本发明专利技术提供一种导电辊擦拭装置及其使用方法，该装置包括支架，支架包括第一支架1和第二支架8，第一支架1和第二支架8之间固定安装有滑轨2，滑轨2的外侧套设安装有滑块机构，滑块机构能够沿着滑轨2滑动，滑块机构上连接有操作杆5，操作杆5的下端设置有擦拭机构；滑块机构包括吊环和直线轴承，直线轴承设置在滑轨上，吊环后端转动安装在直线轴承的前侧壁中部，吊环的前端套设固定在操作杆外侧。本发明专利技术能够方便操作人员对辊上面的杂质或者铜等进行清除处理，减少操作人员的危险，提高薄膜的质量。质量。质量。
【技术实现步骤摘要】
一种导电辊擦拭装置及其使用方法
[0001]本专利技术属于电镀领域，尤其涉及一种导电辊擦拭装置及其使用方法。
技术介绍
[0002]电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。不少硬币的外层亦为电镀。
[0003]在现有的铜箔或复合铜箔电镀生产过程中，通过导电辊对箔进行导电，箔从镀液中通过，会在表面附着一层镀液接触导电辊，从而造成导电辊表面结晶及镀铜，对箔表面造成损伤，这样需要对导电辊表面镀上的铜或者结晶进行清除。
[0004]目前，对镀上的铜或者异物进行清除的办法是操作人员爬上电镀槽的装置上，但是这种方式一方面操作人员会容易摔倒受伤，另一方面爬上去也很可能会引入新杂质，这对于薄膜质量要求较高的生产线来说是无法接受的。
技术实现思路
[0005]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种导电辊擦拭装置及其使用方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0007]第一方面，提供一种导电辊擦拭装置，包括支架，所述支架包括第一支架和第二支架，所述第一支架和第二支架之间固定安装有滑轨，所述滑轨的外侧套设安装有滑块机构，所述滑块机构能够沿着所述滑轨滑动，所述滑块机构上连接有操作杆，所述操作杆的下端设置有擦拭机构；
[0008]所述滑块机构包括吊环和直线轴承，所述直线轴承设置在所述滑轨上，所述吊环后端转动安装在所述直线轴承的前侧壁中部，所述吊环的前端套设固定在操作杆外侧。
[0009]进一步的，所述擦拭机构为弧形擦拭机构，所述弧形擦拭机构包括连接杆和弧形擦拭部，所述连接杆底端固定连接所述弧形擦拭部的顶端，所述连接杆顶端固定连接所述操作杆的下端。
[0010]进一步的，所述弧形擦拭部的材质为橡胶，所述弧形擦拭部的弧度为60
°‑
180
°
。
[0011]进一步的，所述第一支架和第二支架的间距为500cm
‑
1500cm；所述操作杆是伸缩杆。
[0012]进一步的，所述弧形擦拭部的擦拭面上设置有凹陷的螺纹槽。
[0013]进一步的，所述吊环将所述操作杆分成第一部分和第二部分，所述第一部分的长度为所述第二部分长度的2倍。
[0014]进一步的，所述第二支架上部设置有开口向下的U形卡合结构，所述U形卡合结构与第二支架垂直固定连接。
[0015]进一步地，所述第一支架和所述第二支架互相平行，所述滑轨垂直于所述第一支架或者第二支架。
[0016]第二方面，还提供一种导电辊擦拭装置的使用方法，其包括：
[0017]将所述导电辊擦拭装置通过所述第一支架和所述第二支架安装在生产线上面需要擦拭的导电辊上；
[0018]将所述操作杆连接的所述弧形擦拭机构放置在需要擦拭的导电辊上；
[0019]向前推动所述操作杆，使得所述滑块机构在所述滑轨上向前移动，从而带动所述弧形擦拭部擦拭所述导电辊上的异物。
[0020]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0021]本专利技术在结构上设计简单合理，使用起来方便快捷，实用性很高，可以方便人工进行清理，不需要操作人员爬上电镀台，从而将异物带到电镀槽中，能够方便操作人员对辊上面的杂质或者铜等进行清除处理，减少操作人员的危险，提高薄膜的质量。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1是本专利技术实施例的一种导电辊擦拭装置的结构示意图；
[0024]图2是本专利技术实施例的滑块机构的具体结构示意图；
[0025]图3是本专利技术实施例的一种导电辊擦拭装置的使用方法流程图。
[0026]图中：第一支架1、滑轨2、直线轴承3、吊环4、操作杆5、弧形擦拭部6、导电辊7、第二支架8、连接杆9、U形卡合结构10。
具体实施方式
[0027]下面将详细描述本专利技术的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本专利技术的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本专利技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本专利技术的示例来提供对本专利技术的更好的理解。在附图和下面的描述中，至少部分的公知结构和技术没有被示出，以便避免对本专利技术造成不必要的模糊；并且，为了清晰，可能夸大了部分结构的尺寸。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
[0028]请参阅图1和图2，本专利技术实施例提供一种导电辊擦拭装置，其包括支架，支架包括第一支架1和第二支架8，第一支架1和第二支架8之间固定安装有滑轨2，滑轨2的外侧套设安装有滑块机构，该滑块机构能够沿着滑轨2滑动，滑块机构上连接有操作杆5，该操作杆5的下端设置有擦拭机构，滑块机构包括吊环4和直线轴承3，该直线轴承3设置在滑轨2上，吊环4后端转动安装在直线轴承3前侧壁中部，吊环4前端套设固定在操作杆5的外侧。
[0029]进一步地，操作杆5下端设置有弧形擦拭机构，该弧形擦拭机构可以包括连接杆9和弧形擦拭部6，连接杆9的底端固定连接弧形擦拭部6的顶端，连接杆9的顶端固定连接操
作杆5下端。
[0030]进一步地，第一支架1和第二支架8互相平行，滑轨2垂直于第一支架1或者第二支架8。为满足运输便携性要求，操作杆5可以是伸缩杆。
[0031]进一步的，弧形擦拭部6的弧度为60
°‑
180
°
，设置这样的弧度主要在于可以适应不同的导电辊的辊径。
[0032]进一步的，弧形擦拭部6的材质为橡胶，厚度可以为2cm
‑
5cm，这样设置可以使得擦拭的效果更佳。在其他的实施例中，弧形擦拭部6的擦拭面上增加设置有一个凹陷的螺纹槽的结构，这样相比于平面结构，擦拭效果更好。在其他的实施例中，弧形擦拭部6的材质可以是三元乙丙或者其他耐腐蚀材质，避免硬对硬造成导电辊损伤。
[0033]进一步的，第一支架1和第二支架8的间距为500cm
‑
1500cm。
[0034]进一步的，吊环4将操作杆5分成第一部分和第二部分，第一部分的长度为第二部分长度的2倍。在本实施例中，吊环4距离该操作杆5左边端点的距离是该吊环4距离该操作杆5右边端点的距离的2倍，通过这样设置，方便操作人员操作。
[0035]进一步的，第二支架8上部设置有开口向下的U形卡合结构10，U形卡合结构10与第二支架8垂直固定连接。本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种导电辊擦拭装置，包括支架，其特征在于：所述支架包括第一支架(1)和第二支架(8)，所述第一支架(1)和第二支架(8)之间固定安装有滑轨(2)，所述滑轨(2)的外侧套设安装有滑块机构，所述滑块机构能够沿着所述滑轨(2)滑动，所述滑块机构上连接有操作杆(5)，所述操作杆(5)的下端设置有擦拭机构；所述滑块机构包括吊环(4)和直线轴承(3)，所述直线轴承(3)设置在所述滑轨(2)上，所述吊环(4)的后端转动安装在所述直线轴承(3)的前侧壁中部，所述吊环(4)的前端套设固定在所述操作杆(5)的外侧。2.根据权利要求1所述的一种导电辊擦拭装置，其特征在于，所述擦拭机构为弧形擦拭机构，所述弧形擦拭机构包括连接杆(9)和弧形擦拭部(6)，所述连接杆(9)底端固定连接所述弧形擦拭部(6)的顶端，所述连接杆(9)顶端固定连接所述操作杆(5)的下端。3.根据权利要求2所述的一种导电辊擦拭装置，其特征在于，所述弧形擦拭部(6)的材质为橡胶，所述弧形擦拭部(6)的弧度为60
°‑
180
°
。4.根据权利要求2所述的一种导电辊擦拭装置，其特征在于，所述弧形擦拭部(6)的厚度为2cm
‑
5cm。5.根据权利要求2所述的一种导电辊擦拭装置，其特征在于，所述弧形擦拭部(6...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘欣，臧世伟，
申请(专利权)人：重庆金美新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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