【技术实现步骤摘要】
一种电子气体除氧杂质系统
[0001]本技术涉及气体除杂
,尤其涉及一种电子气体除氧杂质系统。
技术介绍
[0002]目前,半导体工业用的气体统称电子气体。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合,可分为电子级,LSI大规模集成电路级,VLSI超大规模集成电路级和ULSI特大规模集成电路级。在半导体工艺中,电子气体常用于等离子刻蚀或反应离子刻蚀二氧化硅工艺,要求纯度达99.99%,由于电子气体含有氧气及其他杂质,未达到半导体行业的使用要求。
技术实现思路
[0003]本技术目的是为了解决现有技术中存在的问题,提供一种电子气体除氧杂质系统。
[0004]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
[0005]一种电子气体除氧杂质系统,包括:聚酰胺氮膜系统、液化系统、分子筛除氧塔,所述聚酰胺氮膜系统输入端连接电子气的源管道,聚酰胺氮膜系统输出端通过第一管道与液化系统联通,液化系统通过第二管道与分子筛除氧塔的输入接口联通,分子筛除氧塔的顶端输出接口与排氧管联通,分子筛除氧塔的底端输出接口与除氧电子气的净化管联通。
[0006]一种电子气体除氧杂质系统,所述聚酰胺氮膜系统的底端设置有再利用回收气体管。
[0007]一种电子气体除氧杂质系统,所述分子筛除氧塔的分子筛为碳分子筛。
[0008]由于采用如上所述的技术方案,本技术具有如下优越性:
[0009]一种电子气体除氧杂质系统,能够去除了电子气体的含氧及其他杂质,提高了电子气体的纯度 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电子气体除氧杂质系统,其特征是:包括:聚酰胺氮膜系统(1)、液化系统(2)、分子筛除氧塔(3),所述聚酰胺氮膜系统(1)输入端连接电子气的源管道(4),聚酰胺氮膜系统(1)输出端通过第一管道(5)与液化系统(2)联通,液化系统(2)通过第二管道(6)与分子筛除氧塔(3)的输入接口联通,分子筛除氧塔(3)...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘文丽,李飞娥,王俊果,郭帅杰,韩列光,姬文博,刘乐通,
申请(专利权)人:伊川湄格气体有限公司,
类型:新型
国别省市:
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