一种涂布系统技术方案

本发明专利技术涉及锂电池制造技术领域，公开了一种涂布系统，用以解决现有技术中存在的在涂布过程中由于难以发现极片发生偏移，造成极片涂布的一致性差，影响极片的裁剪，并容易导致大批量的极卷报废的问题。该涂布系统包括光发射组件，光发射组件用于向极片的表面投射光线，并在极片表面形成可视化图案；可视化图案包括第一基准图案，第一基准图案至少部分位于极片靠近模头的一端，且与涂布系统中的模头的出料口沿出料方向在极片上的投影不重合；极片表面具有涂布形成的待检测图案，第一基准图案与待检测图案之间具有标定的第一位置关系，第一位置关系用于检测极片与模头之间是否发生相对移动。移动。移动。

【技术实现步骤摘要】
一种涂布系统


[0001]本专利技术涉及锂电池制造
，尤其涉及一种涂布系统。

技术介绍

[0002]现有的涂布系统中，包括模头、辊轴等部件，模头向极片表面喷涂浆料，辊轴通过旋转传输极片，在辊轴传输极片的过程中，极片受力情况可能会不一致，极片容易向两侧发生偏移，且难以及时发现并进行调整，一旦极片发生偏移，模头喷出的浆料在极片表面形成的涂布区域则相对极片发生偏移，造成锂电池极片涂布的一致性差，影响极片的裁剪，也容易导致大批量极卷报废的情况。

技术实现思路

[0003]本专利技术提供一种涂布系统，用以解决现有技术中存在的在涂布过程中由于难以发现极片发生偏移，造成极片涂布的一致性差，影响极片的裁剪，并容易导致大批量的极卷报废的问题。
[0004]本专利技术提供了一种涂布系统，该涂布系统包括光发射组件，所述光发射组件用于向极片的表面投射光线，并在所述极片表面形成可视化图案；
[0005]所述可视化图案包括第一基准图案，所述第一基准图案至少部分位于所述极片的前端，且与所述涂布系统中的模头的出料口沿出料方向在所述极片上的投影不重合；
[0006]所述极片表面具有涂布形成的待检测图案，所述第一基准图案与所述待检测图案之间具有标定的第一位置关系，所述第一位置关系用于检测所述极片与所述模头之间是否发生相对移动。
[0007]上述的技术方案具有如下优点或者有益效果：
[0008]该涂布系统包括光发射组件，光发射组件可以向极片表面投射光线，以在极片表面形成可视化图案，可视化图案中的第一基准图案与极片表面涂布形成的待检测图案具有标定的第一位置关系，当极片与模头之间发生相对移动时，第一基准图案与待检测图案之间的相对位置关系将发生变化，因此，在涂布过程中，可以通过查看第一基准图案与待检测图案之间是否满足标定的第一位置关系来检测极片与模头之间的相对移动情况；另外，第一基准图案至少有部分位于极片的前端部分，当极片的第一面涂布完成，翻转极片涂布另一面时，通过第一基准图案与刚开始涂布产生的待检测图案是否满足标定的第一位置关系，可以校正模头的位置，保证极片两面的图案重合，避免了因极片两面的图案不重合造成大量的极片浪费。
附图说明
[0009]图1为本专利技术实施例提供的一种涂布系统的结构简图；
[0010]图2为本专利技术实施例提供的另一种涂布系统的结构简图；
[0011]图3为本专利技术实施例提供的一种第一基准图案与待检测图案的第一位置关系的示
意图；
[0012]图4为图3中示出的第一基准图案与待检测图案的位置关系变化图；
[0013]图5为本专利技术实施例提供的另一种第一基准图案与待检测图案的第一位置关系的示意图；
[0014]图6为图5中示出的第一基准图案与待检测图案的位置关系变化图；
[0015]图7为本专利技术实施例提供的又一种第一基准图案与待检测图案的第一位置关系的示意图；
[0016]图8为图7中示出的第一基准图案与待检测图案的位置关系变化图；
[0017]图9为本专利技术实施例提供的再一种第一基准图案与待检测图案的第一位置关系的示意图；
[0018]图10为图9中示出的第一基准图案与待检测图案的位置关系变化图；
[0019]图11为本专利技术实施例提供的在对极片的第二面涂布过程时，一种第一基准图案与待检测图案的位置关系变化图。
[0020]附图标记：
[0021]10
‑
光发射组件11
‑
第一基准图案11a
‑
光点11b
‑
第一基准线
[0022]20
‑
极片21
‑
待检测图案211
‑
第一边界线
[0023]201
‑
涂布区域202
‑
非涂布区域
[0024]30
‑
模头40
‑
支架50
‑
第一底座
[0025]60
‑
第二底座70
‑
辊轴
具体实施方式
[0026]为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本专利技术作进一步详细地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0027]本专利技术提供一种涂布系统，用以解决现有技术中存在的在涂布过程中由于难以发现极片发生偏移，造成极片涂布的一致性差，影响极片的裁剪，并容易导致大批量的极卷报废的问题。
[0028]如图1、图2所示，该涂布系统包括光发射组件10，光发射组件10用于向极片20的表面投射光线，这部分光线在极片20的表面形成可视化图案；可视化图案包括第一基准图案11，第一基准图案11至少部分位于极片20靠近涂布系统的模头的一端，且与涂布系统中的模头30的出料口沿出料方向在极片20上的投影不重合；
[0029]极片20表面具有涂布形成的待检测图案21，第一基准图案11与待检测图案21之间具有标定的第一位置关系，第一位置关系用于检测极片20与模头30之间是否发生相对移动。
[0030]具体的，光发射组件10可以为一种激光发射组件，激光发射组件能够发射激光，激光的亮度高，在传输过程中发散角度小，因此，投射在极片20表面形成的图案线条清晰，容易辨识。除了激光发射组件外，还可以为其他光发射组件10，只要是能投射出可见光，并在极片20表面形成可视化图案即可。
[0031]可视化图案包括第一基准图案11，第一基准图案11的形状不限，例如，如图3、图4所示，第一基准图案11为一个光点11a，又例如，如图5、图6所示，第一基准图案11为一条亮线，第一基准图案11还可以为圆形图案、多边形图案，或者其他形状的图案等，在此，不再一一列举。
[0032]一并参考图3～图11，极片20表面具有涂布形成的待检测图案21，该待检测图案21可以为由涂布区域201形成的图案，或者由非涂布区域202形成的图案，还可以为由涂布区域201和非涂布区域202共同形成的图案，值得说明的是，涂布区域201指极片20表面被浆料覆盖的区域，非涂布区域202指极片20表面未被浆料覆盖的区域，极片20表面经过涂布后，可以有一条涂布区域201，也可以有多条涂布区域201，本专利技术中，以一条涂布区域201为例进行示例性说明。
[0033]第一基准图案11和待检测图案21具有标定的第一位置关系，在涂布过程中，通过查看第一基准图案11与待检测图案21是否满足标定的第一位置关系来检测极片20与模头30之间的相对移动情况，具体而言，若第一基准图案11与待检测图案21之间满足第一位置关系，则说明极片20与模头30之间未发生相对移动，若第一基准图案11与待检测图案21之间不满足第一位置关系，则说明极片20与模头30之间发生相对移动。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布系统，其特征在于，包括光发射组件，所述光发射组件用于向极片的表面投射光线，并在所述极片表面形成可视化图案；所述可视化图案包括第一基准图案，所述第一基准图案至少部分位于所述极片靠近所述涂布系统的模头的一端，且与所述模头的出料口沿出料方向在所述极片上的投影不重合；所述极片表面具有涂布形成的待检测图案，所述第一基准图案与所述待检测图案之间具有标定的第一位置关系，所述第一位置关系用于检测所述极片与所述模头之间是否发生相对移动。2.如权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述第一基准图案为光点，所述待检测图案包括沿所述极片的移动方向延伸的第一边界线，所述第一边界线为所述极片表面的涂布区域与非涂布区域之间的边界线；所述光点与所述第一边界线之间具有所述第一位置关系；或者，所述第一基准图案包括沿所述极片的移动方向延伸的第一基准线，所述待检测图案包括沿所述极片的移动方向延伸的第一边界线，所述第一边界线为所述极片表面的涂布区域与非涂布区域之间的边界线；所述第一基准线与所述第一边界线之间具有所述第一位置关系。3.如权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，当所述第一基准图案为光点时，所述第一位置关系为：所述光点位于所述第一边界线上；当所述第一基准图案包括沿所述极片的移动方向延伸的第一基准线时，所述第一位置关系为：所述第一基准线与所述第一边界线重合。4.如权利要求2或3所述的涂布系统，其特征在于，所述待检测图案包括多条所述第一边界线；所述第一基准图案...

【专利技术属性】
技术研发人员：李叶军，
申请(专利权)人：凯博能源科技有限公司，
类型：发明
国别省市：