一种限位装置及设有该限位装置的满提拉清洗系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种限位装置，用于控制倾斜设置在水槽中的放置架位置，包括使所述放置架水平设置的限位组件一和限位组件二，所述限位组件一和所述限位组件二均被设置于所述水槽内，且分别位于所述放置架的下限位置处和上限位置处。本实用新型专利技术还提出设有该限位装置的满提拉清洗系统。本实用新型专利技术提出的限位装置，能使倾斜设置的放置架在上限位置和下限位置时被水平设置，保证片篮在放置架上被放置或取出时平稳托载，同时还不影响片篮中的硅片在上升清洗过程中的倾斜设置，结构简单且易于操作，与倾斜设置的放置架配合良好，保持放置架上下限位置的精准控制。

【技术实现步骤摘要】
一种限位装置及设有该限位装置的满提拉清洗系统
本技术属于太阳能硅片清洗
，尤其是涉及一种限位装置及设有该限位装置的满提拉清洗系统。
技术介绍
在慢提拉清洗过程中，为了提高硅片的清洗效果，现设置放置片篮的放置架为可调倾斜设置结构，其通过转轴固定安装在支撑盘上，但如何保证放置架在上下限位置时处于水平设置的位置，以便于放置或取出片篮时机械手的操作，是提高硅片清洗效率、保证清洗质量的主要技术问题之一。
技术实现思路
本技术提供一种限位装置及设有该限位装置的满提拉清洗系统，解决了现有技术中使倾斜设置的放置架在上下限位置处水平放置的技术问题。为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种限位装置，用于控制倾斜设置在水槽中的放置架位置，包括使所述放置架水平设置的限位组件一和限位组件二，所述限位组件一和所述限位组件二均被设置于所述水槽内，且分别位于所述放置架的下限位置处和上限位置处。进一步的，所述限位组件一被固设于所述水槽侧壁面上，且靠近所述放置架倾斜向下一侧的方向设置。进一步的，所述限位组件一包括限位块本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种限位装置，用于控制倾斜设置在水槽中的放置架位置，其特征在于，包括使所述放置架水平设置的限位组件一和限位组件二，所述限位组件一和所述限位组件二均被设置于所述水槽内，且分别位于所述放置架的下限位置处和上限位置处。/n

【技术特征摘要】
1.一种限位装置，用于控制倾斜设置在水槽中的放置架位置，其特征在于，包括使所述放置架水平设置的限位组件一和限位组件二，所述限位组件一和所述限位组件二均被设置于所述水槽内，且分别位于所述放置架的下限位置处和上限位置处。


2.根据权利要求1所述的一种限位装置，其特征在于，所述限位组件一被固设于所述水槽侧壁面上，且靠近所述放置架倾斜向下一侧的方向设置。


3.根据权利要求1或2所述的一种限位装置，其特征在于，所述限位组件一包括限位块一和用于使所述限位块一固定在所述水槽内壁的固定块一，所述限位块一靠近所述放置架一侧的平面与所述放置架中的导向条的下端面接触。


4.根据权利要求3所述的一种限位装置，其特征在于，所述限位组件一被设置于所述水槽长度中间位置处。


5.根据权利要求1-2、4任一项所述的一种限位装置，其特征在于，所述限位组件二被设置于靠近所述放置架倾斜向上一侧的所述水槽的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王大伟，武治军，危晨，赵越，李建弘，范俊杰，
申请(专利权)人：天津市环智新能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12