一种碎片清理装置及电镀设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种碎片清理装置及电镀设备，所述碎片清理装置包括：用于盛放药液及待处理基板的工艺处理槽，所述工艺处理槽的槽体底部设有药液排出口，所述工艺处理槽的槽体侧壁上设有药液排入口；及，自循环排碎片系统，所述自循环排碎片系统包括连通于所述药液排出口及所述药液排入口之间的循环管路，所述循环管路上设有用于控制所述循环管路通断状态的控制阀门、用于将所述循环管路内的碎片过滤掉的碎片过滤收集装置、以及用于为所述循环管路内的药液提供循环驱动力的动力泵。本实用新型专利技术提供的碎片清理装置及电镀设备，能够有效减少在电镀等工艺过程中由于碎片导致的停机作业时间，减少人工作业的安全风险和杂质引入风险。险。险。

【技术实现步骤摘要】
一种碎片清理装置及电镀设备


[0001]本技术涉及电镀工艺
，尤其涉及一种碎片清理装置及电镀设备。

技术介绍

[0002]在电镀等工艺过程中，玻璃碎片事故在所难免，碎片后需清理碎片，防止碎片对后续工艺质量的影响。目前，电镀工艺中发生碎片之后，需要宕机排液，人工进入电镀槽体内作业，进行电镀药液抽出作业，增加了停机作业时间和人工作业的安全风险及杂质(Particle)引入风险。

技术实现思路

[0003]为了解决上述技术问题，本技术提供一种碎片清理装置及电镀设备，能够有效减少在电镀等工艺过程中由于碎片导致的停机作业时间，减少人工作业的安全风险和杂质引入风险。
[0004]为了达到上述目的，本技术采用的技术方案是：
[0005]本公开实施例提供了一种碎片清理装置，用于对工艺设备内产生碎片进行清理，该碎片清理装置包括：
[0006]用于盛放药液及待处理基板的工艺处理槽，所述工艺处理槽的槽体底部设有药液排出口，所述工艺处理槽的槽体侧壁上设有药液排入口；
[0007]及，自循环排碎片系统，所述自循环排碎片系本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种碎片清理装置，用于对工艺设备内产生碎片进行清理，其特征在于，所述碎片清理装置包括：用于盛放药液及待处理基板的工艺处理槽，所述工艺处理槽的槽体底部设有药液排出口，所述工艺处理槽的槽体侧壁上设有药液排入口；及，自循环排碎片系统，所述自循环排碎片系统包括连通于所述药液排出口及所述药液排入口之间的循环管路，所述循环管路上设有用于控制所述循环管路通断状态的控制阀门、用于将所述循环管路内的碎片过滤掉的碎片过滤收集装置、以及用于为所述循环管路内的药液提供循环驱动力的动力泵。2.根据权利要求1所述的碎片清理装置，其特征在于，所述工艺处理槽的槽体底部为用于将所述工艺处理槽内药液引流至所述药液排出口的第一倒锥形腔体，所述第一倒锥形腔体的底部连通所述药液排出口。3.根据权利要求2所述的碎片清理装置，其特征在于，所述控制阀门包括手动阀门和电磁阀门中的至少一个。4.根据权利要求1所述的碎片清理装置，其特征在于，所述碎片过滤收集装置包括：从所述药液排出口向所述药液排入口方向，依次设置的碎片收集器和过滤器。5.根据权利要求4所述的碎片清理装置，其特征在于，所述碎片收集器包括：收集盒，所述收集盒呈盒体状，所述收集盒的盒体...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁广才，闫俊伟，孙少东，张国才，董士豪，王成飞，董鹏程，齐琪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：