镀膜设备及其镀膜方法技术

镀膜装置，用于涂覆多个基材，包括一具有一反应腔的腔室体，一支撑架，一单体释放源以及一等离子激发源。所述单体释放源具有至少一释放进口用于引入膜层形成材料进入所述腔室体的所述反应腔。所述等离子激发源被配置于所述腔室体的所述反应腔的一中间区域以激发所述膜层形成材料，其中多个所述基材被适应性地布置于在所述腔室体内的所述等离子激发源的周围，以增加在所述基材的所述表面的镀膜均匀性和提供沉积速度。性和提供沉积速度。性和提供沉积速度。性和提供沉积速度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：