防反光玻璃及其制备方法技术

本申请属于防反光玻璃制备领域，尤其涉及一种防反光玻璃及其制备方法。该防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个凹球形的宽度处于第一数值范围，当第一数值范围满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的条件时，同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
防反光玻璃及其制备方法
本申请属于防反光玻璃制备领域，尤其涉及一种防反光玻璃及其制备方法。
技术介绍
为解决外部光线照射在显示屏表面产生反光的问题，通常在显示屏表面设置防反光玻璃，即(Anti-glareGlass，AG)AG玻璃。衡量AG玻璃效果的几个关键因素为防反光效果、闪点、清晰度，最理想的结果是防反光效果好，无闪点，清晰度高。市面上现有产品一般无法兼顾做到以上三点。
技术实现思路
本申请实施例提供一种防反光玻璃及其制备方法，可以同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。第一方面，本申请实施例提供一种防反光玻璃，所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。第二方面，本申请实施例一种防反光玻璃的制备方法，包括：对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻所述非蒙砂蚀刻面；对所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗所述待蒙砂蚀刻面；对预处理后的所述玻璃基板的所述待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。其中，将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法包括如下步骤：将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，后对所述纹理面采用超声清洗以除去残留在所述玻璃基板上的所述蒙砂蚀刻液。示例性的，所述蒙砂蚀刻液包括如下重量份的组分：氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份。示例性的，所述将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法具体包括如下步骤：将预处理后的12.7寸、像素密度为210、以及像素尺寸为39.8*119.4um的显示屏中的所述玻璃基板浸泡在重量份的组分为氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份的蒙砂蚀刻液中，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，所述凹球形的宽度为：0.3*39.8um≤所述凹球形的宽度≤0.75*39.8um。其中，所述对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理的方法包括如下步骤：对所述玻璃基板的非蒙砂蚀刻面涂覆耐酸油墨或耐酸膜。其中，所述对所述玻璃基板的蒙砂蚀刻面进行预处理和清洗所述待蒙砂蚀刻面的方法包括如下步骤：利用第一浓度的氢氟酸溶液清洗所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面，后采用超声清洗所述待蒙砂蚀刻面。在第二方面另一种可实现的方式中，所述对预处理后的所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面之后，还包括如下步骤：利用第二浓度的氢氟酸对具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的所述纹理面进行喷淋抛光处理，喷淋5至10分钟。第三方面，本申请实施例提供一种显示器件的面板，包括如第一方面所述的防反光玻璃。第四方面，本申请实施例提供一种护眼屏，包括如第一方面所述的防反光玻璃。本申请实施例与现有技术相比存在的有益效果是：本申请实施例提供的防反光玻璃，包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；在每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸的条件时，可以同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。本申请实施例提供的防反光玻璃的制备方法，该方法通过对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻非蒙砂蚀刻面；对玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗待蒙砂蚀刻面；对预处理后的玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，将待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；使所形成的纹理面中每个凹球形的宽度处于第一数值范围；第一数值范围包括：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸，进而使防反光玻璃取得同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。本申请实施例提供显示器件的面板，该面板包括每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的防反光玻璃，使该面板同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。本申请实施例提供护眼屏，该护眼屏包括每个凹球形的宽度满足：0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个凹球形的宽度≤0.7×显示屏像素密度对应的像素尺寸的防反光玻璃，使该护眼屏同时实现防反光效果好、无闪点、清晰度高的技术效果。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请一实施例提供的一种防反光玻璃的制备方法的步骤流程图；图2是本申请一实施例提供的一种防反光玻璃的纹理面的示意图。具体实施方式以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了技术的具体细节，以便透彻理解本申请实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本申请。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本申请的描述。应当理解，当在本申请说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。在本申请说明书中描述的参考“本申请实施例”或“一些实施例”等意味着在本申请的一个或多个实施例中包括结合该实施例描述的特定特征、结构或特点。由此，在本说明书中的不同之处出现的语句“其中一个实施例”、“本申请一实施例”、“本申请其它实施例”等不是必然都参考相同的实施例，而是意味着“一个或多个但不是所有的实施例”，除非是以其他方式另外特别强调。术语“包括”、“包含”、“具有”及它们的变形都意味着“包括但不限于”，除非是以其他方式另外特别强调。另外，在本申请说明书和所附权利要求书的描述中，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防反光玻璃，其特征在于，所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：/n0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。/n

【技术特征摘要】
1.一种防反光玻璃，其特征在于，所述防反光玻璃包括若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。


2.一种防反光玻璃的制备方法，其特征在于，包括：
对玻璃基板的非蒙砂蚀刻面进行覆膜处理，避免蚀刻所述非蒙砂蚀刻面；
对所述玻璃基板的待蒙砂蚀刻面进行预处理，清洗所述待蒙砂蚀刻面；
对预处理后的所述玻璃基板的所述待蒙砂蚀刻面进行蒙砂处理，将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面；
其中，每个所述凹球形的宽度处于第一数值范围；所述第一数值范围包括：
0.3×显示屏像素密度对应的像素尺寸≤每个所述凹球形的宽度≤0.7×所述显示屏像素密度对应的像素尺寸。


3.根据权利要求2所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述将所述待蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面的方法包括如下步骤：
将预处理后的所述玻璃基板浸泡在预先配制的蒙砂蚀刻液中，浸泡100s至110s，将所述蒙砂蚀刻面形成具有若干截面为凹球形的凹球体微结构分布的纹理面，后对所述纹理面采用超声清洗以除去残留在所述玻璃基板上的所述蒙砂蚀刻液。


4.根据权利要求3所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述蒙砂蚀刻液包括如下重量份的组分：
氟化氢铵11至13份、氟化钙3至5份、硫酸钾6至8份、氢氧化钠5至7份、水7至9份、氟化钠4至6份。


5.根据权利要求4所述的防反光玻璃的制备方法，其特征在于，所述将预处理后的所述玻璃基板浸泡...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢普飞，
申请(专利权)人：广东小天才科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44