MEMS反光镜装置以及其制造方法制造方法及图纸

MEMS反光镜装置(3)具备框体(外侧可动框体13)、内侧可动构件(23)、第1梁(21)、反射反光镜构件(30)和连结构件(40)。内侧可动构件(23)配置在框体的内侧。第1梁(21)将内侧可动构件(23)可旋转地连结于框体。反射反光镜构件(30)具有反射面(30r)和背面(30s)。连结构件(40)连结反射反光镜构件(30)与内侧可动构件(23)。第1梁(21)在反射反光镜构件(30)的背面(30s)与内侧可动构件(23)连结。MEMS反光镜装置(3)可实现小型化。实现小型化。实现小型化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】MEMS反光镜装置以及其制造方法


[0001]本专利技术涉及MEMS反光镜装置以及其制造方法。

技术介绍

[0002]日本特开2003－270555号公报(专利文献1)公开了包括平面型促动器的光扫描装置。该光扫描装置具备固定部、外侧扭力杆、外侧可动板、内侧扭力杆、内侧可动板、反射反光镜和驱动机构。外侧可动板经由外侧扭力杆与固定部连结。内侧可动板经由内侧扭力杆与外侧可动板连结。反射反光镜设在内侧可动板上。驱动机构驱动外侧可动板以及内侧可动板。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2003－270555号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]但是，在专利文献1所公开的光扫描装置中，内侧扭力杆与跟反射反光镜的外周缘部对应的内侧可动板的外周缘部连接。为了确保光扫描装置所需的反射反光镜的面积，需要增大内侧可动板的面积，光扫描装置的尺寸变大。本专利技术是鉴于上述的课题而做出的，其目的在于提供能实现小型化的MEMS反光镜装置以及其制造方法。
[0008]用于解决课题的方案
[0009]本专利技术的MEMS反光镜装置具备框体、内侧可动构件、第1梁、反射反光镜构件和连结构件。内侧可动构件配置在框体的内侧。第1梁将内侧可动构件可旋转地连结于框体。反射反光镜构件具有反射面和与反射面相反侧的背面。连结构件将反射反光镜构件与内侧可动构件连结。第1梁在反射反光镜构件的背面与内侧可动构件连结。
[0010]专利技术的效果
[0011]在本专利技术的MEMS反光镜装置中，由于第1梁在反射反光镜构件的背面与内侧可动构件连结，所以，不用增大内侧可动构件就能确保反射面的面积。本专利技术的MEMS反光镜装置可小型化。
附图说明
[0012]图1是实施方式1的光扫描装置的概略图。
[0013]图2是实施方式1的MEMS反光镜装置的概略后视立体图。
[0014]图3是实施方式1的MEMS反光镜装置的概略主视立体图。
[0015]图4是实施方式1所涉及的MEMS反光镜装置的、图2所示的剖面线IV－IV处的概略剖面图。
[0016]图5是实施方式1的MEMS反光镜装置的、图2所示的剖面线V－V处的概略剖面图。
[0017]图6是实施方式1的MEMS反光镜装置的、图2所示的剖面线VI－VI处的概略剖面图。
[0018]图7是实施方式1的MEMS反光镜装置的、图2所示的剖面线VII－VII处的概略剖面图。
[0019]图8是实施方式1的光扫描装置所包含的内侧可动构件的概略后视图。
[0020]图9是实施方式1的光扫描装置所包含的反射反光镜构件的概略后视图。
[0021]图10是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的驱动原理的概略后视立体图。
[0022]图11是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的动作状态的概略后视立体图。
[0023]图12是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的动作状态的概略主视立体图。
[0024]图13是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的动作状态的概略后视立体图。
[0025]图14是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的动作状态的概略主视立体图。
[0026]图15是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法的一个工序的概略剖面图。
[0027]图16是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图15所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0028]图17是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图16所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0029]图18是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图17所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0030]图19是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图17所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0031]图20是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图18以及图19所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0032]图21是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图18以及图19所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0033]图22是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图20所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0034]图23是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图22所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0035]图24是示出实施方式1的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图23所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0036]图25是实施方式2的光扫描装置的概略图。
[0037]图26是实施方式2的MEMS反光镜装置的概略后视立体图。
[0038]图27是实施方式2所涉及的MEMS反光镜装置的、图26所示的剖面线XXVII－XXVII处的概略剖面图。
[0039]图28是示出实施方式3的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图15所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0040]图29是示出实施方式3的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图28所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0041]图30是示出实施方式3的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图28所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0042]图31是示出实施方式3的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图29以及图30所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0043]图32是示出实施方式3的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图29以及图30所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0044]图33是示出实施方式3的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图31以及图32所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0045]图34是示出实施方式3的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图33所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0046]图35是示出实施方式4的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图18以及图19所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0047]图36是示出实施方式4的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图18以及图19所示的工序的下一工序的概略剖面图。
[0048]图37是示出实施方式4的MEMS反光镜装置的制造方法中的、图35以及图36所示的工序的下一工序的概略剖面图。
具体实施方式
[0049]以下，说明本专利技术的实施方式。此外，对相同的构成标注相同的附图标记，而不重复其说明。
[0050]实施方式1.
[0051]参照图1说明实施方式1的光扫描装置1。本实施方式的光扫描装置1具备MEMS(Micro Electro Mechanical System)反光镜(Mirror)装置3、第1磁场发生器5a、第2磁场发生器5b、第1交流电流源5c和第2交流电流源5本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种MEMS反光镜装置，其中，上述MEMS反光镜装置具备：框体；内侧可动构件，该内侧可动构件配置在上述框体的内侧；第1梁，该第1梁将上述内侧可动构件可旋转地连结于上述框体；反射反光镜构件，该反射反光镜构件具有反射面和与上述反射面相反侧的背面；以及连结构件，该连结构件将上述反射反光镜构件与上述内侧可动构件连结，上述第1梁在上述反射反光镜构件的上述背面与上述内侧可动构件连结。2.如权利要求1所述的MEMS反光镜装置，其中，上述MEMS反光镜装置还具备：固定框体；以及第2梁，该第2梁将上述框体可旋转地连结于上述固定框体，上述框体是外侧可动框体，当俯视上述反射反光镜构件的上述反射面时，上述第2梁在与上述第1梁不同的方向延伸。3.如权利要求2所述的MEMS反光镜装置，其中，上述MEMS反光镜装置还具备第1肋，该第1肋设在上述外侧可动框体，上述第1肋从上述反射反光镜构件侧的上述外侧可动框体的表面突出，且与上述反射反光镜构件分开。4.如权利要求2或3所述的MEMS反光镜装置，其中，上述第2梁包括与上述框体及上述固定框体连接的第1层和层积在上述第1层上的第2层，上述第2层与上述框体及上述固定框体分离，且具有比上述第1层大的厚度和比上述第1层小的宽度。5.如权利要求1所述的MEMS反光镜装置，其中，上述框体是固定框体。6.如权利要求1～5中任一项所述的MEMS反光镜装置，其中，在上述内侧可动构件设有槽，上述第1梁在上述槽中延伸。7.如权利要求6所述的MEMS反光镜装置，其中，上述内侧可动构件包括第1框体部分、第2框体部分和将上述第1框体部分与上述第2框体部分连结的连结部分，上述第1梁与上述连结部分连结，上述槽由上述第1框体部分、上述第2框体部分和上述连结部分规定。8.如权利要求1～7中任一项所述的MEMS反光镜装置，其中，上述MEMS反光镜装置还具备设于上述反射反光镜构件的第2肋，上述第2肋从上述反射反光镜构件的上述背面突出。9.如权利要求8所述的MEMS反光镜装置，其中，在上述第2肋的至少一部分设有间隙。
10.如权利要求1～9中任一项所述的MEMS反光镜装置，其中，上述MEMS反光镜装置具有包括第1硅层、第2硅层和第3硅层的层积体结构，上述第2硅层层积在上述第1硅层与上述第3硅层之间，在上述第1硅层形成有上述框体、上述内侧可动构件和上述第1梁，在上述第2硅层形成有上述连结构件，在上述第3硅层形成有上述反射反光镜构件。11.一种MEMS反光镜装置的制造方法，是如权利要求1或5所述的MEMS反光镜装置的制造方法，上述MEMS反光镜装置具备层积体，该层积体包括第1硅层、第2硅层和第3硅层，上述第2硅层层积在上述第1硅层与上述第3硅层之间，其中，上述MEMS反光镜装置的制造方法具备以下工序：在上述第1...

【专利技术属性】
技术研发人员：平田善明，绀野伸显，伊藤恭彦，梶山佳敬，
申请(专利权)人：三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：