吹组件8，以及设置在上壳体3相对两侧壁上的定位组件9。其中，定位组件9与喷吹组件8具有位于同一直线的铜带通道。铜带100从上壳体3一侧的定位组件9进入清洗装置，进入抛光总成6的抛光工作区域，经过抛光清理铜带上的氧化物后，穿过喷吹组件8，将铜带上的附着铜屑吹落，而后清理干净的铜带从另一个定位组件9的铜带通道中穿出。上壳体3相对两侧的定位组件9确保铜带一直位于抛光总成的工作区域内，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铜带清洗装置，其特征在于，包括壳体，设置在壳体中部、将壳体分为上壳体与下壳体的隔断板，设置在隔断板上的过滤组件，设置在上壳体内的抛光轮总成，设置在下壳体内的高压风机，位于上壳体、抛光轮总成一侧的喷吹组件，以及设置在上壳体相对两侧壁上的定位组件；其中，所述定位组件与喷吹组件具有位于同一直线的铜带通道，抛光轮总成的抛光轮位于在铜带通道的两侧。2.根据权利要求1所述的一种铜带清洗装置，其特征在于，所述上壳体还设置有将上壳体分隔成第一腔室与第二腔室的隔板，抛光总成位于第一腔室，喷吹组件位于第二腔室；其中，所述隔板上设置有铜带通道，隔板朝向所述过滤组件的一端设置有通孔。3.根据权利要求2所述的一种铜带清洗装置，其特征在于，所述过滤组件包括设置在隔断板上、位于抛光轮总成下方的收集板，及设置在收集板下方的过滤漏斗。4.根据权利要求3所述的一种铜带清洗装置，其特征在于，所述收集板上平行设置有数条挡...

【专利技术属性】
技术研发人员：滕福春，陈学模，张志，张谦，吴永波，魏雄，燕斌，
申请(专利权)人：成都轩延智能装备有限责任公司，
类型：新型
国别省市：