一种适用于较差地质条件下偏压进洞的结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种适用于较差地质条件下偏压进洞的反压回填施工结构，当洞口段为围岩较破碎的Ⅴ级洞口、不满足“半明半暗”进洞的条件时，结合现有地势进行“人造地形”，在偏压侧施作正面及侧面挡墙，对正面挡墙及侧面挡墙内侧进行水泥土回填并碾压，以满足进洞条件。采用本实用新型专利技术的结构，可解决傍山偏压、局部漏空的隧道进洞难题，同时可以减少浅埋偏压地段边、仰坡开挖高度，减少对山体的干扰和破坏，避免汛期施工造成的水土流失，减少了开挖对周边环境影响小，充分体现了人与自然和谐发展的理念。本实用新型专利技术可以实现安全进洞，对保证项目整体建成有重要作用，具有一定的推广和实用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于较差地质条件下偏压进洞的结构
本技术涉及公路隧道施工
，具体涉及一种适用于较差地质条件下的偏压进洞的结构。
技术介绍
在山岭公路工程建设过程中，选线不可避免地会穿越陡斜山体，在这些位置修建隧道，洞口极可能出现偏压的情况；洞口浅埋偏压地段如何减少边、仰坡开挖高度，以保证安全进洞，值得深入研究。现有技术中，在偏压隧道进洞施工时，一般采用两种进洞方法。其一为采用偏压明洞，但需对明洞洞顶以上边、仰坡进行开挖；其二为采用“半明半暗”进洞，先施工洞口套拱或护拱，靠山部分采用暗挖法施工进洞，但对围岩自身稳定性要求较高。采用偏压明洞进洞时，为保证进洞安全，明洞洞顶边、仰坡一般采用较缓的坡比，需对边、仰坡进行大刷大挖，会破坏山体自然植被，汛期容易造成水土流失。根据《公路隧道设计规范第一册土建工程》(JTG3307.1-2018)7.1.1条规定：隧道洞口设计应遵循“早进洞、晚出洞”的原则，洞口不得大挖大刷。且根据现在“两山文化”精神，环水保工作已显得越来越重要。“半明半暗”进洞虽解决了傍山浅埋、局部漏空的隧道进洞难题，但是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于较差地质条件下偏压进洞的结构，其特征在于，包括正面挡墙、侧面挡墙、水泥土回填结构及长管棚；正面挡墙处在拟开挖洞口周围的正面外侧，侧面挡墙处在正面挡墙侧面及拟开挖的洞口段偏压凌空侧，正面挡墙及侧面挡墙浇筑为整体，水泥土回填结构处在正面挡墙及侧面挡墙内侧；正面挡墙兼做套拱，开挖外轮廓外设置钢拱架并埋设管棚导向钢管，在管棚导向钢管的基础上向岩体内钻孔并在钻孔中安装管棚钢管构成长管棚。/n

【技术特征摘要】
1.一种适用于较差地质条件下偏压进洞的结构，其特征在于，包括正面挡墙、侧面挡墙、水泥土回填结构及长管棚；正面挡墙处在拟开挖洞口周围的正面外侧，侧面挡墙处在正面挡墙侧面及拟开挖的洞口段偏压凌空侧，正面挡墙及侧面挡墙浇筑为整体，水泥土回填结构处在正面挡墙及侧面挡墙内侧；正面挡墙兼做套拱，开挖外轮廓外设置钢拱架并埋设管棚导向钢管，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：张程凯，胡建华，闫自海，童育聪，尤鸿波，叶卡尔，李师，陈子健，
申请(专利权)人：中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33