显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，所述显示面板包括：衬底基板；平坦层，设置于所述衬底基板上；第一电极层，设置于所述平坦层上，所述第一电极层包括在第一方向和第二方向上分别间隔排列的多个第一电极，所述第一方向与所述第二方向相交；第一像素定义层，设置于所述平坦层上，且分别沿所述第一方向和所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的间隔中；第二像素定义层，沿所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的所述第一像素定义层上。避免后续干法蚀刻制程中对平坦层厚度的影响，防止了第二像素定义层图案化时形成凹形，降低出现桥接现象的概率；降低了所需第二像素定义层的厚度，节省了材料，降低了成本。降低了成本。降低了成本。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法、显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]显示技术不断更迭，显示器件朝着多功能和数字化方向发展。大尺寸、高解析度、高色饱、节能、高亮、柔性、透明等逐渐成为技术发展的主流趋势，包括量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)在内的有机发光二极管(OrganicElectroluminesence Display，OLED能够最终实现以上极致性能。
[0003]OLED画质优于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)，在形态方面有更多的自由度，有轻薄、透明度高、柔性等特点。在OLED技术中，如果做大尺寸，印刷工艺是目前首要的技术选择路线，其中像素定义层或者挡墙层，又影响着印刷品质的好坏，其中桥接是在印刷中常见的问题之一。在目前的工艺中，第一像素定义层需要做到0.4um，设备制成能力有限，不能一次涂布到此厚度，未解决此问题，目前做法是先涂布第一像素定义层到＞0.8um，再通过干法蚀刻减薄到0.4um。但是这样会带了问题，在无第一像素定义层的区域，底层平坦层也会被减薄。在第二像素定义层图形化时，第二像素定义层会呈现凹形，在印刷制程中，比较易发生桥接现象。
[0004]综上所述，现有技术中存在减薄第一像素定义层容易减薄其它膜层，从而使得第二像素定义层形成凹形，进而发生桥接现象导致不良的技术问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，用于解决现有技术中存在减薄第一像素定义层容易减薄其它膜层，从而使得第二像素定义层形成凹形，进而发生桥接现象导致不良的技术问题。
[0006]为解决上述问题，第一方面，本专利技术提供一种显示面板，包括：
[0007]衬底基板；
[0008]平坦层，设置于所述衬底基板上；
[0009]第一电极层，设置于所述平坦层上，所述第一电极层包括在第一方向和第二方向上分别间隔排列的多个第一电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
[0010]第一像素定义层，设置于所述平坦层上，且分别沿所述第一方向和所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的间隔中；
[0011]第二像素定义层，沿所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的所述第一像素定义层上。
[0012]在本专利技术的一些实施例中，所述第二像素定义层在所述平坦层上的正投影覆盖所述第二方向上的所述第一像素定义层在所述平坦层上的正投影。
[0013]在本专利技术的一些实施例中，所述第二像素定义层的截面为梯形，所述第二像素定义层的上表面面积小于所述第二像素定义层的下表面面积。
[0014]在本专利技术的一些实施例中，所述第二像素定义层与所述第一像素定义层的接触面保持水平或者向所述第二像素定义层的一侧凸起。
[0015]在本专利技术的一些实施例中，所述第一像素定义层的厚度大于或者等于所述第一电极层的厚度。
[0016]在本专利技术的一些实施例中，所述第一像素定义层的厚度小于或等于0.4um。
[0017]在本专利技术的一些实施例中，所述第一像素定义层的材料是正向光阻材料，所述第二像素定义层的材料是负向光阻材料；或者所述第一像素定义层的材料是负向光阻材料，所述第二像素定义层的材料是正向光阻材料。
[0018]第二方面，本专利技术提供一种显示面板的制备方法，所述制备方法用于制备如第一方面中任一所述的显示面板，包括以下步骤：
[0019]提供一TFT基板，在所述TFT基板的平坦层表面制备第一电极层，所述第一电极层包括沿第一方向和第二方向上分别间隔排列的多个第一电极，所述第一方向与所述第二方向相交；
[0020]在所述平坦层上沿所述第一方向和所述第二方向制备第一像素定义层，所述第一像素定义层位于相邻所述第一电极之间的间隔中；
[0021]在所述第一像素定义层上沿所述第二方向制备第二像素定义层，所述第二像素定义层位于相邻所述第一电极之间的间隔中。
[0022]在本专利技术的一些实施例中，在制备所述第一像素定义层的步骤中包括：在所述平坦层上沿所述第一方向和所述第二方向制备第一像素定义薄膜，并对所述第一像素定义薄膜进行减薄处理，得到所述第一像素定义层。
[0023]第三方面，本专利技术提供一种显示装置，所述显示装置包括如第一方面任一项实施例所述的显示面板。
[0024]相较于现有的显示面板及其制备方法、显示装置，本专利技术通过同时设置第一方向和第二方向上的第一像素定义层，保护了平坦层，避免后续干法蚀刻制程中对平坦层厚度的影响，从而防止了第二像素定义层图案化时形成凹形，降低出现桥接现象的概率；同时，降低了所需第二像素定义层的厚度，节省了材料，降低了成本，提高了生产良率和产品质量。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1为本专利技术一个实施例中一种显示面板的结构示意图；
[0027]图2为本专利技术一个实施例中制备方法的流程图；
[0028]图3A～3B为本专利技术一个实施例中制备方法的分步示意图。
具体实施方式
[0029]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0030]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0031]在本申请中，“示例性”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为“示例性”的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为了使本领域任何技术人员能够实现和使用本专利技术，给出了以下描述。在以下描述中，为了解释的目的而列出了细节。应当明白的是，本领域普通技术人员可以认识到，在不使用这些特定细节的情况本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板；平坦层，设置于所述衬底基板上；第一电极层，设置于所述平坦层上，所述第一电极层包括在第一方向和第二方向上分别间隔排列的多个第一电极，所述第一方向与所述第二方向相交；第一像素定义层，设置于所述平坦层上，且分别沿所述第一方向和所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的间隔中；第二像素定义层，沿所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的所述第一像素定义层上。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素定义层在所述平坦层上的正投影覆盖所述第二方向上的所述第一像素定义层在所述平坦层上的正投影。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素定义层的截面为梯形，所述第二像素定义层的上表面面积小于所述第二像素定义层的下表面面积。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素定义层与所述第一像素定义层的接触面保持水平或者向所述第二像素定义层的一侧凸起。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义层的厚度大于或者等于所述第一电极层的厚度。6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡泽虎，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：