【技术实现步骤摘要】
新型填料微通道反应装置
本技术涉及PCVD级光纤四氯化硅制备领域,更为具体地,涉及一种新型填料微通道反应装置。
技术介绍
光化学反应器是PCVD级光纤四氯化硅制备的关键核心设备,通常采用微通道光化学反应器,微通道光化学反应器独特的心型结构设计,保证了高效传热与传质,并具有良好的使用灵活性。但长时间运行反应器会在各个心型结构内逐渐积累气体形成气泡,并且气泡会随着时间而增大增多。因此,亟需一种能够抑制大气泡的形成的新型填料微通道反应装置。
技术实现思路
鉴于上述问题,本技术的目的是提供一种新型填料微通道反应装置,以解决长时间运行反应器会在各个心型结构内逐渐积累气体形成气泡,并且气泡会随着时间而增大增多的问题。本技术提供的新型填料微通道反应装置,包括反应器,所述反应器包括反应器入口、连接所述反应器入口的反应舱室、连接所述反应舱室的反应器出口,其中,所述反应舱室包括结构室;且,在所述结构室内设置有挡板、丝网。优选地,所述反应器入口连接有四氯化硅原料罐、氯气储罐。 ...
【技术保护点】
1.一种新型填料微通道反应装置,其特征在于,包括反应器,/n所述反应器包括反应器入口、连接所述反应器入口的反应舱室、连接所述反应舱室的反应器出口,其中,/n所述反应舱室包括结构室;且,/n在所述结构室内设置有挡板、丝网。/n
【技术特征摘要】
1.一种新型填料微通道反应装置,其特征在于,包括反应器,
所述反应器包括反应器入口、连接所述反应器入口的反应舱室、连接所述反应舱室的反应器出口,其中,
所述反应舱室包括结构室;且,
在所述结构室内设置有挡板、丝网。
2.如权利要求1所述的新型填料微通道反应装置,其特征在于,
所述反应器入口连接有四氯化硅原料罐、氯气储罐。
3.如权利要求2所述的新型填料微通道反应装置,其特征在于,
所述反应器出口连接有气提塔。
4.如权利要求1所述的新型填料微通道反应装置,其特征在于,
所述反应舱室包括至少两个结构室;
所述结构室之间通过连接管相串联。
5.如权利要求4所述的新型填料微通道反应装置,其特征在于,
所述结构室为心型结构室...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭天宇,姚心,刘见华,张莹,杨培培,万烨,
申请(专利权)人:中国恩菲工程技术有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。