防反光玻璃及其制备方法技术

技术编号:29778848 阅读:31 留言:0更新日期:2021-08-24 17:55
本申请属于防反光玻璃制备领域,尤其涉及一种防反光玻璃及其制备方法。该防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面;其中,每个凹球形的宽度处于第一数值范围,当第一数值范围满足:0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的条件时,同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
防反光玻璃及其制备方法
本申请属于防反光玻璃制备领域,尤其涉及一种防反光玻璃及其制备方法。
技术介绍
为解决外部光线照射在显示屏表面产生反光的问题,通常在显示屏表面设置防反光玻璃,即(Anti-glareGlass,AG)AG玻璃。衡量AG玻璃效果的几个关键因素为防反光效果、闪点、清晰度,最理想的结果是防反光效果好,无闪点,清晰度高。市面上现有产品一般无法兼顾做到以上三点。
技术实现思路
本申请实施例提供一种防反光玻璃及其制备方法,可以同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。第一方面,本申请实施例提供一种防反光玻璃,所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面;其中,每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围;所述第一数值范围包括:0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。第二方面,本申请实施例一种防反光玻璃的制备方法,包括:对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理,避免蚀刻所述非蒙砂蚀刻面;>对所述玻璃基板的待本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防反光玻璃,其特征在于,所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面;其中,每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围;所述第一数值范围包括:/n0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。/n

【技术特征摘要】
1.一种防反光玻璃,其特征在于,所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面;其中,每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围;所述第一数值范围包括:
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。


2.一种防反光玻璃的制备方法,其特征在于,包括:
对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理,避免蚀刻所述非蒙砂蚀刻面;
对所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理,清洗所述待蒙砂蚀刻面;
对预处理后的所述玻璃基板的所述待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理,将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面;
其中,每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围;所述第一数值范围包括:
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。


3.根据权利要求2所述的防反光玻璃的制备方法,其特征在于,所述将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法包括如下步骤:
将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中,浸泡100s至110s,将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面,后对所述纹理面采用超声清洗以除去残留在所述玻璃基板上的所述蒙砂蚀刻液。


4.根据权利要求3所述的防反光玻璃的制备方法,其特征在于,所述蒙砂蚀刻液包括如下重量份的组分:
氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份。


5.根据权利要求4所述的防反光玻璃的制备方法,其特征在于,所述将预处理后的所述玻璃基板浸泡...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢普飞
申请(专利权)人:广东小天才科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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