用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具制造技术

本实用新型专利技术涉及切割平台技术领域，特别涉及用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具，面板上表面矩阵式分布有多块真空吸附区，用于吸附待切割产品，多块真空吸附区采用四行四列的矩阵式分布，一共十六个真空吸附区，每一真空吸附区内矩阵式分布有多个真空吸附孔，多个真空吸附孔采用十一行十一列的矩阵式分布，相邻两真空吸附孔之间的距离为10.8mm。与现有技术相比，本实用新型专利技术的用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具的多个抽真空槽之间通过纵横交错的挡板分离开，利于单个抽真空槽的单独真空吸附控制，相邻两真空吸附孔之间的距离为10.8mm，适用小版本连片产品切割，单次可切割多个小版本，单次最多切割板，有效提高生产效率。有效提高生产效率。有效提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具


[0001]本技术涉及切割平台
，特别涉及用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具。

技术介绍

[0002]现有用于TFT切割的设备平台，主要工作方式是大板上料至切割平台后抓靶对位，然后对单个大板进行切割成类似手机大小的单片产品，主要适用范围中大尺寸产品切割。然而，现有技术的切割平台，真空孔分布间距40mm过大，小版本连片产品无法吸附真空切割，只能满足单个大板切割，切割效率不足。

技术实现思路

[0003]为了克服上述问题，本技术提出一种可有效解决上述问题的用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具。
[0004]本技术解决上述技术问题提供的一种技术方案是：提供一种用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具，包括底座和面板，所述面板固定于底座上表面；所述面板上表面矩阵式分布有多块真空吸附区，真空吸附区用于吸附待切割产品；所述多块真空吸附区采用四行四列的矩阵式分布，一共十六个真空吸附区，每一真空吸附区内矩阵式分布有多个真空吸附孔，多个真空吸附孔采用十一行十一列的矩阵式分布，相邻两真空吸附孔之间的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具，其特征在于，包括底座和面板，所述面板固定于底座上表面；所述面板上表面矩阵式分布有多块真空吸附区，真空吸附区用于吸附待切割产品；所述多块真空吸附区采用四行四列的矩阵式分布，一共十六个真空吸附区，每一真空吸附区内矩阵式分布有多个真空吸附孔，多个真空吸附孔采用十一行十一列的矩阵式分布，相邻两真空吸附孔之间的距离为10.8mm。2.如权利要求1所述的用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具，其特征在于，所述底座的相对两侧分别开设有多个抽真空孔，所述底座内部开设有多个抽真空槽，每一抽真空槽连通一抽真空孔，每一抽真空孔外部连接抽真空设备。3.如权利要求2所述的用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具，其特征在于，所述多个抽真空槽之间通过纵横交错的挡板分离开。4.如权利要求2所述的用于穿戴OLED屏幕的切割平台治具，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘传强，钟文杰，田永宁，陈庆椿，蒙祖林，
申请(专利权)人：赣州市同兴达电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：