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本实用新型提供一种碎片清理装置及电镀设备，所述碎片清理装置包括：用于盛放药液及待处理基板的工艺处理槽，所述工艺处理槽的槽体底部设有药液排出口，所述工艺处理槽的槽体侧壁上设有药液排入口；及，自循环排碎片系统，所述自循环排碎片系统包括连通于所述...
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