显示面板制备工艺及显示面板制造技术

本申请总体来说涉及电子面板技术领域，具体而言，涉及一种显示面板制备工艺及显示面板，沉积层间介质层并形成电极孔后，在栅极线上方增加过孔，即连接过孔，栅极线对应连接过孔的位置形成连接层，连接层采用金属材质，当连接过孔处的栅极线断裂不良后，由于连接层覆盖在栅极线上，连接层起到对栅极线的修复作用，保证栅极线的通路状态，提高栅极线的稳定性，且栅极线与连接层连接后，栅极线的导电能力进一步增强，有利于减缓压降。

【技术实现步骤摘要】
显示面板制备工艺及显示面板
本申请总体来说涉及电子面板
，具体而言，涉及一种显示面板制备工艺及显示面板。
技术介绍
TFT显示器具有短沟道的特点，所以开态电流得以有效提升，显示产品多采用顶栅型薄膜晶体管，当前，显示产品逐渐向大尺寸和高像素方向发展，需要越来越密的金属布线密度，由于金属布线越来越密，所以发生各种断线不良的概率越来越高，维修成功率低，因此产品报废率高。
技术实现思路
在
技术实现思路
部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本申请内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。为了解决现有显示面板的金属布线断线率高的技术问题，本申请的主要目的在于降低栅极线的断线风险，提高产品的良品率，提供一种显示面板制备工艺及显示面板。为实现上述专利技术目的，本申请采用如下技术方案：本申请方案一方面提供一种显示面板制备工艺，包括：在衬底基板形成栅极线及位于所述栅极线上层间介质层；在所述层间介质层对应所述栅极线形成有连接过孔；在所述连接过孔内的栅极线上形成连接层，以用于修复所述连接过孔处断裂的栅极线。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述显示面板制备工艺还包括：开设电极孔；在所述层间介质层表面形成图案化的金属层；将所述连接过孔位置的第一金属层与所述电极孔位置的第二金属层孤立，所述第一金属层位于所述栅极线上的部分形成所述连接层。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述在衬底基板形成栅极线之后，包括：在所述栅极线待与数据线的多个交叠位置形成镂空结构。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述在所述层间介质层对应所述栅极线形成有连接过孔，包括：所述栅极线位于两个所述交叠位置之间形成有所述连接过孔。本申请方案另一方面提供一种显示面板，包括：设置于衬底基板的栅极线；层间介质层，位于所述栅极线的上方，所述层间介质层对应所述栅极线设置有连接过孔；连接层，设置于所述连接过孔内的栅极线上，以用于修复所述连接过孔处断裂的栅极线。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述层间介质层设置有电极孔及位于所述层间介质层表面的第一金属层和第二金属层；所述第一金属层形成于所述连接过孔位置，所述第二金属层形成于所述电极孔位置，所述第一金属层和所述第二金属层孤立设置，且所述第一金属层位于所述栅极线上的部分形成所述连接层。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述显示面板包括数据线，所述栅极线在与所述数据线交叠位置设置有镂空结构。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述栅极线与所述数据线具有多个交叠位置，所述层间介质层在相邻两个所述交叠位置之间至少形成有一个所述连接过孔。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述镂空结构呈沿所述栅极线长度方向延伸的条状，且所述镂空结构在所述栅极线的宽度方向居中设置。进一步的，在本方案的一些实施例中，上述连接过孔的下端面轮廓位于所述栅极线轮廓内，所述连接过孔对应所述栅极线的中间部位。由上述技术方案可知，本申请的显示面板制备工艺及显示面板的优点和积极效果在于：降低栅极线的断线风险，提升显示面板的良率与显示效果，减缓显示面板的压降。本申请方案一方面提供一种显示面板制备工艺，在原有显示面板制备工艺的基础上，加工层间介质层并形成电极孔后，在栅极线上方增加过孔，即连接过孔，栅极线对应连接过孔的位置形成连接层，连接层采用金属材质，当连接过孔处的栅极线断裂不良后，由于连接层覆盖在栅极线上，连接层起到对栅极线的修复作用，保证栅极线的通路状态，提高栅极线的稳定性，且栅极线与连接层连接后，栅极线的导电能力进一步增强，有利于减缓压降。本申请方案另一方面提供一种显示面，显示面板包括衬底基板、栅极线、层间介质层及连接层，栅极线设置于衬底基板，层间介质层位于所述栅极线的上方，所述层间介质层对应所述栅极线设置有连接过孔，栅极线对应连接过孔的位置形成连接层，连接层采用金属材质，连接层可以沉积形成，连接层起到对栅极线的修复作用，保证栅极线的通路状态，降低栅极线断线引起的产品不良率。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板制备工艺示意图。图2是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的示意图。图3是根据一示例性实施方式示出的一种显示面板的栅极线的示意图。其中，附图标记说明如下：100-衬底基板；200-遮光层；300-缓冲层；400-有源层；500-栅绝缘层；600-栅极层；700-层间介质层；800-金属层；900-数据线；1000-栅极线；1100-保护层；1200-无机绝缘层；410-沟道层；420-接触层；710-连接过孔；720-电极孔；810-第一金属层；820-第二金属层；821-漏极；822-源极；1010-镂空结构。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围，因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。现有显示面板逐渐向大尺寸和高像素方向发展，需要越来越密的金属布线密度，由于金属布线越来越密，所以发生各种断线不良的概率越来越高，维修成功率低，因此产品报废率高，为了解决现有显示面板的金属布线断线率高的技术问题，本申请的主要目的在于降低栅极线的断线风险，提供一种显示面板制备工艺及显示面板，显示面板的制备工艺在原有制备工艺的基础上，加工层间介质层700并形成电极孔720后，在栅极线1000上方增加过孔，本申请方案定义为连接过孔710，栅极线1000对应连接过孔710的位置形成连接层，连接层采用金属材质，连接层可以采用沉积的方式形成，当连接过孔710处的栅极线1000断裂不良后，由于连接层覆盖在栅极线1000上，连接层起到对栅极线1000的修复作用，即使栅极线1000断裂，连接层可代替断裂处的栅极线1000进行电流传输，保证栅极线100本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板制备工艺，其特征在于，包括：/n在衬底基板(100)形成栅极线(1000)及位于所述栅极线(1000)上层间介质层(700)；/n在所述层间介质层(700)对应所述栅极线(1000)形成有连接过孔(710)；/n在所述连接过孔(710)内的栅极线(1000)上形成连接层，以用于修复所述连接过孔(710)处断裂的栅极线(1000)。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板制备工艺，其特征在于，包括：
在衬底基板(100)形成栅极线(1000)及位于所述栅极线(1000)上层间介质层(700)；
在所述层间介质层(700)对应所述栅极线(1000)形成有连接过孔(710)；
在所述连接过孔(710)内的栅极线(1000)上形成连接层，以用于修复所述连接过孔(710)处断裂的栅极线(1000)。


2.如权利要求1所述的显示面板制备工艺，其特征在于，还包括：
开设电极孔(720)；
在所述层间介质层(700)表面形成图案化的金属层；
将所述连接过孔(710)位置的第一金属层(810)与所述电极孔(720)位置的第二金属层(820)孤立，所述第一金属层(810)位于所述栅极线(1000)上的部分形成所述连接层。


3.如权利要求1所述的显示面板制备工艺，其特征在于，在衬底基板(100)形成栅极线(1000)之后，包括：
在所述栅极线(1000)待与数据线(900)的多个交叠位置形成镂空结构(1010)。


4.如权利要求3所述的显示面板制备工艺，其特征在于，在所述层间介质层(700)对应所述栅极线(1000)形成有连接过孔(710)，包括：
所述栅极线(1000)位于两个所述交叠位置之间形成有所述连接过孔(710)。


5.一种显示面板，其特征在于，包括：
设置于衬底基板(100)的栅极线(1000)；
层间介质层(700)，位于所述栅极线(1000)的上方，所述层间介质层(700)对应所述栅极线(1000)设...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宁，许程，周斌，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34